- •Полупроводниковые материалы. Структура, связь атомов в кристаллической решеткою. Образование носителей заряда в собственных и примесных полупроводниках. Зонная структура полупроводников.
- •Виды генерации и рекомбинации носителей заряда в полупроводниках. Использование этих явлений при создании полупроводниковых приборов. Подвижность носителей заряда.
- •Движение носителей заряда в полупроводнике. Диффузионные и дрейфовые токи. Электропроводность в собственных и примесных полупроводниках.
- •Емкостные свойства р-п-перехода. Явления электрического пробоя в р-п-переходе.
- •Оптические свойства р-п-перехода. Использование в полупроводниковых приборах.
- •Импульсные свойства диодов. Пояснить на характеристиках и объяснить, какими физическими явлениями эти свойства обусловлены.
- •Полевые транзисторы. Мдп - транзистор. Комплиментарные моп - транзисторы. Полевой транзистор с управляющим р-п-переходом. Принцип действия, структура, характеристики, режим работы, параметры.
- •У силители электрических сигналов. Классификация. Принципы работы, характеристики, параметры, области применения, обратные связи в усилителях.
- •Многокаскадные усилители. Принципы работы, характеристики, параметры, области применения.
- •Дифференциальные усилители. Принцип работы. Назначение элементов электрической схемы. Расчет параметров по постоянному и переменному току. Особенности параметров.
- •Операционные усилители. Идеальные и реальные характеристики и параметры оу. Структурная схема. Назначение каждого блока структурной схемы.
- •Электрическая схема оу. Принцип работы. Назначение элементов электрической схемы. Особенности параметров схемы усилителя.
- •Импульсный режим работы электронных схем. Ключевой режим работы биполярного и полевого транзисторов.
- •Мультивибратор на операционном усилителе. Электрическая схема, принцип действия, назначение элементов схемы. Временный диаграммы напряжений.
- •Одновибраторы на операционном усилителе. Электрическая схема, принцип действия, назначение элементов схемы. Временный диаграммы напряжений.
- •Генераторы линейно-изменяющихся напряжений. Электрическая схема, принцип действия, назначение элементов схемы. Временные диаграммы напряжений.
- •Логические операции. Логические элементы. Законы алгебры логики. Законы оптимизации логических схем.
- •Примеры построения логических схем в различном элементном базисе. (дтл, ттл, моп, кмоп)
- •Интегральные триггеры. Принципы работы, временные диаграммы, применение r-s, j-k, т, d триггеров.
- •Регистры. Классификация. Принцип работы, электрические схемы, применение.
- •Сумматоры на логических элементах. Принцип работы, электрические схемы, применение.
Виды генерации и рекомбинации носителей заряда в полупроводниках. Использование этих явлений при создании полупроводниковых приборов. Подвижность носителей заряда.
ГЕНЕРАЦИЯ НОСИТЕЛЕЙ ЗАРЯДА в полупроводниках - появление электронов в зоне проводимости и дырок в валентной зоне. Г. н. з. происходит под действием теплового движения атомов кристаллич. решётки (тепловая генерация), а также внеш. факторов - освещения (оптич. генерация), облучения потоками частиц, сильных электрич. полей и др.
Процессы генерации и рекомбинации носителей заряда неотъемлемы друг от друга и противоположны по содержанию. Рекомбинация противодействует накоплению носителей, благодаря ей носители имеют конечное время жизни. Этот параметр во многом определяет длительность переходных процессов.
Переходы между двумя областями полупроводника с различным типом электропроводности называют электронно-дырочными или р-п-переходами.
Переходы между двумя областями с одним типом электропроводности (п- или p-типом), отличающиеся концентрацией примесей и, соответственно, значением удельной проводимости, называют электронно-электронными (п-п+ -переход) или дырочно-дырочными (р-р+ -переход), причем знак + в обозначении одного из слоев показывает, что концентрация носителей заряда одного типа в этом слое значительно выше, чем во втором, и поэтому слой имеет меньшее удельное электрическое сопротивление.
Переходы между двумя полупроводниковыми материалами, имеющими различную ширину запрещенной зоны, называют гетеропереходами. Если одна из областей, образующих переход, является металлом, то такой переход называют переходом металл — полупроводник.
Различают непосредственную рекомбинацию и рекомбинацию на примесных центрах.
Непосредственная рекомбинация — это переход электронов из зоны проводимости в валентную зону. При таком переходе выделяется энергия qфg такая же какая была затрачена на переход электрона из валентной зоны в зону проводимости. При этом возможны излучательная и безызлучательная непосредственные рекомбинации. В целом процесс непосредственной рекомбинации маловероятен. Энергия выделяется в виде фотона (излучательная рекомбинация), либо в виде фонона (безызлучательная рекомбинация).
Главную роль играет рекомбинация на примесных центрах. Реакция идет через глубокие уровни, расположенные вблизи середины запрещенной зоны, которые называются ловушками. Процесс двухэтапный. Сначала электрон переходит из зоны проводимости на уровень ловушки, а затем с уровня ловушки в валентную зону. На каждом этапе выделяется энергия, близкая к половине ширины запрещенной зоны qфg, т.е. вдвое меньшая, чем при непосредственной рекомбинации.
Рекомбинация равновесных носителей заряда. Вероятность непосредственной рекомбинации электрона с одной из дырок в единицу времени можно записать следующим образом:
где
г — коэффициент рекомбинации;
— эффективное сечение захвата;
—средняя
тепловая скорость электронов.
Рекомбинация равновесных носителей заряда
Рекомбинация на ловушках
Поверхностная рекомбинация
Подвижность носителей заряда — коэффициент пропорциональности между дрейфовой скоростью носителей и приложенным внешним электрическим полем. Определяет способность электронов и дырок в металлах и полупроводниках реагировать на внешнее воздействие.
Размерность подвижности м2/(В·с) или см2/(В·с). Фактически подвижность численно равна скорости носителей заряда при напряженности электрического поля в 1 В/м.
