- •Тягур ю.І., Жогова о.І. Методичні Рекомендації
- •Ужгород – 2005
- •Лабораторна робота №1 «Вивчення явища поляризації світла. Перевірка закону Малюса»
- •І. Теоретичні частина
- •Іі. Короткі теоретичні відомості
- •Іі. Хід роботи
- •Лабораторна робота №2 Вивчення явища дифракції світла. Дослідження дифракційної гратки: визначення постійної дифракційної гратки та невідомої довжини хвилі
- •І. Теоретичні частина
- •Іі. Хід роботи
- •Лабораторна робота №3 «Вивчення явища дисперсії світла. Градуювання монохроматора»
- •І. Теоретична частина
- •Іі. Короткі теоретичні відомості
- •Призмові спектральні прилади
- •Кутове збільшення призм
- •Кутова і лінійна дисперсії
- •Роздільна здатність призмового приладу
- •Поляризуюча дія призм
- •Принципова схема спектрального приладу
- •Вказівки з експлуатації тсн
- •Іі. Хід роботи
- •Лабораторна робота №4 Вивчення показника заломлення світла. Дослідження показника заломлення прозорої плоскопаралельної пластинки за допомогою мікроскопа
- •І. Теоретичні частина
- •Іі. Хід роботи
- •Лабораторна робота №5 Визначення потенціалів збудження та іонізації атомів
- •І. Теоретична частина
- •1.1. Експериментальне підтвердження постулатів Бора
- •1.2. Схема досліду Франка-Герца
- •Іі. Хід роботи
- •І. Теоретична частина
- •Іі. Хід роботи
- •Лабораторна робота №7 вивчення серійних закономірностей в спектрах випромінювання воднеподібних атомів
- •І. Теоретична частина
- •1.1. Серійні закономірності в спектрі атома водню та водне подібних атомів1
- •Іі. Хід роботи
- •2.1. Розрахунок енергії стаціонарних станів атома водню
- •2.2. Розрахунок сталої Рідберга для атома водню
- •Лабораторна робота №8 Дослідження температурної залежності електропровідності напівпровідників
- •І. Теоретична частина
- •2. Елементи зонної теорії напівпровідників
- •3. Температурна залежність електропровідності напівпровідників
- •Іі. Хід роботи
- •Література
- •1. Похибки результатів вимірювань фізичних величин
- •1.1. Прямі вимірювання
- •1.2. Непрямі вимірювання
- •1.3. Абсолютна і відносна похибки вимірювань
- •1.4. Систематичні і випадкові похибки
- •1.5. Деякі відомості з теорії імовірностей
- •1.6. Оцінка випадкових похибок прямих вимірювань
- •1.7. Порядок аналітичної обробки результатів прямих вимірювань
- •1.8. Оцінка довірчої границі похибки непрямих вимірювань
- •1.9. Порядок аналітичної обробки результатів непрямих вимірювань
- •Розподіл Стьюдента
- •Розподіл Пуассона
- •Нормальний розподіл
- •Значення функції
Іі. Хід роботи
Вивчення температурної залежності електропровідності напівпровідника.
Вивчити схему лабораторної установки і з’ясувати призначення всіх приладів. Ознайомитися з інструкціями по експлуатації вимірювачів температури і опору.
Для вивчення температурної залежності електропровідності напівпровідника використовується лабораторна установка, блок-схема якої приведена на рис.6.

Рис.6. Схема лабораторної установки для дослідження температурної залежності електропровідності напівпровідників: 1-2 – зразки в кристалотримачі; 3 – лабораторна піч; 4 – регулятор напруги; 5 – термопара; 6 – перемикач «зразок»; 7 – вимірювач температури; 8 – цифровий омметр
Зразок, вирізаний з напівпровідникового
матеріалу у вигляді прямокутної пластинки
площею
і довжиною
поміщається в спеціальний кристалотримач,
який забезпечує омічний контакт
під’єднувальних кабелів вимірювача
опору 8. Вибір зразка для досліджень (siабоGe) здійснюється за
допомогою спеціального перемикача 6.
Кристалотримач зі зразками розміщують
всередині лабораторної печі, температура
в якій регулюється реостатом або іншим
регулятором напруги 4. Максимальна
температура в термічній зоні установки
не має перевищувати 200 С. Температура
безпосередньо на разках контролюється
хромель-копельовою термопарою, термо
е.р.с. якої реєструється цифровим
вимірювачем температури. На дисплеї
цього приладу індикується значення
вимірюваної температури в градусах
Цельсія. Зміна опору зразка визначається
за показами цифрового омметра 8.
Класи точності приладів приведені у відповідних інструкціях по експлуатації.
Включити і прогріти реєструючі прилади упродовж 15 хв.
Проведення вимірювань та методика аналізу результатів вимірювань
Виміряти вольт-амперну характеристику U(I) зразка при кімнатній температурі для заданих струмів І=0,02 А, 0,03 А, 0,04 А, 0,05 А, 0,06 А, 0,07 А, 0,08 А, 0,09 А.
Результати вимірювань U(I) занести в таблицю.
Побудувати графік U(I) і методом апроксимації лінійної ділянки визначити опір зразкаRпри кімнатній температурі (рис. 7).

Рис.7. Залежність U(I) зразка при кімнатній температурі
Визначити питомий опір
зразка за формулою
![]()
де l=9×10–3 м та S = 89×10–6 м2 і результати розрахунку порівняти з табличними даними для кремнію та германію і встановити, який це зразок.
Встановити на джерелі живлення постійного струму типу Б5-47 значення струму І=0,02 А.
Увімкнути муфельну пічку в розетку, провести вимірювання спаду напруги на зразку від температури в діапазоні температур від кімнатної до 335 оС з кроком в 5 градусів. Результати вимірювань занести в таблицю1.
Таблиця 1
-
t, oC
U, B
R, Oм
ln R
ln (1/R)
T, K
1/T, (1/K)
Розрахувати опір Rзразка за формулою:
![]()
Розрахувати всі інші параметри, приведені в таблиці.
Побудувати залежність
або
і
дати аналіз цих залежностей (див. рис.8
і рис.9).

Рис.8. Температурна залежність опору напівпровідникового зразка

Рис.8. Температурна залежність опору напівпровідникового зразка в логарифмічному масштабі
Побудувати залежність
(див. рис.10), встановити лінійні ділянки
і за формулою
![]()
розрахувати термічну константу В та енергію активації:
![]()
Результати розрахунків занести в таблицю 2.
Таблиця 2
|
№ лінійної ділянки |
В, К |
W, eB |
|
|
ТКО, (1/К) |
|
1 |
566±19 |
0,05 |
0,10 |
– |
(4±2)×10–3 |
|
|
|
|
|
|
|

Рис.10. Залежність
для напівпровідникового зразка
З залежності
встановити ділянку власної провідності
в зразку, визначити ширину забороненої
зони
.Знайдені параметри В і W порівняти з літературними даними для кремнію та германію.
Розрахувати енергію домішки
,
при умові, що вона донорного типу.
Приклад розрахунку:
![]()
![]()
![]()
Якщо відлік ведеться
від вершини валентної зони, то
і тоді
,аотже
.
З досліджень електропровідності відомо,
що встановленізначення
відповідають 0 К, тобто
.
Так само виконується розрахунок енергії
домішки, при умові, що вона акцепторна.
Наприклад
![]()
![]()
![]()
![]()
Встановлення ширини забороненої зони
з досліджень температурної залежності
електропровідності напівпровідника.
![]()
![]()
![]()
при 0 К.
Встановити тип напівпровідникового матеріалу за значенням
з рис.11.

Рис. 11. Залежність ширини забороненої зони від температури для Ge, Si i GaAs
|
Ширина забороненої зони кремнію при 300 К рівна 1,12 еВ [7, С.366; 4, С.101]. Ширина забороненої зони германію при 300 К рівна 0,72 еВ [7, С.366; 4, С.101]. Питомий опір кремнію дорівнює 1 Ом×м [7, С.478; 4] Питомий опір германію дорівнює 0,1 Ом×м [7, С.478; 4] |
Розрахувати ширину забороненої зони досліджуваного напівпровідникового матеріалу при 300 К, виходячи із знайденої експериментальним шляхом величини
та значення коефіцієнта
,
взятого з рис.11. Розраховане значення
порівняти
зі значенням, приведеним на рис.11.
Приклад розрахунку. Нехай експериментально
встановлене
=1,22
еВ. З рис.11 видно, що це значення
відповідає кремнію. Коефіцієнт
=
–2,4×10–4еВ/К для кремнію, як
видно з рис.11. Отже
=
×
.При розрахунках енергії домішки вважати, що всі домішки донорні. Приклад зміни енергії рівня Фермі та концентрації електронів (провідності)для напівпровідника з донорною домішкою приведені на рис.12.


а) б)
Рис.12. Зміна положення рівня Фермі (а) і концентрації електронів (б) з температурою для донорного напівпровідника
Розрахунки енергії домішки
та ширини забороненої зони
при 0 К занести в таблицю 2.Побудувати залежність
(див. рис.11).Встановити лінійні ділянки на залежності
,
провести їх лінійну апроксимацію
рівнянням
.Визначити ТКО з апроксимованих рівнянь, виходячи з залежності опору зразка від температури
,
та з визначення ТКО, де температурний коефіцієнт опору (ТКО) зразка є рівним
![]()

Рис.11. Залежність
для напівпровідникового зразка
Розрахунки ТКО для лінійних ділянок занести в таблицю 2 та порівняти з літературними даними для кремнію та германію.


а) б)
Рис.12. Зміна положення рівня Фермі (а) і концентрації електронів (б) з температурою для донорного напівпровідника
У висновках вказати, на яких температурних ділянках відбувається активація домішки і яка енергія домішкових рівнів
,
при якій температурі починається
активація електронів з валентної зони
та ширину забороненої зони при 0 К та
при 300 К. Вказати ділянку температур,
на якій значення ТКО є найбільшим,
привести порівняння з літературними
даними
