- •2. Диодный ключ. Работа в статическом и динамическом режимах.
- •3. Собственный и примесные проводники.
- •4.Типы полупроводниковых диодов. Параметры Диодов. Типы полупроводниковых диодов:
- •6. Параметрический стабилизатор напряжения.
- •7. Закон распределения носителей в зонах полупроводника. Функция Ферми – Дирака.
- •8. Туннельный диод.
- •9. Работа выхода.
- •10. Варикап.
- •11. Генерация и рекомбинация. Виды пробоев.
- •Vt может работать в 4 режимах, в зависимости от напряжения на его
- •13. Контакты полупроводник – металл.
- •14. Технология изготовления транзисторов.
- •15. Емкости p-n перехода. Схемы замещения p-n перехода.
- •16. Энергетические диаграммы транзистора при включении с общей базой.
- •8. Чрезмерное большое выходное сопротивление затрудняет согласование с нагрузкой. 17. Лавинно-пролетный диод. Применение.
- •18. Схемы включения транзисторов. Схема замещения транзисторов.
- •Схемы замещения транзистора.
- •19. Принцип работы фотоприемников.
- •20. Входные и выходные характеристики транзисторов при различных схемах включения.
- •21. Фоторезисторы. Схемы включения.
- •22. Емкости транзистора. Частотные характеристики транзистора.
- •23. Представление транзистора в виде четырехполюсника и системы статистических параметров.
- •24. Фотодиоды. Схемы включения фотодиодов.
- •25. Определение h-параметров по статическим характеристикам транзистора. Страница 66 методичка по фоэт.
- •26. Лавинные фотодиоды.
- •27. Фототранзисторы. Схемы включения.
- •28. Динамический режим работы транзистора.
- •29. Фототиристоры. Характеристики.
- •30. Транзисторный ключ. Основная схема, увеличение быстродействия.
- •31. Ненасыщенный транзисторный ключ.
- •32. Квантовая система. Энергетические уровни.
- •33. Спонтанное и индуцированное излучение. Трехуровневая квантовая система.
- •34. Высокочастотные транзисторы. Технология изготовления, свойства. 35. Полевые транзисторы. Разновидности. Схемы включения.
- •36. Основы работы полупроводниковых лазеров.
- •37. Схема действия полупроводникового инжекционного лазера. Инжекционный лазер представляет собой инжекционный p - n переход, в котором
- •38. Полевые транзисторы с управляющим p-n переходом.
- •40. Динисторы. Структура, схема замещения, вах.
- •Чем отличается динистор от полупроводникового диода?
- •Принцип работы динистора.
- •Вах динистора.
- •41. Разновидности мдп-транзисторов, статические характеристики.
- •42. Тиристоры и их классификация.
- •43. Полевые транзисторы с изолированным затвором и индуцированным каналом, устройство, вах, основные особенности.
- •44. Характеристики переходных процессов включения тиристоров и их особенности.
- •45. Полевые транзисторы с изолированным затвором и встроенным каналом, устройство, семейство вах, основные особенности.
- •47. Биполярные транзисторы с изолированным затвором (igbt), их устройство и основные особенности.
- •Применение
- •48. Критическая скорость нарастания прямого напряжения на тиристоре. Эффект du/dt. Критическая скорость нарастания напряжения в закрытом состоянии.
- •49. Ненасыщенный транзисторный ключ с нелинейной обратной связью.
- •51. Транзисторный ключ с форсирующим конденсатором.
- •52. Включение тиристорной структуры сигналом управления. Параметры процесса включения тиристора.
- •53. Методы улучшения импульсных и частотных свойств биполярных транзисторов.
- •54. Оособенности процесса выключении тиристора. Области применения тиристора.
- •55. Распределение электрического потенциала в объеме полупроводника.
7. Закон распределения носителей в зонах полупроводника. Функция Ферми – Дирака.
В собственном полупроводнике при температуре 0 К все электроны
находятся в валентной зоне. При повышении температуры часть электронов извалентной зоны переходит в зону проводимости. Определить вероятность
нахождения электрона (или дырки) на том или ином энергетическом уровне
при заданной температуре можно с помощью распределения Ферми –Дирака:
(1.1)
где W - энергия данного уровня, Дж;
k - постоянная Больцмана;
Т - абсолютная температура;
WF- энергия, соответствующая энергетическому уровню, вероятность
заполнения которого при T≠ 0 К равна 1/2, и называемой уровнем Ферми.
При температуре 0 К F (W) n изменяется скачкообразно. Для всех
энергетических уровней, лежащих ниже уровня Ферми (W<WF), функция
F (W)= 1, т.е. вероятность заполнения электронами валентной зоны (II), равна 1 (или 100 %); для всех уровней, лежащих выше уровня Ферми (W<WF), функция F (W)= 0, т.е. вероятность заполнения электронами зоны проводимости (I) равна нулю (электроны в зоне проводимости отсутствуют).
Так как на энергетических уровнях в запрещенной зоне электроны
располагаться не могут, распределение Ферми-Дирака там несправедливо. При Т≠ 0 К кривая вероятности имеет плавный вид, симметрична относительно уровня Ферми. Уровень Ферми в собственном полупроводнике при Т=0 К проходит почти посередине запрещенной зоны. Распределение Ферми-Дирака справедливо и для примесных полупроводников. Уровень Ферми в полупроводниках n-типа от середины
смещается в сторону дна зоны проводимости и находится тем ближе к дну зоны проводимости, чем выше концентрация донорной примеси. В полупроводнике р-типа уровень Ферми смещается от середины запрещенной зоны в сторону валентной зоны и находится тем ближе к валентной зоне, чем выше концентрация акцепторной примеси. На положение уровня Ферми влияет также температура полупроводника: в полупроводнике n-типа чем ниже температура, тем выше лежит уровень Ферми. В полупроводнике р-типа чем ниже температура, тем ниже лежит уровень Ферми (ближе к потолку валентной зоны).
8. Туннельный диод.
Туннельным диодом называют полупроводниковый прибор, который
сконструирован на основе вырожденного полупроводника (т.е. полупроводника с большим содержанием примеси), в котором при обратном и небольшом прямом напряжении возникает туннельный эффект и вольт-амперная характеристика имеет участок с отрицательным дифференциальным сопротивлением.
Устройство туннельных диодов в принципе почти не сличается от
устройства других диодов, но для их изготовления применяют
полупроводниковые
материалы с большим содержанием примесей
(до
).
Вследствие
этого удельные сопротивления областей
р- и n-
типов очень малы, а ширина р-n-перехода
составляет примерно 0,02 мкм, что в сто
раз меньше, чем в других полупроводниковых
диодах. Напряженность электрического
поля в таких р-n-переходах
достигает огромной величины – до
В/см. Вольт-амперная характеристика
туннельного диода и его условное
обозначение в схемах показаны
соответственно на рисунке 3.6. Рассмотрим
с помощью зонной теории вид вольт-амперной
характеристики. В равновесном состоянии
системы уровень Ферми постоянен для
обеих областей полупроводникового
диода. Поэтому другие энергетические
уровни
искривляются настолько сильно, что нижняя граница дна свободной зоны
области n-типа оказывается ниже верхней границы потолка валентной зоны
области р-типа, и так как переход очень узкий, то носители заряда могут
переходить из одной области в другую без затраты энергии, просачиваться
сквозь потенциальный барьер (туннелировать).
При
подключении к диоду прямого напряжения
потенциальный барьер с
ростом напряжения уменьшится. При подаче на туннельный диод обратного
напряжения обратный туннельный ток будет резко возрастать. Обратный ток у туннельных диодов во много раз больше, чем у других диодов, поэтому они не обладают вентильным свойством.
Основными параметрами туннельных диодов являются: максимальные
Imax и минимальные Imin значения токов на вольтамперной характеристике и соответствующие им напряжения (Ua и Uв); значение напряжения Uг, соответствующее максимальному току в точке а, а также дифференциальное сопротивление Rдиф = -dU/dI, которое определяется примерно на середине участка с отрицательным сопротивлением; общая емкость диода и максимальная частота.
