- •1 Анализ задания на проектирование
- •2 Обзор современного оборудования для травления
- •2.1 Установка группового плазмохимического травления со стабилизированными параметрами (модернизированная) «Электроника тм - 1102» «08пвх-100/10-006м»
- •2.2 Двухкамерная установка ионно-плазменной обработки кремния и его соединений (модернизированная) «Электроника тм - 1104»
- •2.3 Двухкамерная установка ионно-плазменной обработки алюминия и сплава Al – Si (модернизированная) «Электроника тм – 1105».
- •3 Анализ методов травления слоев
- •4 Анализ материалов, деталей, инструментов оснастки для технологических процессов травления слоев
- •5 Назначение, основные конструктивные элементы и принцип действия оборудования для плазмохимического травления
- •7 Основные неисправности и методы устранения
- •6 Порядок подготовки оборудования, материалов, рабочего места к выполнению технологического процесса
5 Назначение, основные конструктивные элементы и принцип действия оборудования для плазмохимического травления
Установка 08ПХ-I00Т-001 предназначена для травления кремния, пленок двуокиси кремния, нитрида кремния и хлора, структур Si3N4 – SiO2 и для использования в составе технологического оборудования при производстве изделий электронной промышленности.
Установка может применяться автономно и в составе автоматизированной поточной линии.
Установка 08ПХ-I00Т-001 изготовлена в исполнении УХЛ категории по ГОСТ 1515О-69 для работы при температурах от +10 до +35 С при относительной влажности от 45 о 80% при температуре 20 С.
Питание установки 08ПХ-I00Т-001 осуществляется от трехфазной 4-х проводной с нулевым проводом сети переменного тока напряжением 380/220В, частоты 50 Гц. Нормы качества электрической энергии по ГОСТ 131О9-67.
Установка 08ПХ-I00Т-001 обеспечивает работу при подачи азота и технологических газов (кислорода, фреона) под давлением.
Установка 08ПХ-I00Т-001 обеспечивает работу при подачи сжатого воздуха 2 класса по ГОСТ II882-73 под давлением.
Установка 08ПХ-I00Т-001 должна размещаться в помещении категории 2 по ГОСТII6Б.ОО5.О22.
Таблица 9- Составные части оборудования
Позиция |
Обозначение и наименование составной части |
Количество |
1 |
Шкаф управления |
1 |
2 |
Камера |
2 |
3 |
Агрегат вакуумный |
1 |
4 |
Устройство согласования |
2 |
5 |
Блок управления и питания |
1 |
6 |
Программатор «Время-команда» |
1 |
7 |
Блок высокачастотный |
1 |
8 |
Выпрямитель 2,7 кВ; 0,5А |
1 |
В основе работы автомата лежит принцип применения низкотемпературной плазмы для удаления фоторезиста в непрерывном режиме с полупроводниковых пластин после травления их в фтор- и хлорсодержащей плазме.
Система управления автомата построена на базе ГУ «Орион – 3». Управление технологически процессом осуществляется по программе пользователя. Функцию общения человека с ЭВМ выполняет дисплей снабженный клавиатурой.
Питание на автомат подается при включении автомата в СЕТЬ блока питания и кнопки ПУСК блока обработки.
Ввод технологической программы и запуск автомата в любом режиме работы осуществляется от клавиатуры дисплея.
Кассеты с пластинами устанавливаются на позиции выдачи, а пустые кассеты – на позиции приема соответствующих агрегатов АПВ. Агрегат АПВ из кассеты механизма приема-выдачи пластин поштучно каждую пластину загружает в шлюз загрузки.
Затворы шлюза приводятся в действие сжатым воздухом. Давление сжатого воздуха поддерживается регулятором и контролируется реле давления и по показаниям манометра . работой входного и выходного затворов шлюза загрузки управляют клапаны ШЗВХЗ и ШЗВЫЗ. Агрегат вакуумный создает вакуум в шлюзах загрузки и выгрузки. Сообщение шлюза загрузки с АВш происходит через клапаны. Эти клапаны приводятся в действие клапанами соответственно. Разгерметизация шлюза шлюза загрузки происходит через клапан ШЗР.
После прохождения шлюза загрузки пластина устанавливается в камере обработки на позиции нагрева. Температура окружающей среды на этой позиции регулируется замкнутой системой регулирования температуры, состоящей из приборов ПН и ПР, установленных в блоке регулирования температуры БРТ, блока комбинированного, нагревательных ламп ЕК1…ЕК4 и термопары.
По истечению времени нагрева механизм кулисы перемещает пластину на позицию обработки.
Пластина обрабатывается в среде низкотемпературной плазмы, которая создается высокочастотным генератором. Устройство согласующее автоматически обеспечивает согласованный режим работы генератора. Агрегат вакуумный создает необходимое разряжение в камере обработки. Откачка камеры обработки осуществляется через вакуумный клапан. Этот клапан приводится в действие электропневмоклапаном. Рабочий газ в камеру подается по трем каналом через вакуумные клапаны которые управляются клапанами типа ГАЗ и НАЗЗ. Расход рабочих газов регулируется регуляторами. Давление рабочих газов поддерживается регуляторами давления и контролируется по показателям манометра. Камера разгерметизируется через специальный клапан. После обработки механизм перемещает пластину в шлюз выгрузки. Входной и выходной затворы шлюзы выгрузки приводятся в действие клапанами. Откачка шлюза производится через вакуумные клапаны которые управляются электропневмоклапанами.
Из шлюза выгрузки агрегат выгружает каждую пластину в кассету механизма приема-выдачи пластин. Подобным образом происходит транспортирование и обработка пластин, размещенных во второй кассете, то есть пластины из кассеты механизма приема-выдачи пластин выгружается в кассету другого механизма приема-выдачи пластин.
