9.4. Импульсные диоды
Импульсные диоды предназначены для работы в быстродействующих импульсных схемах с временем переключения 1 мкс и менее. При столь коротких рабочих импульсах приходится учитывать инерционность процессов включения и выключения диодов и принимать конструктивно-технологические меры, направленные иа снижение барьерной емкости и сокращение времени жизни неравновесных носителей заряда в области р — я-перехода.
По
способу изготовления
р — л-перехода
импульсные диоды подразделяются на
точечные, сплавные, сварные
и
диффузионные
(меза и план арные). Устройство диодов
указанных групп показано па рис. 9.10.
Конструкция
точечных импульсных диодов (рис. 9.10,
а) практически
не отличается от конструкции обычных
высокочастотных диодов. В некоторых
случаях
Рис.
9.10; Устройство
р — я-переходов
точечных
(а), сплавных
(б), сварных
(в), диффузионных
мезадиодов (г) и планарных (3) импульсных
диодов:
/
— р — п-переход;
2 — кристалл;
3 — омический
контакт.
для улучшения характеристик диода на острие контактной иглы наносят примесь (обычно индий или алюминий), образующую акцепторные центры в германии и кремнии типа п. В процессе электроформовки приконтактная область полупроводника сильно нагревается и непосредственно под острием иглы образуется небольшая по размерам р-обдасть.
В сплавных диодах (рис. 9.10, б) р — «-переход получают вплавлением в кристалл полупроводника электронной проводимости кусочка сплава, содержащего атомы акцепторной примеси. Граница между исходным монокристаллом и сильно легированным р-слоем представляет собой р — я-переход. Обычно такой метод используется при изготовлении кремниевых импульсных диодов. При создании аналогии ных германиевых диодов вместо метода сплавления используют метод импульсной сварки (рис. 9.10, в). В этом случае к кристаллу германия подводится тонкая золотая (с присадкой галлия) игла и через полученный контакт пропускается импульс тока большой амплитуды, в результате чего конец золотой иглы сваривается с германием.
Наиболее быстродействующие импульсные диоды получают методом диффузии донорных или акцепторных примесей в твердый полупроводник. Проникая на некоторую глубину полупроводника, диффундирующие атомы меняют тип проводимости этой части кристалла, вследствие чего возникает р — я-переход. После получения диффузионной структуры осуществляют химическое травление поверхности полупроводника, после которого р — я-переход сохраняется только внутри небольшой области, которая возвышается над остальной поверхностью В Виде столика (ме- за). Такой вид кристалла называют мезаструктурой (рис. 9.10, г). Емкость р — я- переходов мезадиодов ниже, а напряжение пробоя выше, чем у сплавных или сварных диодов. Время переключения мезадиодов не превышает 10 не.
Весьма перспективными являются диоды, полученные при помощи планарно- эпитаксиальной технологии (рис. 9.30, д). При их изготовлений примесь вводится в полупроводник (обычно кремний) локально — через «окна» в защитной окисной пленке БЮз. Получающиеся при этом р — я-переходы отличаются Высокой стабиль» ностью параметров и надежностью.
Рис.
9.П. Схема включения (я) и осциллограммы
входного напряжения (б) и тока (в)
импульсного диода.
8
торого
определяется амплитудой импульса,
сопротивлением нагрузки и сопротивлением
открытого диода. Если па диод, через
который протекает прямой ток, подать
обратное напряжение так, чтобы его
запереть, то диод запирается не
мгновенно (рис. 9.11,
в). В первый
момент наблюдается резкое увеличение
обратного тока 1г через диод и
лишь постепенно с течением времени он
уменьшается и достигает установившегося
значения /обр. Указанное явление
связано со спецификой работы
р — «-перехода
и представляет собой проявление так
называемого
эффекта накопления.
Сущность этого эффекта состоит в
следующем. Во время протекания
прямого тока через
р — /г-переход
осуществляется инжекция носителей.
В результате инжекции в непосредственной
близости к переходу создается
концентрация неосновных
неравновесных носителей," которая во много раз превышает концентрацию равновесных неосновных носителей. Величина обратного тока определяется концентрацией неосновных носителей в области р — я-перехода: чем больше концентрация неосновных носителей, тем больше обратный ток. Время жизни неравновесных носителей ограничено — постепенно их концентрация уменьшается как за счет рекомбинации, так и за счет ухода через р — м-переход. Поэтому через некоторое время (тв на рис. 9.11, в) неравновесные неосновные носители исчезнут; обратный ток восстановится до нормального значения /сбР.
Основной характеристикой импульсных диодов является нх переходная характеристика. Она отражает процесс восстановления обратного тока и обратного сопротивления диода при воздействии на него импульсного напряжения обратной полярности (см. рис. 9.11, в).
Основные параметры импульсных диодов:
Импульсное прямое сопротивление Rim п.пр — отношение наибольшего импульсного прямого напряжения на диоде к вызвавшему его импульсу тока.
Время восстановления обратного сопротивления т0 — время с момента смены направления тока через диод с прямого на обратное до того момента, когда обратный ток уменьшится до заданного значения.
Выпрямленный ток /вып ~~ среднее значение тока через диод с учетом частоты следования импульсов.
Максимальный импульс тока 1пмптах — наибольшее значение тока в импульсе заданной длительности, допустимое для диода без его повреждения.
Наибольшая емкость диода СД — емкость между выводами диода при заданном напряжении.
Для импульсных диодов указывают также величину постоянного прямого напряжения £/Пр при протекании постоянного тока /пр и величину обратного тока /0бР при 'заданной величине обратного напряжения U0 бр.
Предельные режимы определяются величиной Vобр шах — максимального (предельного) обратного напряжения на дноде любой формы и периодичности и величиной /пр тах — максимального (предельного) прямого постоянного нли импульсного тока прн длительной работе.
Импульсные диоды широко применяются в импульсных схемах самого различного назначения, например в логических схемах электронных цифровых вычислительных машин.
