- •5. Охарактеризуйте имс по степени интеграции и по функциональному признаку.
- •6. Дайте определение различным типам микросхем (полупроводниковая, гибридная, совмещенная).
- •8. Каким образом геометрические параметры полупроводниковых структур сказываются на электрофизические?
- •9. Приведите примеры конструкций полупроводниковых резисторов и конденсаторов и охарактеризуйте их.
- •Структура диффузионного резистора с использованием базового слоя (а), пинч-резистора (б) и эммитерного слоя (в)
- •12. Что такое коэффициент формы резистора и каким образом он может быть определен?
- •Интегральные диоды (диодные включения транзистора)
- •Конструкции интегральных диодов
- •18. Приведите пример конструктивно-технологической реализации диодов и транзисторов Шоттки.
- •13. Каким образом на итоговое сопротивление резистора сказываются приконтактные области?
- •14. Какая емкость p-n-перехода используется при изготовлении полупроводникового диффузионного конденсатора?
- •17. Варианты изготовления диодов по биполярной технологии
- •Конструкции (а, б) и принципиальная схема (в) транзисторов с диодами Шоттки с охранным кольцом (а) и с расширенным металлическим электродом (б)
- •25. Металлическая разводка и принципы ее проектирования
- •Сечение (а) и общий вид (б) пересечения металл — поликремний
- •Вид сверху (а) и разрез (б) диффузионной перемычки
- •26. Приведите пример и поясните технологического процесса изготовления тонких пленок для гимс.
- •27. Какие материалы используются для изготовления подложек гибридных и совмещенных имс? Требования к подложкам.
- •28.Поясните методику расчета геометрии пленочных резисторов.
- •Топология (а) и структура (б) прямолинейного резистора
- •Пленочные резисторы больших номиналов: меандр (а), змейка (б), полосковый (в).
- •Неправильное расположение контактных площадок
- •29. Поясните методику расчета пленочных конденсаторов.
- •Структура (а) и топологии (б, в, г) пленочных конденсаторов
- •30.Поясните методику расчета пленочных катушек индуктивности.
- •Топология катушекиндуктивности круглой (а) и прямоугольной (б) формы
- •Зависимость коэффициента k от соотношения диаметров
Неправильное расположение контактных площадок
Следует проектировать так, чтобы все резисторы, расположенные в одном слое, были изготовлены из одного материала и, следовательно, имели бы одинаковое RS. Поэтому выбор оптимального материала связан с относительным уравниванием малых и больших номиналов. Если в одном слое имеется N резисторов, то оптимальное RS можно вы числить с помощью уравнения:
|
|
откуда имеем
|
|
Если даже при использовании оптимизированного значения сопротивления слоя значение Kф выходит за заданные пределы 0,1 ≤ Kф ≤ 50, то целесообразно разбить резисторы на две группы и для каждой из них определить с помощью вышеприведенного уравнения соответствующее удельное поверхностное сопротивление. В этом случае следует использовать два различных резистивных материала.
29. Поясните методику расчета пленочных конденсаторов.
Тонкопленочные конденсаторы имеют структуру, показанную на рисунке 2.4а, и топологии — на рисунке 2.4б, в, г. Они состоят из нижней обкладки (НО), слоя диэлектрика и верхней обкладки (ВО). Верхняя обкладка конденсатора вписывается в нижнюю, а последняя — в слой диэлектрика. Это исключает возможность замыкания обкладок по их периметру и устраняет погрешность от рассовмещения. Конденсаторы, как правило, изготавливаются однослойными и имеют емкость от десятков пикофарад (пФ) до сотых долей микрофарады (мкФ).
К обкладкам конденсатора предъявляются следующие требования:
малое RS, так как с увеличением удельного поверхностного сопротивления тонкой пленки увеличиваются потери на высоких частотах;
хорошая адгезия к подложке и диэлектрику;
малая миграционная подвижность атомов.
Материал верхних обкладок должен быть сравнительно легкоплавким и не смачивать диэлектрик, чтобы при частичном пробое расплавленный металл силами поверхностного натяжения мог вскрыть область пробоя и тем самым как бы «отключить» слабое место в конденсаторе. Материалом обеих обкладок конденсатора обычно является Al. Нижние обкладки делаются с подслоем Ti или Сr.
|
|
|
|
Структура (а) и топологии (б, в, г) пленочных конденсаторов
Диэлектрик, используемый в конденсаторах, должен обладать хорошей адгезией к Al и подложке, иметь большую диэлектрическую постоянную (ε), малый угол диэлектрических потерь (tgδ), большую´ пробивную напряженность (Eпр). В таблице 2.5 приведены некоторые параметры диэлектриков.
Емкость конденсатора, при выбранном диэлектрике, определяет площадь верхней обкладки конденсатора, которая находится из выражения:
|
|
где εД – диэлектрическая проницаемость диэлектрика; d — толщина диэлектрика; SВО – площадь верхней обкладки.
Коэффициент KКР учитывает влияние краевого эффекта на значение емкости.
30.Поясните методику расчета пленочных катушек индуктивности.
Получить пленочные индуктивности больших значений в микросхемах очень трудно. Небольшие индуктивности для гибридных интегральных схем можно получать двумя путями:
осаждением на подложку проводящей спирали (рис. 2.5);
изготовлением миниатюрной тороидальной катушки с магнитным сердечником.
