- •Введение
- •1 Теоретическая часть
- •1.1 Принцип действия сканирующего туннельного микроскопа
- •1.2 Классификация сканирующего туннельного микроскопа
- •1.2.1 Стм, работающий на воздухе
- •1.2.2 Cверхвысоковакуумный сканирующий туннельный микроскоп gpi 300
- •1.2.3 Сверхвысоковакуумный низкотемпературный сканирующий туннельный микроскоп gpi cryo
- •1.3 Схема работы сканирующего туннельного микроскопа
- •1.4. Программное обеспечение стм
- •2 Экспериментальная часть
- •2.1 Технические характеристики стм
- •2.2 Требования к объектам исследования Сканирующей туннельной микроскопии
- •2.3 Область применения сканирующей туннельной микроскопии
- •Заключение
- •Список используемых источников
1 Теоретическая часть
1.1 Принцип действия сканирующего туннельного микроскопа
Принцип действия
сканирующего туннельного микроскопа
(СТМ) довольно прост, но кардинально
отличается от всех предшествующих
методик, применявшихся в физике
поверхности. Тонкое металлическое
острие, смонтированное на электромеханическом
приводе (X, Y, Z-позиционере), служит
зондом для исследования участков
поверхности образца (рисунок 1). Когда
такое острие подводится к поверхности
на расстояние
,
то при приложении между острием и
образцом небольшого (от 0,01 до 10 В)
напряжения смещения Vs через
вакуумный промежуток
начинает
протекать туннельный ток It порядка
10-9
.
Полагая, что электронные состояния
(орбитали)
локализованы на каждом атомном участке,
при сканировании поверхности образца
в направлении X и / или Y с
одновременным измерением выходного
сигнала в цепи Z можно получить
картину поверхностной структуры на
атомном уровне. Эта структура может
быть отображена в двух режимах: измеряя
туннельный ток и поддерживая расстояние
от
острия до поверхности образца или
измеряя изменения в положении острия
(то есть расстояние до поверхности
образца) при постоянном туннельном токе
(второй режим используется чаще).
|
Рисунок 1 - принцип действия СТМ: рx , рy , рz - пьезоэлементы
Рисунок 2 - схема, иллюстрирующая работу СТМ
Туннельный ток, возникающий при приложении напряжения Vs , поддерживается постоянным за счет цепи обратной связи, которая управляет положением острия с помощью пьезоэлемента рz . Запись осциллограммы напряжения Vz в цепи обратной связи при одновременном воздействии пилообразного напряжения развертки вдоль осей x и y образует туннельное изображение, являющееся своего рода репликой поверхности образцаХ [1]. |
1.2 Классификация сканирующего туннельного микроскопа
Все сканирующие туннельные микроскопы можно разделить на две основные группы: работающие на воздухе (или в другой среде) и в условиях сверхвысокого вакуума. Выделяют также низкотемпературные сканирующие туннельные микроскопы.
1.2.1 Стм, работающий на воздухе
Туннельная микроскопия уже давно вошла в научный арсенал как один из прецизионных инструментов для изучения наноструктуры поверхности проводящих материалов. В то же время двадцатилетний опыт использования сканирующих туннельных микроскопов (СТМ) однозначно показал, что при работе на воздухе (ex situ) или в растворе (in situ) поведение зазора СТМ невозможно описать соотношениями для случая туннелирования электрона в вакууме. Например, высота туннельного барьера, формально оцениваемая из данных туннельно-спектроскопических измерений на воздухе по формулам для вакуумного туннельного зазора , на несколько порядков ниже, чем та же величина, получаемая при измерениях в вакууме. В то же время реально достигаемое разрешение при работе СТМ на воздухе, как правило, значительно ниже, чем в вакууме и даже в растворе.
Специфика работы ex
situ СТМ определяется формированием
в зазоре тонкого слоя конденсированной
влаги, фактически представляющей собой
электролит неопределенного состава. В
некоторых случаях конденсат на поверхности
удается наблюдать экспериментально .
При подводе зонд СТМ, как правило,
погружается в такой слой, и ток, протекающий
в зазоре, имеет электрохимическую
природу. В результате при тех же заданных
значениях тока в конфигурации ex
situ СТМ расстояние зонд-образец
оказывается значительно больше, чем в
вакуумных (или низкотемпературных) СТМ.
Соответственно, существенно ослабевает
локальность процесса переноса электрона,
что приводит к значительному снижению
достигаемого разрешения и четкости
(контраста) получаемых СТМ-изображений.
Вполне
очевидно, что при оптимизации условий
туннельно-микроскопических измерений
на воздухе необходимо принимать во
внимание природу электрохимических
процессов в каждой конкретной системе:
наряду с влиянием на качество
топографических данных протекание
таких процессов может приводить к
трансформации участков поверхности
под зондом. Особенно сильно эффекты
локальных электрохимических процессов
проявляются при работе с неметаллическими
образцами (оксидные материалы,
композиционные материалы на их основе)
и образцами, полученными путем синтеза
в растворах электролитов.
Созданию
количественного описания процессов
переноса электрона в условиях
туннельно-микроскопических измерений
на воздухе препятствуют как неопределенность
состава и толщины слоя конденсата на
поверхности, так и невозможность контроля
электродных потенциалов зонда и образца.
Последнее обстоятельство не позволяет
использовать теорию, развитую для
электрохимического in situ СТМ , при
работе которого потенциалы электродов
можно непосредственно контролировать.
Поэтому на данном этапе востребованы
экспериментальные приемы, позволяющие
как минимум сравнивать на качественном
уровне специфику электрохимических
процессов в зазоре ex situ СТМ для
различных образцов и режимов сканирования.
Ранее была предложена новая методика
измерения спектров в конфигурации СТМ
(вольт-высотные зависимости), форма
которых очень чувствительна к природе
электрохимических процессов в зазоре.
Такие спектры позволяют оценивать
расстояние между зондом и образцом в
процессе измерений [2].
