- •Міністерство освіти і науки України Національний технічний університет України "Київський політехнічний інститут"
- •Рекомендовано Міністерством освіти і науки України для студентів вищих навчальних закладів
- •Теоретичні відомості 84
- •Композиційні електролітичні покриття 196
- •1. Покриття. Поняття та визначення
- •1.1. Газотермічні покриття
- •1.2. Вакуумно-конденсаційні покриття
- •1.3. Газофазні покриття
- •1.4. Композиційні електролітичні покриття
- •2. Матеріали для нанесення покриття
- •2.1. Дроти
- •Поширені типи цільнотягнутого дроту, що рекомендуються для використання при нанесенні покриття
- •2.2. Порошки
- •2.3. Пруткові матеріали та гнучкі шнури
- •2.4. Матеріали для аморфного покриття
- •Матеріали серії амотек для газотермічного напилення аморфного покриття
- •3. Технологічні процеси підготовки поверхонь
- •4. Газотермічні процеси нанесення покриття
- •4.1. Теоретичні відомості
- •4.2. Газополуменеве напилення
- •4.3. Детонаційне напилення
- •4.4. Електродугове напилення
- •Характерні показники якості покриття при електродуговому напиленні (за даними фірми Sulzer Мetсо)
- •4.5. Плазмове напилення
- •4.6. Газодинамічне напилення покриття
- •5. Вакуумно-конденсаційні процеси нанесення покриттів
- •5.1. Теоретичні відомості
- •5.2. Вакуумно-конденсаційне напилення термічним випаровуванням
- •5.3. Іонно-плазмове вакуумно-конденсаційне напилення покриття термічною сублімацією матеріалу
- •5.4. Вакуумно-конденсаційне нанесення покриття іонним розпиленням
- •6. Технологічне устаткування для нанесення покриття
- •6.1. Обладнання для газотермічних процесів нанесення покриття
- •6.1.1. Класифікація обладнання
- •6.1.2. Обладнання для газополуменевого напилення
- •Технічні характеристики газополуменевих установок для напилення
- •6.1.3. Обладнання для детонаційного напилення
- •6.1.4. Обладнання для електродугового напилення
- •6.1.5. Обладнання для плазмового напилення
- •Технічні характеристики установок для плазмового напилення
- •6.1.6. Обладнання для нанесення покриття у динамічному вакуумі
- •6.1.7. Обладнання для газодинамічного нанесення покриття
- •6.2. Обладнання для вакуумно-конденсаційних процесів нанесення покриття
- •6.2.1. Класифікація обладнання та комплектація установок
- •6.2.2. Установки для вакуумно-конденсаційного нанесення покриття
- •7. Хімічне осадження з газової (парової) фази
- •8. Композиційні електролітичні покриття
- •Список рекомендованої літератури
1.3. Газофазні покриття
Хімічне осадження з парової (газової) фази є процесом, в якому стійкі тверді продукти реакції утворюються та ростуть на поверхні основи у середовищі, де відбуваються хімічні реакції (дисоціація, відновлення і таке інше) - СУй-процеси.
Рис 1. 5 Розподіл алюмінію, цирконію і кисню та схема утворення структур градієнтної перехідної зони: 1 - основа; 2 - β - фаза; 3 - АІ203; 4 - АІ203+ZrO2; 5 - Zr02(Y203)
Вихідними продуктами є газоподібні галогеніди, карбоніли чи метаметалоорганічні сполуки, при розкладанні чи взаємодії котрих з іншими газоподібними складовими сумішей (воднем, аміаком, вуглеводнями, оксидом вуглецю та ін.) можуть створюватися й осаджуватися на оброблюваній поверхні потрібні матеріали.
Структура газофазних покриттів може бути трьох типів, які є наслідком отримання покриттів при певному температурному режимі (низько-, середньо- і високотемпературному). Інтервал кожного з режимів залежить від природи осаджених матеріалів і в більшості випадків відповідає приблизно 0,1; 0,2; 0,3 температури їх плавлення (рис. 1.6). Поверхня покриттів,
отриманих у низькотемпературній області, цілком складається з крупних сфероїдів. Чим вище швидкість подачі пари металомісткої сполуки, тим при більш низькій температурі утворюються крупні сферичні формування металу на поверхні покриття. У середньотемпературній області поверхня металевих покриттів сфероїди другого типу з розмірами в 5... 10 разів менше, ніж розміри сфероїдів, які отримані в низькотемпературній області.
У високотемпературній області поверхня металевих покриттів складається з хаотично орієнтованих дуже малих кристалів, розміри котрих в 10... 15 разів менше, ніж розміри сфероїдів другого типу.
Таким чином, підбираючи технологічні параметри процесу, можна отримувати газофазні металеві покриття з потрібним рельєфом поверхні.
1.4. Композиційні електролітичні покриття
Композиційні електролітичні покриття (КЕП) - це покриття, які отримані гальванічним методом і складаються з металевої матриці і тонко-дисперсних часток другої фази, розподілених в її об'ємі. Розмір таких частинок коливається у межах 0,01...50 мкм, кількість - від 1 до 50 об'ємних відсотків.
Як дисперсну фазу використовують порошки окремих елементів, але найчастіше застосовують хімічні сполуки на органічній чи неорганічній основі - безкисневі тугоплавкі сполуки, оксиди, полімери та ін.
Тонкодисперсні частинки в необхідній кількості вводять в електрохімічні ванни. У процесі електролізу частинки осаджуються на катоді і зарощуються іонами металів, що виділяються на катоді. Залежно від властивостей і кількості дисперсної фази (КЕП) можуть мати високі значення твердості і зносостійкості, жароміцності, жаро- і корозійної стійкості, анти- і фрикційні властивості та інші необхідні експлуатаційні характеристики.
Композиційні
комбіновані електролітичні покриття
поділяються на одношарові (рис. 1.7 а) і
багатошарові (рис. 1.7 б, в).
У свою чергу, за характерними ознаками і призначенням КЕП поділяють на моно- і поліметалеві, моно- і полікомпозиційні, тонко- і товстошарові, моно- і поліфункціональні.
Структура одно- і багатошарових КЕП залежить від багатьох факторів: розміру частинок другої фази, їх взаємного розташування, природи частинок (хімічного складу, електропровідності, міцності) і режиму електролізу.
Встановлено, що чим більше розмір частинок, тим менша їх кіль-і иль вкорінюється в осад.
Наприклад, при отриманні КЕП на основі нікелю при зміні розміру частинок від 1 до 10 мкм вміст часток в осаду знижується в два-три рані Крім того, частинок в осаду тим більше, чим вище їх електропровід-' не: і ь і чим вони легше та твердіше.
