- •Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение Высшего профессионального образования
- •Лабораторный практикум по курсу «Молекулярно-лучевая эпитаксия в технологии наноструктур» для студентов специальности 210601.65 Нанотехнология в электронике
- •Введение
- •1.1. Задачи лабораторной работы
- •1.2. Теоретическая часть
- •1.2.1. Фотоэлектрические процессы в инжекционном полупроводниковом лазере
- •1.4. Описание лабораторной установки и методов измерения
- •1.2.2. Основные характеристики и параметры лазерных диодов
- •1.3. Объект исследования
- •1.6. Внешний вид волоконно-оптического лазерного модуля
- •1.5. Порядок выполнения работы
- •Содержание отчета
- •1.7. Контрольные вопросы
- •2.1. Задачи лабораторной работы
- •2.2. Теоретическая часть
- •2.2.1. Фотоэлектрические процессы в p-I-n фотодиоде
- •2.2.2. Основные параметры и характеристики p-I-n фотодиода
- •2.3. Объект исследования
- •2.4. Описание лабораторной установки и методов измерения
- •2.5. Порядок выполнения работы
- •2.6. Содержание отчета
- •2.7. Контрольные вопросы
- •Лабораторная работа №3 измерение частотной характеристики
- •3.1. Задачи лабораторной работы
- •3.2. Теоретическая часть
- •3.3. Объект исследования
- •3.4. Описание лабораторной установки и методов измерения
- •3.5. Порядок выполнения работы
- •3.6. Содержание отчета
- •3.7. Контрольные вопросы
- •4.1. Задачи лабораторной работы
- •4.2. Теоретическая часть
- •4.2.1. Лавинный процесс в р-п переходе
- •4.2.2. Характеристики лфд
- •4.3. Объект исследования
- •4.4. Описание измерительной установки и методов измерения
- •4.5. Порядок выполнения работы
- •4.6. Содержание отчета
- •4.7. Контрольные вопросы
- •Лабораторная работа №5 получение методом молекулярно-лучевой эпитаксии светодиодов и измерение яркостно-токовой характеристики
- •5.1. Задачи лабораторной работы
- •5.2. Теоретическая часть
- •5.2.1. Физические процессы в р-п переходе светодиода
- •5.2.2. Основные параметры и характеристики фотоприемников
- •5.3. Объект исследования
- •5.4. Описание измерительной установки и методов измерения
- •5.5. Порядок выполнения работы
- •5.6. Содержание отчета
- •5.7. Контрольные вопросы
- •Оценка погрешностей результатов измерений
- •Значение коэффициента Стьюдента t для случайной величины X, имеющей распределение Стьюдента с (n-1) степенями свободы
- •Алгоритм обработки результатов косвенных измерений
- •Расчет погрешностей типовых задач
- •Литература
2.7. Контрольные вопросы
1. Объясните принцип работы p-i-n фотодиода.
2. Приведите основные характеристики и параметры p-i-n фотодиода.
3. Приведите типичную вольт-амперную характеристику p-i-n фотодиода и объясните ее поведение на различных участках при изменении мощности падающего оптического излучения.
4. Укажите возможные причины уменьшения чувствительности p-i-n фотодиода при больших мощностях падающего оптического излучения.
Лабораторная работа №3 измерение частотной характеристики
P-I-N ФОТОДИОДА
3.1. Задачи лабораторной работы
Измерить амплитудно-частотную характеристику p-i-n фотодиода, определить его рабочую полосу частот и время нарастания и спада.
3.2. Теоретическая часть
Быстродействие p-i-n фотодиода ограничено временем переноса возбужденных светом неосновных носителей заряда и RC постоянной времени цепи фотодиода (Рисунок 3.1). Рабочая полоса частот фотодиода f может быть определена по следующей формуле:
, (3.1)
где
ft
-
полоса частот фотодиода, ограниченная
временем переноса неосновных носителей
заряда;
fRC
- полоса
частот фотодиода, ограниченная
RC
постоянной
цепи;
-
средняя скорость неосновных носителей
заряда; 0
- диэлектрическая проницаемость вакуума;
- относительная диэлектрическая
проницаемость поглощающего слоя; А
- площадь фоточувствительной области
фотодиода;
Rs
-
последовательное сопротивление
фотодиода;
ZL
-
сопротивление нагрузки.
Из приведенной формулы видно, что для уменьшения времени переноса неосновных носителей заряда необходимо уменьшать толщину активного слоя p-i-n фотодиода, а для уменьшения RC постоянной цепи фотодиода (уменьшения барьерной емкости р-п перехода) и увеличения квантовой эффективности необходимо увеличивать толщину активного слоя. Из формулы (3.1) можно получить значение оптимальной толщины поглощающего слоя, при которой рабочая полоса частот p-i-n фотодиода максимальна:
.
(3.2)
Таким образом, оптимальная толщина поглощающего слоя пропорциональна диаметру фоточувствительной области p-i-n фотодиода. Рисунок 3.1 показывает, что для увеличения рабочей полосы p-i-n фотодиодов свыше нескольких десятков гигагерц необходимо существенно уменьшать фоточувствительную площадь фотодиода. Однако это приводит к увеличению последовательного сопротивления Rs и уменьшению тока насыщения p-i-n фотодиода из-за уменьшения размеров поглощающей области.
Рисунок 3.1. - Зависимость рабочей полосы частотp-i-n фотодиода от толщины
поглощающего слоя при различных диаметрах фоточувствительной области
Рисунок 3.1 также показывает, что наиболее быстродействующий In- GaAs/InP p-i-n фотодиод, обладающий практически 100% квантовой эффективностью, должен иметь толщину поглощающего слоя порядка 2,5 мкм.
Рисунок 3.2 показывает эквивалентную электрическую схему высокоскоростного InGaAs/InP p-i-n фотодиода, которая состоит из источника фототока Iph, дифференциального сопротивления Rpn и емкости Срп р-п перехода фотодиода, паразитной емкости Cs, последовательного сопротивления контактов Rs, емкости корпуса Ср и индуктивности корпуса Lp. Элементы Iph, Rpn и Срп электрической цепи фотодиода являются активными и зависят от частоты, напряжения смещения и мощности падающего на фотодиод оптического излучения. Элементы цепи Rs, Сs Lp и Ср являются пассивными элементами и определяются только конструкцией p-i-n фотодиода. Паразитная емкость Cs является емкостью МДП-структуры кристалла фотодиода, которая состоит из металла контакта к р+-области, пассивирующего диэлектрика и полупроводниковой структуры фотодиода. Индуктивность корпуса складывается из индуктивности проволоки, соединяющей кристалл фотодиода с ножками корпуса и индуктивности ножек корпуса Lp. Емкость корпуса определяется как непосредственно геометрическими размерами корпуса и расположением ножек, так и расположением кристалла в корпусе.
Рисунок 3.2. - Эквивалентная электрическая схема p-i-n фотодиода
Основными характеристиками фотоприемника, характеризующими его быстродействие, являются частотная характеристика и время нарастания и спада. Работа фотоприемника в импульсном режиме характеризуется временем нарастания нар (спада сп) при освещении модулированным излучением и является важнейшей динамической характеристикой фотоприемника.
Время нарастания и спада представляет собой зависимость фототока от времени и определяется путем измерения выходного сигнала на нагрузке фотодиода при подаче на его вход импульса оптического излучения (0). Время нарастания (спада) определяется как время, необходимое выходному сигналу, чтобы вырасти от уровня 0,1 до 0,9 (упасть от 0,9 до 0,1) от установившегося максимального значения при условии, что на вход подаются строго прямоугольные импульсы света длительности на порядок больше времени нарастания (спада). Эти времена зависят от конструкции фотодиода (геометрии фотодиода, материала кристалла), а также напряженности электрического поля в области пространственного заряда:
Рисунок 3.3. - Импульсный ответ фотодиода
Частотная характеристика представляет собой зависимость выходного сигнала (тока, напряжения, спектральной чувствительности) от частоты модуляции падающего на фотодиод потока излучения (Рисунок 3.4).
Рисунок 3.4. - Частотная характеристика чувствительности
Частотная характеристика и время нарастания и спада измеряются при фиксированном сопротивлении нагрузки и напряжении смещения. По этим характеристикам находят параметры, описывающие частотные и импульсные свойства прибора. Предельную частоту fгр определяют по частотной характеристике в месте уменьшения фототока на 3 дБ по сравнению с максимальной величиной. Время нарастания и спада находится по уровню 0,10,9 (нарастание) или 0,90,1 (спад) от максимального значения импульсного сигнала на нагрузке фотодиода.
