- •Реферат
- •Розрахунок параметрів комплексної фізико-топологічної моделі (кфтм) парівпровідникового діода. Побудування енергетичної діаграми
- •Характеристики та параметри вихідного матеріалу
- •Аналіз домішок
- •1.1.3 Конструктивно-технологічна характеристика p-n переходу
- •Комплексна фізико-топологічна модель напівпровідникового діода
- •Ідентифікація первинних параметрів моделі діода
- •Розрахунок фізичних параметрів структури
- •1.3.2. Розрахунок первинних параметрів кфтм діода
- •Побудова енергетичної діаграми p-n переходу діода
- •2 Розрахунок параметрів діода в заданій робочій точці (Ua). Побудування вольт-амперної характеристики.
- •Побудування вах p-n переходу діода
- •Висновки
Розрахунок параметрів комплексної фізико-топологічної моделі (кфтм) парівпровідникового діода. Побудування енергетичної діаграми
Вихідні дані
Характеристики та параметри вихідного матеріалу
Загальна характеристика напівпровідникового діода.
Кремний — элемент главной подгруппы четвёртой группы третьего периода периодической системы химических элементов Д. И. Менделеева, с атомным номером 14. Обозначается символом Si (лат. Silicium).
Содержание кремния в земной коре составляет по разным данным 27,6—29,5 % по массе. Таким образом по распространённости в земной коре кремний занимает второе место после кислорода. Концентрация в морской воде 3 мг/л[2].
Фізичні параметри напівпровідника приведені в таблиці 1.1 . / http://uk.wikipedia.org ; Методичні вказівки до виконання РГЗ з дисципліни « Фізичні основи електричних приладів» /
Табл. 1.1 – Фізичні параметри напівпровідникаGe
Параметри |
Si |
|
Ширина забороненої зони,
|
1,12 |
|
Рухливість носіїв заряді,
|
|
0,14 |
|
0,05 |
|
Ефективна щільність станів, см-3. |
|
2,8∙ |
|
1,02∙ |
|
Діелектрична проникність ε, відн.од. |
12,5 |
|
Коефіцієнт теплопровідності
|
145 |
|
Максимальна допустима температура
|
403 |
|
Коефіцієнт температурної залежності
|
12900 |
|
Аналіз домішок
Легуюча домішка — домішковий елемент, що вводиться в матеріал у дуже малій концентрації з метою зміни електричних параметрів або оптичних властивостей матеріалу. У випадку з кристалічними матеріалами, атоми домішок часто займають місце елементів, що містилися в кристалічній ґратці матеріалу. Цими матеріалами частіше за все є або кристали напівпровідників (кремній, германій, та ін.), що використовуються в твердотільній електроніці, або ж прозорі кристали, що використовуються для виготовлення різного типу лазерів. Однак, некристалічні матеріали, як наприклад скло, також можна легувати домішками для виготовлення лазерів.
Акцепторна домішка (лат. acceptor — той, що приймає) — домішка у напівпровіднику, іонізація якої супроводжується захопленням електронів з валентної зони або з донорної домішки. Типовий приклад акцепторної домішки — атоми елементів ІІІ групи (В, Al, Ga, In) в елементарних напівпровідниках IV групи — Ge та Si. В складних напівпровідниках акцепторними домішками можуть бути атоми електровід'ємних елементів (О, S, Se, Те, С1 та ін.), що є надлишковими відносно складу, що відповідає стехіометричній формулі. Введення акцепторної домішки надає цьому напівпровіднику діркову провідність, таким чином іонізація акцепторної домішки призводить до появи дірок у валентній зоні, що описується як перехід електрона із валентної зони на рівень акцепторної домішки, що розташований в забороненій зоні.
Донорна домішка — домішка в напівпровідниковому кристалі стороннього хімічного елементу, атоми якого є акцепторами. Іонізація такої домішки призводить до переходу електрону в зону провідності або на рівень акцепторної домішки. Типовий приклад донорних домішок — домішки елементів V групи (Р, As, Sb, Bi) в елементарних напівпровідниках IV — Ge та Si. В складних напівпровідниках роль донорних домішок можуть відігравати атоми електрододатніх елементів (Сu, Zn, Cd, Hg та ін.), що є надлишковими відносно складу, що відповідає стехіометричній формулі напівпровідника. Введення донорної домішки надає цьому напівпровіднику електронну провідність, оскільки іонізація донорної домішки призводить до появи електронів у зоні провідності, що описується як перехід електрона в зону провідності з донорного рівня, що розташований в забороненій зоні.
У якості акцепторної домішки дано – Sb, а у якості донорної – Ga.
Сурьма (Stibium)-елемент головної підгрупи п'ятої групи п'ятого періоду періодичної системи хімічних елементів Д. И. Менделєєва, атомний номер 51.Сурма все більше застосовується в напівпровідниковій промисловості при виробництві діодів, інфрачервоних детекторів пристроїв з ефектом Холу. Є компонентом свинцевих сплавів, що збільшує їх твердість і механічну міцність.Звичайна сурма - сріблясто-білий з сильним блиском метал. На відміну від більшості інших металів, при застиганні розширюється. / http://uk.wikipedia.org
Галій, Ґалій, (Ga) – хімічний елемент з атомним номером 31, проста речовина якого однойменний сріблясто-білий м'який метал. Галій належить до групи 13 пері одичної таблиці або до III групи за старою класифікацією.Металевий галій стійкий до дії повітря, води. З кислотами та лугами утворює галати. Густина твердого галію 59,04; рідкого - 60,95. Температура плавлення 29,75 ОС, кипіння 2403 ОС. Геохімічно близький до Al, Zn, Fe. Вміст у земній корі 1,5×10-3 мас.%. Єдиний мінерал галію – ґаліт. Основна маса галію зосереджена в мінералах алюмінію і накопичується в нефелінових сієнітах (середній вміст 0,004%), лужних метасомах (до 0,02%)бокситах (0,0052%) сфалеритах (до 0,018%). У вивержених породах Ga тісно пов’язаний з Al. У гідротермальних родовищах галій накопичується як ізоморфна домішка (до 0,01-0,02%) у сфалеритах, а в зоні гіпергенезу – разом з Al в бокситах (2·10-3-1·10-2%).
Основні параметри домішок в напівпровідникових матеріалах наведені в таблиці 1.2.
Табл. 1.2 – Параметри домішок в напівпровідникових матеріалах
Параметр |
Сурьма Sb |
Галій Ga |
||
Позн. |
Величина |
Позн. |
Величина |
|
Тип домішки |
А |
акцепторна |
Д |
донорна |
Енергія іонізації, еВ |
ΔЕа |
0,039 |
ΔЕа |
0,055 |
Концентрація у н/п, cм-3 |
Na |
4*1023 |
Nд |
4*1020 |
Час життя носіїв заряду, с |
τn |
3*10-3 |
τp |
8*10-3 |

,
еВ
,
Вт/(м∙К)
,
К
,
К