- •Введение
- •Краткое описание методов, применяемых в процессах ионно-плазменной обработки материалов
- •Оборудование установка вакуумная ву - 2мбс
- •Установка вакуумная модели ву - ило
- •Установка вакуумная модели ву - 2м
- •Установка ионно химического травления урмз. 279.053
- •Установка реактивного ионно - лучевого
- •Автоматический модуль реактивного ионно-лучевого травления
- •Установка настройки частоты кварцевых резонаторов "корень".
- •Установка настройки частоты и герметизации резонаторов "камея".
- •Установка реактивной ионно-лучевой полировки поверхности "конус".
- •Установка термоионного нанесения «клевер».
- •Установка высокочастотного магнетронного осаждения "корунд.
- •Установка ионно-плазменного нанесения многослойных пленочных покрытий "квадрат".
- •Автоматический модуль нанесения структур
- •Установка магнетронного нанесения защитно - декоративных покрытий на детали товаров народного потребления
- •Высокопроизводительная автоматизированная установка магнетронного нанесения металлов
- •Установка вакуумно - дугового напыления урмз. 279.051
- •Установка вакуумно - дугового напыления урмз. 279.057
- •Установка вакуумного плазменно -дугового нанесения урмз.279.062
- •Установка вакуумного плазменно - дугового нанесения "элеватор".
- •Установка вакуумно-дугового напыления штоков гидроцилиндров "шток".
- •Установка ионной обработки и ионно - плазменного нанесения урмз. 279.050
- •Установка ионно-химического травления пластин диаметром до 150 мм "катер".
Автоматический модуль нанесения структур
|
Пластина и источник неподвижны. Назначение: нанесение ионно - лучевым распылением пятислойной структуры в едином вакуумном цикле .Тип источника - 4-х мишенный ионный источник .
Технические характеристики: Основные параметры источника : а) Источник распыления 1. Средняя энергия ионов 0,5-0,8 кэВ; 2. Ток ионного пучка 0,3 А; б) Источник ионной очистки 1. Средняя энергия ионов 0,01—0,1 кэВ; 2. Ток ионного пучка 0,1 А; |
Основные параметры установки:
1. Режим работы автоматический;
2. Размер пластин 76 мм;
3. Количество одновременно загружаемых пластин 1 шт.;
4. Производительность 4 шт/ч;
5. Неравномерность обработки ± 5 %;
6. Средство откачки - турбомолекулярный насос;
7. Рабочее давление 0,01 Па;
8. Предельное остаточное давление 0,001 Па;
9. Потребляемая мощность 10 кВА;
10. Габаритные размеры 3770 х 1610 х 3270 мм;
11. Масса 1750 кг.
Установка магнетронного нанесения защитно - декоративных покрытий на детали товаров народного потребления
|
Планетарное вращение деталей. Назначение: очистка поверхности и нанесение защитно-декоративных покрытий (бронзы, латуни) на детали товаров народного потребления сложной объемной конфигурации в едином вакуумном цикле. Тип источников: Маг - 50 и протяженный щелевой источник ионов. Технические характеристики Основные параметры источников : а) МАГ-50 1. Потенциал на мишени 0,4 - 0,8 кВ; 2. Ток ионов на мишень 30 А; б) Протяженный щелевой источник ионов 1. Средняя энергия ионов 0,5 кэВ; 2. Ток ионного пучка 1 А. |
Основные параметры установки:
1. Режим работы - ручной, автоматический блок откачки;
2. Размер деталей: диаметр от 16 до 196, высота от 16 до 64 мм;
3. Количество одновременно загружаемых деталей 90 шт.;
4. Производительность 70 шт/ч;
5. Неравномерность нанесения 5 %;
6. Средство откачки - диффузионный насос;
7. Рабочее давление 0,2 - 0,5 Па;
8. Предельное остаточное давление 610-4 Па;
9. Потребляемая мощность 18 кВА;
10. Габаритные размеры 4000 х 1000 х 2000 мм;
11. Масса 2500 кг.
Высокопроизводительная автоматизированная установка магнетронного нанесения металлов
|
Вертикальное перемещение универсаль-ных кассет. Назначение: двухстороннее двухслойное нанесение металлов на подложки. Тип источника: четыре магнетрона МСИР.
Технические характеристики.
Основные параметры источника: 1. Потенциал на мишени 0,2 - 0,8 кВ; 2. Ток ионов на мишень 120 А; 3. Размеры мишени 1290 х 136 х 15 мм; |
Основные параметры установки :
1. Режим работы - автоматический от микро-ЭВМ "Орион-3";
2.Размер кассет 1250 х 1250 мм;
3. Производительность 20 м2/час;
4. Неравномерность нанесения ± 7 %;
5. Средства откачки турбомолекулярный насос;
6. Предельное остаточное давление 5,4104 Па;
7. Потребляемая мощность 200 кВА;
8. Габаритные размеры 8000 х 3000 х 2500 мм;
9. Масса 20000 кг.
