2. Принцип фотометрии малых полей

Для предсказания характера изображения возникает задача измерения интенсивности рассеянного в эмульси­онном слое света. Обычные фотометрические методы оказываются непригодными из-за невозможности ввести приемник излучения внутрь слоя.

Однако существует однозначная связь между оптической плотностью и экспозицией при соблюдении постоянства условий экспонирования и обработки. Значит, по величине оптической плотности почернения, в том числе и в ореолах рассеяния, можно найти экспозицию, вызвавшую его образование. В этом и состоит принцип фотометрии малых полей с помощью само­го фотографического материала. В фотометрии малых полей с помощью самого фотографи­ческого мате­риала используется также и то, что эффект светорассеяния, сказы­вается заметным образом только на краях больших полей. Поэтому оптические плотности середин полей сен­ситограммы достаточно строго соответствуют сообщен­ным экспозициям.

Для описания эффекта светорассеяния в фотослое используем понятия наложенной и эффективной экспозиций.

Экспозиция, сообщенная поверх­ности материала, называется наложенной H_н (рис. 1). Экспозиция, определенная по ее фотографиче­скому действию, называется эффективной Н_эф.

В центре изображения кружка, показанного на рис. 1, б, наложенная и эффективная экспозиции равны. В то же время в точке А экспозиция не накла­дывалась, а действие света вызвало заметное почернение.

Если использовать понятия наложенной и эффективной освещенностей, то рис. 1 можно дополнить показанными на рис. 2 пространственными профилями освещенности – наложенной и эффективной (сплошная и пунктирная линия соответственно).

Рис. 2. Профиль наложенной освещенности (сплошная линия) и эффективной освещенности в фотоэмульсионном слое (пунктир) в том случае, когда репродуцируемый оригинал представляет собой ряд светлых штрихов разной ширины: а – большая ширина штриха; б – малая ширина.

По оптической плотности в некоторой малой области фотоизображения (например, в точке А) можно определить значение Н_эфA, если воспользоваться характеристической кривой, построенной в результате фотометрирования середин полей сенситограммы. Так реализуется принцип измерения интенсивности света, рассеянного внутри слоя.

Значение оптической плотности на данном участке изображения зависит не только от интенсивности дейст­вующего света, но и от выдержки. В структурометрии принято время экспонирования исключать и оценивать степень светорассеяния по эффективной освещенности, создаваемой внутри слоя рассеянным светом. Ее рассчитывают, разделив эффективную экспозицию на выдержку.

Таким образом, структурометрия имеет дело с нало­женными освещенностями E_н, определяемыми, обычными методами фотометрии, и эффективными Е_эф (действующими), которые находят по оптическим плотностям микроучастков изображения в соответствии с ха­рактеристической кривой материала и выдержкой при его экспонировании.

Светорассеяние в фотоматериале выражают функциональными зависимостями, которые получают в результате измерения эффективных освещенностей. Это либо функции расстояния от некоторой границы в изображении (пространственное представление светорассеяния), либо функции частот пространственно-периодических световых структур, наложенных на материал (частотное представление светорассеяния).