- •Технологія вакуумної обробки
- •1. Будова та агрегатний стан речовини
- •2. Конструкційні матеріали і технологічні середовища,
- •3. Вплив низькоенергетичного стрічкового електронного потоку на оптичний матеріал та розробка концепції керування якістю поверхневого шару
- •3.3.2. Теплові процеси електронно-променевої мікрообробки . . . . . . . .60
- •4. Матеріали і обладнання вакуумної техніки
- •5. Вимоги до обробки матеріалів у вакуумі
- •1. Будова та агрегатний стан речовини
- •1.1 Елементарні частинки, атоми та молекули
- •Систематизація хімічних елементів. Взаємодія та види зв’язку між
- •1.3 Молекулярно - кінетична та квантова теорія
- •1.3.1 Основні положення молекулярно-кінетичної теорії
- •1.3.2 Сили молекулярної взаємодії
- •1.3.3 Потенціальна енергія взаємодії частинок
- •1.3.4 Температура та модель ідеального газу
- •1.3.5 Експериментальні газові закони
- •1.3.6 Ізотермічний процес. Закон Бойля - Маріотта
- •1.3.7 Ізобарний процес. Закон Гей – Люссака
- •1.3.8 Ізохорний процес. Закон Шарля
- •1.3.9 Рівняння стану ідеального газу
- •1.3.10 Рівняння стану реального газу
- •1.3.11 Середня довжина вільного пробігу молекул газу
- •1.3.12 Зв’язок між температурою і середньою кінетичною енергією частинок
- •1.3.13 Середня квадратична швидкість та середня кінетична енергія теплового руху частинок
- •1.3.14 Основне рівняння молекулярно - кінетичної теорії ідеального газу
- •1.3.15 Визначення швидкості молекул газу
- •1.3.16 Квантово-механічна теорія електронів у твердих тілах
- •2. Конструкційні матеріали і технологічні середовища, які використо-вуються у технологіях поверхневої мікрообробки кпе
- •2.1 Тверді матеріали та їх основні класи
- •2.2 Гази
- •2.3 Рідини
- •2.4 Плазма
- •2.5 Вакуум та його властивості
- •2.6 Фізико – хімічні явища при низькому тиску
- •2.7 Взаємодія заряджених частинок з твердими тілами
- •Термічні процеси при електронно-променевому впливі на оптичні матеріали
- •3. Вплив низькоенергетичного стрічкового електронного потоку на оптичний матеріал та розробка концепції керування якістю поверхневого шару
- •3.1. Поріг та рівні чутливості поверхневого шару до електронного потоку
- •3.2. Стадії термічного і електричного впливу електронного потоку на оптичний матеріал
- •Після охолодження оптичного матеріалу повздовжні напруження між проплавленою поверхнею і основною структурою будуть мінімальними за умови, якщо hзтв ≈ 2hпр.
- •3.2.1. Тиск електронного потоку, вторинна електронна емісія та їх вплив на формування поверхневого шару
- •3.2.2 Леткість розплаву від дії потоку та її вплив на формування поверхневого шару
- •3.2.3 Теплова ефективність попереднього нагріву та охолодження оптичних матеріалів при електронно-променевій мікрообробці
- •При вивченні впливу низькоенергетичного стрічкового електронного потоку на оптичні поверхні визначаємо основні положення роботи:
- •З відпрацьованих методик та за результатами експериментів (глава 2) вводимо наступні припущення:
- •3.3.1 Фактори та критерії, які визначають систему «модифікований шар – основний матеріал»
- •3.3.2 Теплові процеси електронно-променевої мікрообробки
- •3.3.3 Оцінка глибини проплавлення оптичної поверхні за теплофізичними характеристиками матеріалу, параметрами електронного потоку та рівнем зниження поверхні
- •3.3.4. Дифузійні процеси та їх взаємозв’язок з процесами формування поверхневого шару.
- •3.3.5 Оцінка залишкових термонапружень та ширини перехідного шару у системі «проплавлений шар – перехідний шар – основний матеріал»
- •3.4 Концепція керування якістю поверхневого шару
- •4. Матеріали і обладнання вакуумної техніки
- •4.1 Метали та їх сплави
- •4.2 Неметалеві матеріали
- •4.3 Обладнання вакуумної техніки. Вакуумні насоси
- •Механічні вакуумні насоси
- •Конструкція об’ємних насосів
- •Конструкція насосів молекулярної дії
- •4.4. Конструктивні особливості вакуумної техніки (схеми, малюнки)
- •5. Умови вакуумної обробки оптичного скла
- •5.1 Джерела забруднень обладнання і матеріалів
- •5.2 Очистка обладнання і матеріалів від забруднень
- •5.3 Чистота виробничих приміщень
- •5.4 Вимоги до обслуговуючого персоналу
- •Співвідношення між одиницями тиску
- •Рекомендована література
2.3 Рідини
Рідина – агрегатний стан речовини, який має риси твердого стану (збереження об’єму, певна міцність на розрив) та газоподібного стану (зміна форми) і може бути прозорою, непрозорою та із забарвленням. Для рідин характерним є мала різниця між кінетичною енергією теплового руху молекул і атомів та потенціальною енергією їх взаємодії. Тому вони мають обмежений рух і їх вільний пробіг буде блокуватися силами притягання. Тепловий рух молекул і атомів рідини складається з їх коливального руху навколо положення рівноваги і достатньо малих переходів з одного положення в інше, з чим і пов’язується їх текучість. Самою розповсюдженою рідиною у природі є вода (гідросфера займає близько 71% поверхні Землі). Вода є обов’язковим компонентом практично усіх технологічних процесів, які використовуються у народному господарстві. Як і гази, рідини до речовин з іншим агрегатним станом бувають хімічно-нейтральними (дистильована вода) та хімічно активним (кислоти, луги).
2.4 Плазма
Плазма (від грецького plasma – виділене, оформлене) представляє собою іонізований газ, у якому концентрація позитивних і негативних зарядів рівна. У стані плазми знаходиться переважна частина Всесвіту: зірки, галактичні туманності. Біля Землі плазма існує у вигляді сонячного вітру, магнітосфери та іоносфери. Високотемпературна плазма ( Т ~ 106 - 108 К) із суміші дейтерію та тритію досліджується з метою створення керованого термоядерного синтезу. Низькотемпературна плазма (Т≤ 106 К) використовується у газорозрядних приладах (газових лазерах, плазмотронах, плазмових двигунах тощо), а також у техніці (лазерна, плазмова та електронно-променева обробка і зварювання матеріалів тощо).
2.5 Вакуум та його властивості
Вакуум (від латинського слова – vacuum - пустота), стан газу при тисках, більш низьких, ніж атмосферний. Поняття вакуум використовується для газів у відкачаному об’ємі, або у вільному просторі, наприклад – космосі.
Таблиця 2.1
Співвідношення між одиницями тиску
Одиниці тиску |
Па= |
мм рт.ст. |
|
бар=106 |
ат= |
атм |
Па= |
1 |
750·10-5 |
10 |
10-5 |
1,02·10-5 |
0,987·10-5 |
мм рт.ст. |
1,33·102 |
1 |
1,33·103 |
1,33·10-3 |
1,36·10-3 |
1,316·10-3 |
=мкбар |
10-1 |
750·10-6 |
1 |
10-6 |
1,02·10-6 |
0,987·10-6 |
бар=106 |
105 |
750 |
106 |
1 |
1,02 |
0,987 |
ат= =104 |
0,981·105 |
736 |
0,981·106 |
0,981 |
1 |
0,968 |
атм |
1,013·105 |
760 |
1,013·106 |
1,013 |
1,033 |
1 |
Ступені вакууму
Із формул 6.1, 6.2 видно, що при незмінній температурі газу середня довжина вільного шляху λ молекул зворотно пропорційна тиску газу р.
По мірі відкачки газу із об’єму може наступити той момент, коли середня довжина вільного шляху λ молекул досягає відстані d між стінками об’єму.
При λ>>d зіткнення між молекулами практично відсутні. Співвідношення між λ і d покладено в основу визначення ступеня вакууму. В вакуумній техніці розрізняють три основні ступені вакууму:
Стан розрідженого газу, при якому середня довжина вільного шляху молекул λ в багато разів менше лінійного розміру d (λ<<d), носить назву низького вакууму.
2. В тому випадку коли середня довжина вільного шляху співпадає з лінійним розміром d, говорять про середній вакуум.
3.Стан газу, коли λ набагато більше d (λ >> d) – високий вакуум.
Слід також відмітити, що ступінь вакууму – поняття відносне. Одному і тому ж тиску можуть відповідати різні ступені вакууму (в залежності від співвідношення λ/d). Наприклад, якщо повітря проникає в простір, лінійні розміри, якого значно менші 0,06мкм, то в цьому просторі повітря при атмосферному тиску буде вести себе як при високому вакуумі (λ>>d), прикладом може служити стан газу у вузьких шарах якого-небудь твердого тіла.
Таблиця 2.2
Ступені вакууму
Ступінь вакууму |
низький |
середній |
високий |
надвисокий |
|||
Область тиску |
Па |
100 |
100-10-1 |
10-1-10-5 |
10-5 |
||
мм рт.ст. |
1 |
1-10-3 |
10-3-10-7 |
10-7 |
|||

=мкбар
=104