- •Содержание
- •Введение
- •Лабораторная работа № 1 Влияние плазмы тлеющего разряда на электрические свойства тонких пленок.
- •Теоретическое введение
- •Порядок выполнения
- •Лабораторная работа № 2
- •1. Эллипсометрия.
- •2. Метод Крамерса-Кронига
- •Контрольные вопросы
- •Литература
- •Лабораторная работа № 3 Прочностные и энергетические характеристики металлических пленок, полученных при различных технологических режимах
- •Теоретическое введение
- •Практическая часть
- •1) Механические методы:
- •Порядок выполнения:
- •Порядок выполнения работы
- •Порядок выполнения
- •Контрольные вопросы
- •Литература
- •Лабораторная работа № 6 Влияние лазерного отжига на лучевую стойкость диэлектрических пленок
- •Теоретическое введение
- •Порядок выполнения
- •Контрольные вопросы
- •Литература
- •Лабораторная работа №7 Метод измерения удельного сопротивления тонких пленок
- •Теоретическое введение Двухзондовый метод измерения
- •Неоднородность в распределении удельного сопротивления
- •Четырёхзондовый метод измерения.
- •Линейное расположение зондов
- •Расположение зондов по вершинам квадрата
- •Электрическая схема и методика измерения
- •Применение четрехзондового метода к образцам простой геометрической формы
- •Двухслойная структура
- •Тонкий слой
- •Порядок выполнения
- •Контрольные вопросы:
- •240019. Г. Гомель, ул. Советская, 104
- •240019. Г. Гомель, ул. Советская, 104
Неоднородность в распределении удельного сопротивления
Практически любой полупроводниковый образец обладает некоторой неоднородностью в распределении удельного сопротивления. Измеренное на неоднородном образце значение удельного сопротивления характеризуется эффективным удельным сопротивлением эф и представляет собой значение, усредненное по некоторой области образца. Интерпретация результатов измерений эффективного удельного сопротивления на неоднородном образце, т.е. нахождение соотношения между эффективным и действительным или средним значением удельного сопротивления, предполагает значение конкретной функции (x,y,z) и требует выполнения соответствующих теоретических расчетов. Решение этой задачи в аналитической форме возможно для простых одномерных случаев: линейного, экспоненциального и периодического распределения удельного сопротивления. В ряде практически важных случаев для образцов с одномерной неоднородностью, а именно: для диффузионных, эпитаксиальных и ионно-легированных слоев, распределение удельного сопротивления по толщине слоя измеряют с помощью последовательного удаления слоев.
В объемных образцах наиболее часто встречаются локальные флуктуации удельного сопротивления распределенные по объему образца и обусловленные флуктуациями концентрации и подвижности носителей заряда. Если линейный размер локальных неоднородностей превышает длину свободного пробега носителей заряда и дебаевскую длину экранирования, но мал по сравнению с геометрическими размерами образца, то эффективная удельная проводимость эф связана с ее средним значением соотношением.
(1.1)
Второе слагаемое в квадратной скобке представляет собой локальное среднеквадратическое отклонение удельной проводимости от ее среднего значения . Из (1.1) следует, что измеряемое значение удельной проводимости отличается, от ее среднего значения.
Четырёхзондовый метод измерения.
Четырехзондовый метод измерения удельного сопротивления полупроводников является самым распространенным. Кроме высоких метрологических показателей преимущество четырехзондового метода состоит в том, что для его применения не требуется создания омических контактов к образцу, возможно измерение удельного сопротивления объемных образцов самой разнообразной формы и размеров, а также удельного сопротивления слоев полупроводниковых структур.
Рассмотрим теоретические основы четырехзондового метода измерения удельного сопротивления применительно к образцу, представляющему собой полубесконечный объем, ограниченный плоской поверхностью.
На плоской поверхности образца вдоль прямой линии размещены четыре металлических зондов с малой площадью соприкосновения, расстояния между которыми s1, s2, s3. Через два внешних зонда 1 и 4 пропускают электрический ток I14, на двух внутренних зондах 2 и 3 измеряют разность потенциалов U23 . По измеренным значениям разности потенциалов между зондами 2 и 3 и тока, протекающего через зонды 1 и 4, можно определить удельное сопротивление образца.
Чтобы найти аналитическую связь между удельным сопротивлением , током I14 и напряжением U23, необходимо сначала решить более простую задачу, связанную с протеканием тока через отдельный точечный зонд, находящейся в контакте с плоской поверхностью полупроводникового образца полубесконечного объема.
Так как пространственное распределение электрического потенциала U(r) в образце имеет сферическую симметрию, то для его определения достаточно решить уравнение Лапласа в сферической системе координат, в котором оставлен лишь член, зависящий от r,
при условии, что потенциал в точке r = 0 положителен и стремится к нулю при очень больших r. Интегрирование этого уравнения с учетом указанных граничных условий позволяет получить следующее решение:
.
Константу интегрирования можно вычислить из условия для напряженности электрического поля при некотором значении r = r0.
Так как плотность тока, протекающего через полусферу радиусом r0,
,
а в соответствии с законом Ома
,
то
.
Окончательно получим
(2)
Очевидно, что распределение потенциала будет таким же, когда форма контакта зонда с поверхностью образца имеет вид полусферы конечного диаметра.
Пусть радиус, контакта равен r1. Тогда электрическое напряжение на образце равно электрическому потенциалу зонда:
(3)
Из сравнения напряжения на приконтактном слое толщиной r2-r1
и напряжения на образце (3) следует, что основное измерение потенциала происходит вблизи зонда. Например, при r2=10r1 напряжение на образце превосходит напряжение на слое толщиной r2-r1 всего лишь на 10%. Это означает, что значение протекающего через зонд тока определяется главным образом сопротивлением приконтактной области, протяженность которой тем меньше, чем больше радиус контакта.
