- •Физический вакуум
- •Приборы для измерения глубины вакуума.
- •Форвакуумные насосы.
- •Конструкция и принцип действия
- •Способы получения высокого вакуума.
- •Виды эмиссии электродов.
- •Термокатоды, их назначение. Конструкция и классификация. Достоинства и недостатки каждого вида.
- •Закон степени 3/2.
- •Электронно-оптические преобразователи.
- •Передающие телевизионные трубки.
- •Лампы бегущей волны, их назначение и конструкция.
- •Устройство и принцип действия
- •Применение
- •Фотоэффект.
- •Внешний фотоэффект
- •Законы внешнего фотоэффекта
- •Фотоэлемент. Конструкция, назначение, область применения, характеристики.
- •Фотоэлектронный умножитель.
- •Отклоняющие системы. Способы отклонения электронного пучка.
- •Люминофоры.
- •Ионизированный газ и плазма.
- •Понятие метастабильный газ.
- •Газовые лазеры.
- •Тлеющий разряд. Виды и область применения.
- •Приборы тлеющего разряда (индикаторные лампы, индикаторы уровня напряжения ).
- •Индикаторные панели.
- •Плазменные панели.
- •Законы внешнего фотоэффекта.
- •Характеристики
- •Конструкция
- •Принцип работы
- •Применение вакуума в промышленности и в быту.
- •Автоэлектронная эмиссия.
- •Практическое применение
- •Электронно-лучевое напыление.
- •Технологический процесс изготовления электронных ламп.
- •Ионно-плазменное напыление. Диодная система.
- •Ионно-плазменное напыление. Трех – электродная система.
- •Вакуумно-дуговое напыление.
- •Процесс
- •Оборудование
- •Магниторазрядные манометры.
- •Магниторазрядные насосы.
- •Применение плазмы для очистки поверхностей.
- •Преобразование электронного потока в другие виды энергия.
- •Вторично-электронная эмиссия.
- •Электрон в твёрдом теле, работа выхода.
- •Генераторные лампы.
- •История вакуумной электроники.
- •Электрический разряд в газе.
- •Ионные манометры.
- •Тепловые манометры.
Практическое применение
Автоэмиссионная (полевая) микроскопия и связанные с ней области
Автоэлектронная (полевая) спектроскопия (анализ энергии электронов)
Автоэлектронные (полевые) эмиттеры как источники электронной пушки
Эмиттеры с атомарным острием
Электронно-лучевое напыление.
В производственных условиях широко используется электронно-лучевые испарители, которые позволяют получать тонкие пленки металлов, сплавов и диэлектриков. Хорошая фокусировка электронного пучка в этих испарителях позволяет получать большую концентрацию мощности (до 5·108 Вт/см2) и высокую температуру, что обеспечивает возможность испарения с большой скоростью даже самых тугоплавких материалов. Быстрое перемещение нагретой зоны в результате отклонения потока электронов, возможность регулирования и контроля мощности нагрева и скорости осаждения создают предпосылки для автоматического управления процессом. Метод позволяет получить высокую чистоту и однородность осаждаемой пленки, поскольку реализуется автотигельное испарение материала. Принцип действия электронно-лучевого испарителя таков. В электронной пушке происходит эмиссия свободных электронов с поверхности катода и формирование их в пучок под действие ускоряющих и фокусирующих электростатических и магнитных полей. Через выходное отверстие пушки пучок выводится в рабочую камеру. Для проведения электронного пучка к тиглю с испаряемым материалом и обеспечения параметров пучка, требуемых для данного технологического процесса, используют главным образом магнитные фокусирующие линзы и магнитные отклоняющие системы. Беспрепятственное прохождение электронного пучка до объекта возможно только в высоком вакууме. В камере испарителя устанавливается рабочее давление около 10-4 Па. Испаряемый материал нагревается вследствие бомбардировки его поверхности электронным пучком до температуры, при которой испарение происходит с требуемой скоростью. В образовавшемся потоке пара располагают подложку, на которой происходит конденсация. Испарительное устройство дополняют средствами измерения и контроля, которые особенно важны для управления электронного пучка в процессе напыления. Основные параметры, достижимые в электронно-лучевых испарителях: 104-105 Вт/см2; удельная скорость испарения - 2·10-3 -2·10-2г/(см2 ·с); эффективность процесса испарения (по меди) - 3·10-6 г/Дж; энергия генерируемых частиц – 0,1-0,3 эВ; скорость осаждения частиц на подложке – 10-60 нм/с. В простейшем случае электронный пучок направляют на исправляемый материал сверху отвесно или под косым углом к поверхности. При этом для обеспечения фокусировки пучка и получения требуемой удельной мощности на поверхности испаряемого материала используют длиннофокусные генераторы электронных пучков. Существенными недостатками такого расположения являются возможность образования пленок на деталях электронно-оптической системы, что приводит к изменению параметров электронного луча, и ограничение полезной площади для размещения подложки из-за затенения части технологической камеры пушкой. Указанных недостатков можно избежать, размещая пушку горизонтально и отклоняя электронный пучок на испаряемый материал с помощью различных систем, обеспечивающих поворот пуска на угол до 270°. К недостаткам метода электронно-лучевого испарения следует отнести: - необходимости наличия высокого ускоряющего напряжения (порядка 10 кВ); - низкий энергетический КПД установок ввиду затрат энергии на образование вторичных электронов (до 25 % энергии первичного пучка) нагрев тигля, рентгеновское и ультрафиолетовое излучение; - газовыделение в рабочем объеме вследствие бомбардировки вторичными электронами подложки, технологической оснастки и стенок камеры; - генерацию радиационных дефектов в наносимых тонких пленках при бомбардировке их вторичными электронами; - отсутствие заметной ионизации потока осаждаемого вещества; - плохую адгезию тонких пленок к основе вследствие низкой энергии осаждаемых частиц.
