OFP-Tretyak-Lozovski
.pdf
ОСНОВИ ФІЗИКИ НАПІВПРОВІДНИКІВ |
78 |
знову має p-провідність. Ця область є емітером, тобто областю, звідки дірки вводяться у базу. Область зразку, де пер еважає сурмик, що має провідність n-типу, утворює базу, а основний матеріал, до якого домішки не продифундували, служить колектором, тобто областю, до якої дірки збираються із бази. У приладів, що виготовлені за такою технологією, колекторна область є слабо легованою, тобто в ній концентрація дірок є меншою за концентрацію електронів у базі. Емітерна ж область завжди є сильно легованою. Ще однією технологічною рисою транзисторів є те, що базова область завжди виготовляється тонкою – її товщина d має бути меншою за дифузійну довжину. У зворотному випадку більша частина інжектованих із емітера дірок взагалі не досягла б колектору, а зникла через процеси рекомбінації у базі.
EC |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
На рис. 14.23 подано енергетичну |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
діаграму p-n-p-транзистора в |
||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
|
|
|
|
|
2 |
|
|
EF |
умовах термодинамічної рівнова- |
|||||
EV |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
ги, тобто за відсутності прикладе- |
||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
ної напруги. Видно, що у сильно |
||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||||
1 |
|
|
|
|
|
|
|
3 |
|
|
легованому емітері p-типу рівень |
|||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Фермі суміщений з акцепторними |
||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
рівнями, а в сильно легованій базі |
|
|
|
|
|
е-b |
|
|
|
|
b-c |
|
|
|
n-типу – із |
донорними рівнями. |
|
|
|
|
|
Рис.14.23 |
|
|
|
Колектор, |
що має провідність |
||||
Енергетична діаграма p-n-p транзистора за |
||||||||||||||
нульовою прикладеною напругою. „1” – емі- |
p-типу, являє собою область із не- |
|||||||||||||
тер; „2” – база; |
„3” – колектор; синім позна- |
значним рівнем легування. Тому |
||||||||||||
чено енергію акцепторів в емітері та колекто- |
провідність колектора є близькою |
|||||||||||||
рі, а ліловим – енергію донорів в базі |
до власної, і рівень Фермі тут роз- |
|||||||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
ташовується майже посередині |
|
забороненої зони. Потенціальна яма в області бази є бар'єром для дифузії дірок із емітера до колектора. Потік дірок через бар'єр керується напругою VE між емітером і базою.
Для визначення залежності струмів у транзисторі від параметрів приладу та прикладених різниць потенціалів розглянемо спочатку область бази. Вважатимемо, що домішка у цій області приладу розподілена рівномірно, тобто концентрація електронів nn є сталою вздовж
довжини бази. Нехай на прилад подано сталі напруги. Між емітером і колектором прикладено напругу у пропускному режимі Ve , а між ко-
лектором та базою – напругу в запірному режимі, що має абсолютну величину Vc. За невеликих рівнів інжекції, коли концентрація дірок у базовій області p не перевищує рівноважну концентрацію електронів nn , напруги Ve та Ve , в основному падають на переходах емітер–база
та база–колектор. При цьому граничні концентрації неосновних носіїв
ОСНОВИ ФІЗИКИ НАПІВПРОВІДНИКІВ |
84 |
(14.118) товщина p-n-переходу залежить від прикладеної напруги як L = const
ϕC +V . Таким чином, можна записати залежність товщини бази від прикладеної напруги на колекторі
d(VC ) = d0 ϕC +VC / |
ϕC |
, |
(14.187) |
де d0 – товщина бази за нульової напруги на колекторі. Тоді можна записати
|
∂jC |
|
= |
∂jC |
|
∂d |
|
≈ |
jC |
|
|
∂d |
. |
(14.188) |
|||||||||
|
∂V |
|
|
|
∂d ∂V |
|
|
|
d ∂V |
|
|||||||||||||
|
|
C |
|
|
|
|
|
|
|
C |
|
|
|
|
|
|
C |
|
|||||
Використовуючи (14.187), маємо |
|
|
|
|
|
|
d0 |
|
|
|
|
|
|
|
|
||||||||
|
|
∂d |
|
|
= |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
, |
(14.189) |
||||||
|
|
∂V |
|
|
2 |
|
|
|
|
|
|
|
|
||||||||||
|
|
|
|
ϕ |
|
ϕ |
+V |
||||||||||||||||
|
|
|
C |
|
|
|
|
|
|
C |
|
|
C |
|
C |
|
|||||||
звідки дістаємо оцінку |
|
|
|
|
|
|
|
|
jC |
|
|
|
|
|
|
|
|
||||||
|
(rC ) |
−1 |
≈ |
|
|
|
|
|
|
. |
|
|
|
(14.190) |
|||||||||
|
|
|
2 |
(ϕC |
|
+VC ) |
|
|
|
|
|||||||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||||||||
З іншого боку, обернений диференційний опір емітера визначається як
|
(rE ) |
−1 |
|
∂j |
E |
|
|
|
|
|
||
|
|
= |
|
|
|
. |
(14.191) |
|||||
|
|
|
|
|
||||||||
|
|
|
|
∂VE |
|
|
|
|
||||
|
|
|
|
|
|
|
|
VC =const |
|
|||
Формулу (14.182) можна наближено представити у вигляді |
|
|||||||||||
|
|
∂jE |
|
|
|
≈ jE |
e |
. |
(14.192) |
|||
|
|
|
|
|
||||||||
|
|
|
|
|
|
|||||||
|
|
∂VE |
|
|
|
kT |
|
|||||
Таким чином, із (14.185) дістаємо |
|
|
|
VC =const |
|
|
|
|
|
|||
w ≈ 2e(ϕC +VC ). |
|
|
|
|
||||||||
|
|
|
|
(14.193) |
||||||||
|
|
|
|
kT |
|
|
|
|
|
|
||
За кімнатної температури e /kT ~26 10−3 |
В–1. Типові значення бар'єру |
|||||||||||
на p-n-переході ϕC 0,25 B та |
потенціалу |
на |
колекторі VC 4 B. За |
|||||||||
таких параметрів отримуємо, |
що коефіцієнт |
підсилення |
становить |
|||||||||
3 102.
На рис. 14.24 та 14.25 подано вольт-амперні характеристики типового транзистора. Емітерні характеристики є прямими, а колекторні – оберненими характеристиками p-n-переходу. Для колекторних характеристик струм емітера є параметром. За зростання колекторної напруги до великих значень струм колектора лишається сталим і, оскільки α ≈1,
IC ≈ IE . Якщо у транзисторі база є дуже тонкою та слабко легованою, то за достатньо високих напруг на колекторі настає пробій.
85 |
Розділ 14. КОНТАКТНІ ЯВИЩА У НАПІВПРОВІДНИКАХ |
IE, мА |
VC= 40 В |
10 В |
|
|
IC, мА |
|
|
IE= 4 мА |
|
|||
|
1 В |
|
|
|
|
|||||||
|
|
4 |
|
|
|
|
|
|
||||
4 |
|
|
|
|
|
|
|
|
||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
3 |
|
|
|
|
3 |
|
|
|
2 мА |
|
||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||||
2 |
|
|
|
|
2 |
|
|
|
|
1 мА |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||
|
|
|
|
|
1 |
|
|
|
|
|
||
1 |
|
|
|
|
|
|
|
|
0 мА |
|
||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||
0 |
|
|
|
|
0 |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
-5 |
0 |
10 |
20 |
30 |
40 |
VC , |
||
0 |
0.1 |
0.2 |
0.3 |
VE , B |
||||||||
|
|
|
|
|
|
|
||||||
|
Рис.14.24 |
|
|
|
|
|
Рис.25 |
|
|
|
||
Вольт-амперна характеристика |
|
Вольт-амперна характеристика колектора p-n-p |
||||||||||
емітера p-n-p транзистора |
|
|
транзистора |
|
|
|
|
|
||||
14.9. ПОЛЬОВИЙ ТРАНЗИСТОР
Упопередньому розділі ми розглянули ефект поля – зміну поверхневої провідності напівпровідника під дією поперечного електричного поля. Цей ефект широко використовується у польових транзисторах. Польовий транзистор являє собою тонку напівпровідникову пластинку (канал) із двома омічними контактами – стоком і витоком, між якими розташовують третій електрод – затвор. Електрична напруга, що подається між затвором і стоком чи витоком, спричиняє появу у підзатворній області каналу електричного поля, яке впливає на концентрацію носіїв заряду поблизу затвору, наслідком чого є зміна електричного опору каналу. Існують два основних типи польових транзисторів: до першого – належать польові транзистори, в яких роль затвору відіграє p-n-перехід або бар'єр Шотткі; до другого – належать прилади, в яких металічний електрод затвору відділений від каналу тонким шаром діелектрика – польовий транзистор з ізольованим затвором або транзи-
стор на основі структури метал–діелектрик–напівпровідник. На рис. 14.26
подано схему польового транзистора із затвором, що відокремлений p-n-переходом, на рис. 14.27 – схему польового транзистора іншого типу – транзистор на структурі метал–діелектрик–напівпровідник. Такі при-
лади часто називають МДН-транзисторами.
Розглянемо детальніше роботу польового транзистора на прикладі транзистора із затвором на p-n-переході. У такому приладі, одну із
ОСНОВИ ФІЗИКИ НАПІВПРОВІДНИКІВ |
86 |
|
|
затвор |
L |
|
|
|
|
||
w |
|
|
|
|
витік |
|
n-тип |
стік |
|
канал p-типу |
h |
|||
|
||||
|
|
n-тип |
|
|
+ |
VDS |
затвор |
||
|
|
|||
+
VGS
Рис.14.26. Схема польового транзистора з затвором, що відокремлений p-n-переходом
можливих схем якого подано на рис. 14.26, омічні контакти до лівої та правої граней напівпровідникового кристалу – виток і стік. Область квазінейтрального об'єму, що розташована між збідненими областями
p-n-переходів, утворює канал, а с ильно леговані n+ області зверху та знизу відіграватимуть роль затвора польового транзистора. Прикла-
дення напруги VGS > 0 до затвора, що забезпечує зворотне зміщення p-n-переходу, спричиняє розширення збідненої області (на рис. 14.26 подано світло-блакитним) p-n-переходу до кристалу, оскільки затвор легований істотно сильніше за область каналу (ND >> NA).Цей процес зменшує поперечний переріз каналу, що збільшує його опір. Прикладення напруги у напрямку витік–стік VDS викличе створення струму в
|
|
|
|
VGS |
|
|
|
|
|
||||||
|
|
|
|
|
|
|
+ |
затвор |
|
|
|
|
|
||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||
|
витік |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||||
|
|
|
|
|
|
|
стік |
|
|||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
n-тип |
|
|
|
|
|
|
канал |
|
ОПЗ |
|
|||||
|
напівпровідник p-типу |
|
|
||||||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
VDS |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
R +
Рис. 14.27. Схема польового МДН-транзистора. Шар діелектрика позначено зеленим
