- •Розділ 1. Класифікація структурних дефектів
- •§ 1.1. Ідеальні та реальні кристали.
- •§1.2. Класифікація структурних дефектів
- •§ 1.3. Точкові дефекти в стехіометричних кристалах.
- •1.4. Вплив точкових дефектів на електронні процеси
- •§1.5.Точкові дефекти в нестехіометричних кристалах
- •§ 1.7. Термодинаміка точкових дефектів. Термофлуктуаційні дефекти
- •§1.6. Точкові дефекти в домішкових системах.
- •1.6.1. Гетеротипні тверді розчини.
- •1.6.2. З”єднання з контрольованою валентністю.
- •§2.1. Основні співвідношення.
- •§2.2. Розупорядкування в однокомпонентних системах.
- •§2.3. Розупорядкування в двохкомпонентній системі.
- •§2.4. Дефекти за Шоткі в однокомпонентній системі.
- •§2.5. Знаходження енергії розупорядкування.
- •§ 2.6. Конфігурації утворення дефектів за Френкелем у гцк -гратці
- •§2.7. Конфігурації і комплекси із точкових дефектів.
- •2.8. Спотворення кристалічної гратки навколо точкових
- •§2.9. Об’єднання атомів домішки і дефектів.
- •§2.10. Переміщення точкових дефектів
- •2.10.1. Енергія активації переміщення.
- •2.10.2. Ентропія активації переміщення - Sm
- •Розділ 3. Утворення нерівноважних концентрацій точкових дефектів
- •§3.1. Утворення дефектів при загартуванні.
- •§3.2. Утворення дефектів при пластичній деформації.
- •3.3. Радіаційні дефекти
- •3.4. Дефектоутворення в напівпровідниках при імпульсному лазерному опромінюванні
- •§3.5. Фізичні основи методу іонної імплантації.
§2.5. Знаходження енергії розупорядкування.
2.5.1. Іонні кристали. Розглянемо спочатку випадок іонних кристалів. Для іонних кристалів енергія зв’язку підраховується достатньо просто:
,
(2.25)
де
- постійна Маделунга, для кристалів із
структурою типу NaCl
=1.746,
а
- постійна гратки; 1/р
-
враховує енергію відштовхування для
галогенідів лужних металів р9.
Для іонних кристалів врахування
додаткових змін внутрішньої енергії
суттєве. По-скільки іони у вузлах гратки
жорстко не закріплені, то при утворенні
вакансії в її околі вони повинні
зміщуватись так, що повинна мати місце
поляризація зміщення, а також деформація
електронних оболонок самих іонів -
поляризація іонів.
Для
зручності кристал апроксимується
континуальним діелектриком і діелектричною
проникливістю ,
а вакансія уподобляється наявністю в
цьому діелектричному континуумі
сферичної порожнини радіуса .
Поскільки, як уже підкреслювалось
раніше, вакансія в іонних кристалах
несе ефективний заряд, рівний оберненому
заряду віддаленого іона. Тому в центр
порожнини необхідно
помістити заряд е.
Наявність якого виключить поляризацію
діелектрика. Тоді електричне зміщення
і напруженість поля
рівні:
,
а поляризація
Потенціал в центрі сферичної порожнини, обумовлений цією поляризацією матиме вид
Отже, робота, яка необхідна для віддалення іона на безмежність рівна
.
(2.26)
Множник 1/2 - тут тому, що по мірі віддалення іона поляризація поступово наростає від 0 до свого максимального значення. Недоліки даної моделі очевидні. Вони появляються при заміні діелектричного середовища континуумом і неможливістю точно визначити параметр . Можна вважати, що а. Проведемо деякі оцінки. Якщо 5 , а а, то
.
(2.27)
Оцінки
дещо покращуються, якщо
- рівне радіусу іона для відповідної
вакансії. Енергія зв’язку
U0
для іонних кристалів складає
6- 8еВ. Тому
4-5еВ.
Найбільш точні останні комп’ютерні
розрахунки показали, що дана найпростіша
модель дає найбільш правильні значення
для =0.9а
для аніонної вакансії і =0.6а
-
для катіонної.
Наприклад: для NaCl енергія утворення катіонної вакансії 4,62еВ, а аніонної- 5,18еВ; для KCl – 4,47eB i 4,79eB; для KBr – 4,23eB i 4,60eB, відповідно.
2.5.2. Металічні кристали. Енергія утворення вакансії рівна енергії, яка потрібна, щоб віддалити атом із середини кристала на безмежність, а потім знову повернути його на поверхню. Досить приблизно цю енергію можна підрахувати, якщо базуватись тільки на енергії парних взаємодій. Якщо врахувати взаємодію тільки найближчих сусідів, то для віддалення атома на необхідно розірвати і зв’язків, а значить затратити енергію
де
- енергія, що припадає на один зв’язок.
При поверненні атома на поверхню
реставрується і/m
зв’язків.
Таким чином, при утворенні дефекту за
Шоткі тратиться робота:
.
Енергія
- це по суті енергія сублімації. Поскільки
m=2,
то для віддалення атома на безмежність
тратиться подвоєна енергія сублімації
(3.6еВ).
Цей результат є дещо завищеним, оскільки
не враховуються релаксації за рахунок
електронів і атомів навколо вакансії.
Тому, як і для іонних кристалів
,
(2.28)
де w - енергія релаксації. Розглянемо із чого складається величина w (див. також параграф 2.8). Вона визначається зміною енергії взаємодії електронів з додатнім іоном при віддаленні останнього; власної енергії розподіленого заряду електронів; енергії відштовхування, яка викликана віддаленням іона і перерозподілом атомів навколо дефектів.
Базуючись
на цих припущеннях Хантингтон і Зейц
виконали розрахунки для міді [9].
Зауважимо, що цей метод розрахунку
досить проблематично використати для
інших металів. Тому існує досить спрощений
метод, що грунтується на наступних
припущеннях. Оскільки в процесі формування
вакансії обриваються зв’язки,
то електронний газ, який володіє високою
рухливістю буде прагнути наситити ці
зв’язки,
зменшуючи тим самим енергію системи.
Кількісно цей ефект еквівалентний тому
випадку, коли б навколо вакансії
формувалась вільна поверхня з деякою
поверхневою енергією
.
Таким чином, всі зміни стану електронного
газу зводяться до врахування деякої
поверхневої енергії
.
Зміна енергії відштовхування і іонного
остову може бути врахована в рамках
моделі пружного континууму. Допустимо,
що радіус іона r,
якщо його забрати, то утворюється
сферична порожнина, яка має деяку
поверхневу енергію
.
Після забирання іону відбувається пружна релаксація гратки, яка змінює r на величину r, де - пружна деформація. Із теорії пружності відомо, що якщо сферична порожнина змінює свій радіус на величину r, то це пов’язано з пружною енергією
,
де G - модуль зсуву.
Отже, при стиску гратки за рахунок пружної релаксації відбувається зміна r і змінюється поверхнева енергія на величину:
.
(2.29)
В результаті повна енергія
.
Якщо
знайдемо розв’язок рівняння
,
то визначимо стан, який відповідає
мінімуму енергії системи, тобто
.
Звідси
і
(2.30)
Отже, для вирахування енергії утворення дефекту необхідно знати величину поверхневої енергії. Величина поверхневої енергії для металів відома. Проте вона відноситься для плоскої поверхні, в той же час як поверхня, після того як забраний атом, володіє значною кривизною. Із фізичних міркувань поверхнева енергія повинна бути пропорційна числу обірваних зв’язків , що припадають на одиницю поверхні. Тому можна записати
Якщо
і
-
парне координаційне число, то число
ненасичених зв’язків,
що припадають на один атом на поверхні,
рівне і/m,
а на поверхні вакансії –і,
отримаємо:
,
(2.31)
де
S
- площа, яка припадає на один атом
поверхні, а
- поверхня багатогранника, що складається
із атомів першої координаційної сфери.
Для ГЦК- металів нескладно отримати
наступні оцінки -
,
,
m=4.
Значить -
.
На прикладі міді отримаємо -
.
Оскільки
,
,
тоді
,
.
Повна енергія зв’язку
[9].
Отже, базуючись на вище приведених
даних отримаємо
Більш
строгі розрахунки провели Хантінгтон
і Зейтц, їх значення енергії утворення
вакансії в міді
[9].
Контрольні питання
1. Записати вираз для розрахунку концентрації точкових дефектів за Шоткі в іонних кристалах.
2. Яку модель утворення вакансій використовують для розрахунку енергії утворення і їх концентрацій?
3. Які недоліки містить модель представлення вакансії у вигляді сферичної порожнини в діелектричному континуумі?
4. Від яких фізичних параметрів залежить енергія утворення вакансії в металічних кристалах?
5. Дати пояснення терміну «енергія релаксації» та її фізичний зміст.
6. Яка величина енергії утворення вакансії в ГЦК іонних кристалах?
7. Яка величина енергії утворення вакансії в міді?
