- •Физико-химические основы технологии электронных средств Введение
- •Вжигание композитной стеклоэмали с нормированными электрофизическими свойствами
- •Химические и электрохимические технологические процессы.
- •Катализ
- •Основы термодинамики химических систем
- •Смещение химического равновесия. Влияние температуры, давления и концентрации на химическое равновесие.
- •Электрохимический ряд напряжений для металлов.
- •Химическая металлизация (продолжение).
- •Сенсибилизация.
- •0,5Г/л PdCl2 и3 мл/лHCl (конц.)
- •Электролиз
- •Электрохимическая металлизация.
- •Технология конверсионных покрытий.
- •Оксидирование.
- •Хроматирование.
- •Фосфатирование.
- •Химическое и электрохимическое травление металлов.
- •Локальное травление.
- •Селективное травление.
- •Растворы для химического и электрохимического травления.
- •Покровные и печатные технологические процессы
- •Физико-Химические процессы происходящие при нанесении полимерных покрытий.
- •Защита органическими покрытиями от влаги.
- •Лакировка, промывка, заливка
- •Приклеивание
- •Пропитка
- •Заливка
- •Обволакивание
Электрохимическая металлизация.
Она основана на окислительно-восстановительных реакциях, протекающих при подведении внешней электрической энергии к электродам электролитической ванны. Особенностью таких технологических процессов является пространственное разделение физико-химических процессов восстановления (на катоде) и окисления (на аноде). Они протекают в двойном электрическом слое у электродов.
Двойной электрический слой образуется на электроде, еще не подключенном к внешнему источнику, при погружении в раствор, как следствие нескомпенсированности связей поверхностных атомов. На границе двух фаз твердое тело – жидкость возникает межфазная разность потенциалов. В результате образуется упорядоченное движение зарядов противоположенного знака. Электронейтральность системы не нарушается, но каждая из фаз получает заряд. Возникает динамическое равновесие зарядов на границе металл – раствор, то есть двойной электрический слой. Поэтому внешний источник тока, подключенный к электродам, опущенным в раствор электролита, вызывает нарушение равновесия, начинаются окислительные и восстановительные процессы у соответствующих электродов, стремящиеся вернуть систему к равновесию.
Растворы электролитов являются проводниками второго рода. Электрический ток в них переносится ионами, образуемыми в результате диссоциации раствора электролита. На границе с проводниками первого рода (металлами), где носителями являются электроны, характер проводимости меняется.
Здесь протекает электрохимическая реакция с участием ионов и электронов, которая заключается в разряде заряженной частицы или ионизации незаряженной частицы (электродный процесс). Существует строгая пропорциональная зависимость между количеством протекающего электричества и количеством выделенного на электродах вещества. На каждую единицу количества электричества, пропущенного через электрическую ванну, на электродах вступает в электрохимическую реакцию по 1 грамм-эквиваленту вещества (Закон Фарадея):
Где:
q – количество металла, растворенного из анода, или осажденного на катоде, г;
i – сила тока, протекающего через ванну;
t – время протекания, с;
A – атомная масса металла;
Z – валентность металла;
F – число Фарадея (f=96.500).
Скорость осаждения и качество пленки полученной в результате осаждения (однородность, плотность, бездефектность) определяются четырьмя основными факторами:
Поляризационные явления у электродов.
Рассеивающей способностью у электролита.
Посторонними включениями в электролите.
Режимом осаждения.
П
овышение
скорости осаждения и качества пленки
Стабильность условий металлизации во
времени возможна только при стабильной
поляризации электродов, соответствующей
приложенному потенциалу. Этому мешают
концентрационная и химическая поляризация,
смещающая потенциалы электродов
относительно потенциала равновесия.
Концентрационную поляризацию вызывают
побочные газовыделяющие процессы у
электродов при диссоциации
.
Химическая поляризация является
результатом ограниченной скорости
протекания химических реакций в
приэлектродном слое электролита,
вследствие замедленной диссоциации
комплексных ионов металла. Ее устраняют
добавлением в раствор комплексообразователей,
которые увеличивают электроотрицательность
потенциала.
Важнейшей характеристикой электролитической
ванны является рассеивающая способность,
характеризующая равномерность осаждения
по площади катода. Анодная плотность
тока
должна быть значительно ниже катодной
,
Чтобы ослабить вредное влияние скопления
газовых пузырьков, застойных явлений
и особенно для улучшения рассеивающей
способности ванны.
Стабилизация режима обеспечивается системой корректировки состава ванны и PH раствора, токового режима и температурного, корректировка осуществляется путем введения дискретных доз водного раствора добавляемого вещества.
Состав ванны для Cu
20 г/л Cu в виде CuSO4,
160 г/л H2SO4, 1 г/л декстрина
скорость осаждения
при Dk=2А/дм2
и
Состав ванны для Ni
NiSO4* 7H2O -300 г/л
H3BO3 – 30 г/л
Dk=2A/дм2 , PH - 4±10%,
