2 Исследование электромагнитной обстановки вокруг пэвм

Цель работы:

- изучить приборы и методику определения физических характеристик электромагнитного поля вокруг ПЭВМ;

- получить практические навыки в проведении измерений физических характеристик электромагнитного поля;

- оценить соответствие измеренных значений нормам.

Общие сведения о персональных эвм как источниках эмп

Современные ПЭВМ имеют свои конструктивные особенности, поскольку мониторы одних – выполнены на основе электронно-лучевой трубки (ЭЛТ), других – на жидких кристаллах.

Дисплеи с ЭЛТ. Источником электронов является катод. Решетка используется в мониторе для управления интенсивностью электронного луча, и имеет напряжение от 10 до 100 В. Блоки анодов разгоняют и фокусируют луч, что достигается изменением потенциалов определенного анода до 25–27 кВ. Отклоняющее устройство направляет луч в определенную зону экрана. Стеклянная трубка с вакуумом может быть изготовлена из материала, который обеспечивает определенную защиту от электрических полей и, в меньшей степени, - от магнитных.

В жидкокристаллических дисплеях отсутствует высоковольтный блок строчной развертки. Такие дисплеи представляют собой матрицу из жидкокристаллических элементов и их вредное излучение обусловлено почти полностью импульсными блоками питания (сетевой адаптер, электроники, люминесцентной лампы, подсвечивающей изнутри плоский экран).

На пользователя ПЭВМ одновременно воздействуют несколько видов неионизирующих излучений и полей, которые имеют сложный спектральный состав в диапазоне частот от 0 Гц до 1000 МГц:

- электромагнитное излучение;

- ультрафиолетовое излучение;

- инфракрасное излучение;

- статическое электричество.

Их источниками являются не только дисплей, но и другие модули компьютера.

Сопутствующими факторами электромагнитной обстановки на рабочем месте с ПЭВМ являются:

- повышенное содержание положительных аэроионов в воздухе рабочей зоны;

- пониженное содержание отрицательных аэроионов в воздухе рабочей зоны.

Эксплуатация ПЭВМ должна осуществляться в соответствии с требованиями СанПиН 2.2.2/2.4.1340-03 Гигиенические требования к персональным электронно-вычислительным машинам и организации работы. Этот нормативный документ регламентирует, в том числе, и временные допустимые уровни ЭМП (табл. 2), создаваемых ПЭВМ, и методику проведения измерения параметров ЭМП.

Таблица 2

Временные допустимые уровни ЭМП, создаваемых ПЭВМ на рабочих

местах

Наименование параметров		ВДУ
Напряженность электрического поля	в диапазоне частот 5 Гц–2 кГц	25 В/м
	в диапазоне частот 2–400 кГц	2,5 В/м
Плотность магнитного потока	в диапазоне частот 5 Гц–2 кГц	250 нТл
	в диапазоне частот 2–400 кГц	25 нТл

Методика проведения измерений эмп на рабочем месте с пэвм

1 Составить план (эскиз) размещения рабочих мест пользователей ПЭВМ в помещении.

2 Установить на экране монитора типичное для данного вида работы изображение (текст, графики и др.).

3 При проведении измерений должна быть включена вся вычислительная техника, ВДТ и другое используемое для работы электрооборудование, размещенное в данном помещении.

4 Измерение уровней переменных электрических и магнитных полей на рабочем месте, оборудованном ПЭВМ, производится на расстоянии 50 см от экрана на высотах от опорной поверхности: 0,5 м, 1,0 м и 1,5 м (поза сидя).

5 Из измеренных значений выбираются максимальные (для электрического и магнитного полей) и сравниваются с нормой.

6 Если на обследуемом рабочем месте, оборудованном ПЭВМ, интенсивность электрического и/или магнитного поля в диапазоне 5–2000 Гц превышает значения, приведенные в таблице 2, следует проводить измерения фоновых уровней ЭМП промышленной частоты (при выключенном компьютере). Фоновый уровень электрического поля частотой 50 Гц не должен превышать 500 В/м. Фоновые уровни индукции магнитного поля не должны превышать значений, вызывающих нарушения требований к визуальным параметрам ВДТ. Необходимо также проверить целостность защитного заземления, так как при его отсутствии или нарушении на рабочем месте наблюдаются повышенные уровни ЭМП.