- •Физика полупроводников
- •Полупроводниковые диоды
- •Биполярные транзисторы
- •Полевые структуры
- •Основные соотношения для решения задач
- •Физика полупроводников
- •Полупроводниковые диоды
- •Биполярные транзисторы
- •Расчет диффузионных процессов. Окисление
- •Частые материалы. Получение структур методом сплавления
- •Свойства интеграла ошибок
- •Числовые значения функции дополнения интеграла ошибок
- •Полевые структуры
- •Важнейшие электрофизические характеристики полупроводниковых материалов Электрофизические характеристики арсенида галлия GaAs и
- •Электрофизические характеристики некоторых материалов
- •Физические постоянные
- •Коэффициенты преобразования
- •Некоторые характеристики электродных материалов
- •Физические характеристики пленок нитрида кремния
Полупроводниковые диоды
Полупроводниковый
диод- простейший полупроводниковый
прибор с одним переходом и двумя выводами.
Объясните, какими процессами вызывается протекание прямого и обратного токов в структуре.
В чем разница между барьерной и диффузионной емкостями перехода? Почему одна из них определяется через протекающий ток, а другая - через приложенное напряжение?
Имеются два р-п перехода, один из которых изготовлен на слабо-, а другой - на сильнолегированном полупроводнике. В каком из них ток насыщения будет больше? (Диффузионная длина и время жизни носителей зарядов в переходах одинаковы).
Образец кремния р-типа с удельным сопротивлением 0,58 Ом*см освещается вспышкой света. В результате образуется дополнительно 2*1016 дырок/см3 и столько же электронов. Температура Т=300К. Определите концентрацию дырок и электронов в исходном образце и максимальное изменение удельного сопротивления, вызванное вспышкой света.
Удельное сопротивление кубического кристалла кремния со стороной 1,0 мм равно 0,5 Ом*см. Найдите токи дырок и электронов, если образец помещен в схему с падением напряжения на кристалле, равным 2В.
Из кремния изготовлен прибор с резким p-n- переходом. Удельные проводимости слоев равны 1 мкСм/см(р-типа) и 10 мкСм/см(n-типа). Найдите высоту потенциального барьера при Т=300К.
Размеры бруска кремния 100х10х10 мкм. Концентрация примеси в нем линейно меняется вдоль бруска от 1020 см-3 на левом конце до 1014 см-3 на правом конце. Существует ли электрическое поле в бруске? Если да, то какова его напряженность? Будет ли протекать ток, если торцы бруска закоротить проводом? Если да, то найдите силу тока.
Полупроводниковый диод содержит ступенчатый переход с концентрациями примесей NД =1019 см2 . Найдите: а) ширину обедненного слоя; б) удельную барьерную емкость; в) напряжение лавинного пробоя.
Найдите величину тока, протекающего через кремниевый переход площадью 10-6 м2 при Т=300К, если к нему приложено напряжение обратного смещения 2В. Удельное сопротивление участков n- и р-типов равно 1 Ом*см, Ln =0,1 см Lp= 0,04см.
Диод с резким p-n переходом имеет NД=1019 см-3, NA=4*1016 см-3, время жизни дырок τр=10-6 с, время жизни электронов τn=10-7 с , площадь перехода 10-3 см2. Найдите: а) обратный ток насыщения; б) полый ток диода in при прямом смещении 0,7 В.
Известно, что при обратном смешении UОБР, намного превышающем высоту потенциального барьера, емкость резкого перехода изменяется пропорционально UОБР -1/2. Емкость перехода с линейным распределением примеси пропорциональна UОБР -1/3. В телевизионных схемах настройки бывает нужна емкость, изменяющаяся пропорционально UОБР -1. Рассмотрите качественно общий вид необходимого для этого примесного профиля и укажите для каждого из трех случаев характер зависимости ширины обедненного слоя от напряжения.
Считая, что в обратносмещенных кремниевой и германиевой диодных структурах максимальная напряженность поля одинакова, покажите, для какой из них более вероятен туннельный пробой.
Измерена емкость перехода площадью 10-5 см2, график зависимости 1/С2 от напряжения показав на рис. 2.1. Считая переход односторонним, найдите примесную концентрацию в базе.
Рис.2.1
В сплавном германиевом переходе Nд=103 NА, причем на каждые 108 атомов германия приходится один атом акцепторной примеси. Определите высоту потенциального барьера при Т=300 К (концентрация атомов германия Ni ≈ 4,4·1022 см-3, а концентрация собственных носителей ni ≈ 2,5·1022 см-3).
Решение:
Определим концентрацию акцепторных атомов: NА= Ni/108 =4.4*1014 см-3. Тогда NД=4,4*1017см-3, а контактная разность потенциалов Δφ0=φтln(NАNД)/ni2 ≈0,33В.
Резкий кремниевый переход имеет примесные концентрации NA = 1015 см-3 и NД = 2*1017 см-3. Найдите высоту потенциального барьера при комнатной температуре, ширину слоя объемного заряда и максимальное значение напряженности электрического поля для напряжений на переходе U=0, U=-10B.
Удельное сопротивление р-области германиевого диода равно ρр = 2 Ом*см, а удельное сопротивление n-области ρn = 1 Ом-см. Вычислите контактную разность потенциалов при Т =300 К.
Решение:
Удельное сопротивление р-области полупроводника найдем, как ρр=σ-1 ≈( NAqμp)-1, где –концентрация акцепторов, q-элементарный заряд, μp-подвижность дырок. Отсюда имеем:
NA=(ρрqμp)-1≈1,65*1015 см-3.
Аналогично находим концентрацию доноров в n-области:
NД=(ρnqμn)-1≈1,6*1015 см-3.
Тогда контактная разность потенциалов равна Δφ0=φт ln (NA NД)/ /ni2≈0,22В.
Диод имеет обратный ток насыщения I0=10 мкА. К диоду приложено напряжение 0,5В. Найдите отношение прямого тока к обратному при Т=300 К.
Как может сказаться эффект генерации и рекомбинации свободных носителей в переходе на виде обратной ветви его вольт-амперной характеристики?
Рассчитайте максимальное значение напряженности электрического поля в резком переходе при NБ =1019 см-3 и напряжении -10 В. Найдите ширину перехода для этого случая.
Должен ли ток насыщения перехода зависеть от температуры? Чем определяется величина этого тока? Почему обратные токи кремниевых диодов обычно меньше обратных токов германиевых диодов?
В чем заключаются эффекты установления прямого сопротивления диода и восстановления обратного сопротивления диода? Какие физические процессы лежат в основе этих эффектов?
Диод имеет обратный ток насыщения I0=10 мкА. Напряжение, приложенное к диоду, равно 0,5 В. Пользуясь упрощенным уравнением вольт-амперной характеристики, найдите отношение прямого тока к обратному при Т=300 К.
В идеальном p-n переходе прямое напряжение 0,1 В вызывает ток Iпр при Т=300 К. какое прямое напряжение надо приложить к переходу, чтобы ток увеличился вдвое?
Обратный ток насыщения некоторого диода равен I0=2 мкА. Диод последовательно соединен с резистором и источником постоянного напряжения U=0,2 В так, что на диод подается прямое смещение. Определите сопротивление резистора, если падение напряжения на нем равно 0,1 В. Диод работает при Т=300К.
Диод с толстой базой, имеющий резкий p-n переход и характеризуемый Lp =20 мкм, легирован в р-области с концентрацией NА =1019 см-3 и в n-области с концентрацией NД =1016 см-3. Изобразите заряд Qp в зависимости от приложенного напряжения U для -3<U< 0,6 В. На этом же рисунке изобразите QV, добавляемый к n-области при изменении накопления заряда в обедненной области при подаче смещения на переход.
Слаболегированный образец кремния n-типа имеет удельное сопротивление 4 Ом*см. В нем делается p-n переход с примесной концентрацией NА , а 1000 раз превышающей концентрацию примеси n-типа. Рассчитать высоту потенциального барьера.
В пластине кремния p-типа с NА =1016 см-3 сформирован p-n переход путем введения донорной примеси с концентрацией NД =103 NА. Определите ширину обедненного слоя l0 и поясните, как изменятся l0 и емкость перехода при изменении NД.
Имеется плавный переход, находящийся в условии термодинамического равновесия. Распределение концентрации примесей, такое как показано на рис. 2.2.
Рис. 2.2
Кремниевый переход имеет р-область, легированную бором с NА =1021 см-3 , и n-область, легированную фосфором с концентрацией NД =1020 см-3. Найдите при Т= 300 К: а) высоту потенциального барьера; б) ширину областей пространственного заряда в каждом из слоев, если приложенное напряжение U = - 10 В; в) барьерную ёмкость при этом напряжении, если площадь, перехода S =10-4 см-2; г) напряжение лавинного пробоя (считать, что данное явление наступает при напряженности электрического поля 1,5*107 В/см).
Имеется кремниевый диод с резким р-п переходом. Сначала напряжение смещения на нем отсутствует. Затем к диоду прикладывают такое обратное смещение, что ток становится равным 1 мА. Концентрация легирующих примесей по обе стороны перехода NА = NД =1021 см-3 , площадь перехода S =10-2 см-2 ,температура Т= 300 К. Определите время, за которое напряжение смещения возрастет до -10 В (сопротивлением базы можно пренебречь).
Решение:
Определим сначала высоту потенциального барьера: Δφ0=φт ln (NA NД)/ /ni2≈0,577 В.
При падении напряжения на переходе Uпер=0,577-(-10)=10,577 В.
Ширина области пространственного заряда при U=0 равна w0=1,23*10-4 см, ширина этой области при равна w=5,29*10-4 см.
При заряд Q=Qn – Qp =SqNA w/2=4,23-10-10 Кл, при имеем Q0=9,73*10-14 Кл.
Обратный
ток Iобр=dQ1
/dt,
Q1=Q-Q0
=
=It,
t=(Q-Q0)Iобр≈320нс.
Кремниевый диод p+-n типа при Т=300 К имеет следующие параметры: wp=100 мкм, Dn=20 см2/с, τn=0,2 мкм, S=10-3 см2. Найдите: а) избыточную концентрацию электронов в р-области как функцию расстояния от плоскости перехода, считая, что ток I=1,2 мА; б) величину дифференциального сопротивления и диффузионной емкости при указанном токе
Области р и n кремниевого диода с резким переходом имеют удельное сопротивление 0,013 и 44,5 Ом*см соответственно. Определите высоту потенциального барьера в равновесном состоянии и изобразите зонную диаграмму. Нарисуйте зонные диаграммы, соответствующие прямому и обратному смещению.
Имеются два диода, один из которых выполнен из германия, другой - из кремния. Вычислите: а) высоту потенциального барьера в обоих случаях в равновесном состоянии, считая, что концентрации легирующих примесей NА =1017 см-3 и NД =1014 см-3 в них одинаковы; б) максимальную напряженность электрического поля и толщину области пространственного заряда в каждом диоде; в) высоту потенциального барьера и протяженность областей объёмного заряда в слоях р- и п- для каждого диода, полагая, что обратное смещение -10 В. Нарисуйте графики распределения пространственного заряда и напряженности электрического поля.
В кремниевом переходе NА =1024 м-3 и NД =1022 м-3. Вычислите при т=300К: а) высоту потенциального барьера; б) максимальное значение внешнего напряжения, при котором еще сохраняется низкий уровень инжекции.
Возможна ли ситуация, при которой высота потенциального барьера в p-n переходе превышает ширину запрещенной зоны материала базы.
Можно ли ожидать, что в диоде c p-n переходом на арсениде галлия с однородно легированными п- и р-областями и находящемся под напряжением U > О доминирует инжекция электронов (можно полагать, что τn= τp и μn>> μp)?
Нарисуйте зонную диаграмму для случая равномерно освещенного диода, к которому не приложено напряжение смещения.
Диоды, смещенные в обратном направлении, часто используют в качестве конденсаторов переменной емкости. Как уменьшится барьерная емкость диода с резким переходом при увеличении модуля напряжения смещения на 1 В, если известно, что при I=5 B СБ = 20пФ.
Лавинный пробой кремниевого перехода происходит в случае, если напряженность электрического поля в нем достигает 250 кВ/см. Вычислите напряжение пробоя при следующих исходных данных: NА =1019 см-3, NД =1014 см-3, wp=10 мкм, wn=90 мкм.
Найдите значения дифференциального сопротивления диода при токах 0,01; 0,05; 0,10; 1,0; 2,0; 5,0 и 10,0 мА, если Т = 300 К и I0= 1 мкА. Основываясь на полученных результатах, сделайте вывод о возможности использования диода как элемента с управляемой проводимостью.
Имеется кремниевый диод с параметрами: NА =2,25*1017 см-3, NД =2,25*1014 см-3, S=2*10-3 см2 , wn=5*10-3 см, τp = 50 мкс. К диоду приложено напряжение прямого смещения U=0,5 В. Вычислите: а) сопротивление постоянному току; б) дифференциальное сопротивление; в) диффузионную емкость, если Dp=13см2/с и G1=I/0,026 мСм.
Имеется некоторый диод с известными значениями wn и wp, а также Lp и Ln. Как изменится диффузионная емкость, если уменьшится w=wn + wp? Можно ли повлиять на величину этой емкости, изменяя время жизни носителей заряда?
Вычислите емкость конденсатора, образованного кремниевым p-n переходом, если концентрация акцепторов, равная 1019 см-3 , значительно меньше концентрации доноров. Площадь обкладок 120 мм2, к конденсатору приложено обратное напряжение 1,5 В.
Поясните основные приближения, используемые при выводе уравнений полупроводникового диода, работающего в режиме низкого уровня инжекции.
Зависит ли сопротивление базы диода от уровня инжекции? Если зависит, укажите причины.
Назовите основные характеристики светоизлучающих диодов. В чем отличие светодиодов от полупроводниковых лазеров?
