- •1. Эффект Холла.
- •1.1. Характер движения носителей заряда при наличии электрического и магнитного полей
- •1.2. Определение критерия слабого магнитного поля
- •1.3. Обьяснить возникновение эффекта Холла в полупроводнике со смешанной проводимостью
- •1.4. Чем определяется величина и знак холовской э.Д.С
- •1.5. Какую физическую информацию можно получить при исследовании эффекта Холла
- •2. Термо-э.Д.С
- •2.1. Объясните возникновение термо-э.Д.С. В полупроводнике смешанного типа проводимости
- •2.3. Чем определяется величина кооф.-та термо-э.Д.С в полупроводнике
- •2.4. Объясните ход температурной зависимости кооф.-та «а» для полупроводника n-типа
- •3. Эффект поля
- •3.1. В чем заключается эффект поля в п/п.
- •2.2. Какой физический смысл имеет кооф.-т «а»
- •3.2. Что такое «поверхностная проводимость», от чего она зависит
- •3.4. Экспериментальная и теоретическая зависимость поверхностной проводимости от индуцированного заряда. Причины различия
- •3.5. Структура и механизм работы мдп-транзистора
- •3.6. Что такое канал. Какие виды каналов бывают и их различия
- •4. Кооф. Поглощения света в п/п
- •4.1. Что такое собственное и фундаментальное поглощение. Каковы типы оптических переходов
- •4.2. Чем определяется плотность состояний электронов в разрешенной зоне.
- •4.3. Чем различаются спектры поглощения для разрешенных и запрещенных прямых межзонных переходов
- •4.4. Метод определения спектра поглощения полупроводника по спектру его пропускания
- •4.5. Методика определения ширины запрещенной зоны п/п по спектру поглощения
- •5. Фотопроводимость
- •5.1. Внутренний эффект
- •5.2. Что такое прямые и непрямые переходы электронов
- •5.3. Определение времени релаксации носителей заряда
- •5.4. Физический смысл понятия «квантовый выход»
- •5.5. Изменение неравновесной концентрации носителей при включении-выключении света при дельта t стремящемся к нулю
- •5.6. Понятие эффективного времени жизни
- •5.7. Дебаевская длина экранирования
- •6. Фотовольтаический эффект
- •6.1. Понятие фотовольтаического эффекта
- •6.2. Физические процессы, происходящие в фотодиоде при его освещении
- •6.3. Суть вентильного и фотодиодного режима работы фотодиода
- •6.4. Объясните отличие световых хар-к фотодиода в вентильном и фотодиодном режимах
- •Список использованных источников
3.5. Структура и механизм работы мдп-транзистора
Наиболее эффективным способом управления значением поверхностного электростатического потенциала( а также и значением пов. проводимости Gs и емкости пространственного заряда полупроводника Gsp) является приложенное к п-ку перп. к пов-ти электрич. поле. Это достигается просто в структуре, где полупроводник служит одной из обкладок конденсатора, отделенной от второй обкладки – металлического электрода – слоем диэлектрика. Это и есть МДП структура.
Физической основой работы полевого транзистора со структурой металл – диэлектрик – полупроводник является эффект поля. Напомним, что эффект поля состоит в том, что под действием внешнего электрического поля изменяется концентрация свободных носителей заряда в приповерхностной области полупроводника. В полевых приборах со структурой МДП внешнее поле обусловлено приложенным напряжением на металлический электрод – затвор. В зависимости от знака и величины приложенного напряжения могут быть четыре состояния области пространственного заряда (ОПЗ) полупроводника – обогащение, обеднение, слабая и сильная инверсии. Полевые транзисторы в активном режиме могут работать только в области слабой или сильной инверсии, т. е. в том случае, когда инверсионный канал между истоком и стоком отделен от квазинейтрального объема подложки областью обеднения.
Полевой транзистор относится к типу приборов, управляемых напряжением. Обычно электрод истока является общим, и относительно его определяются величина и знак прикладываемого напряжения и протекающего тока.
Работа полевых транзисторов основана на, использовании носителей заряда только одного типа - основных( либо электронов, либо дырок), а основным способом жвижения носителей заряда является дрейф в электрическом поле.
Бывают полевые транзисторы 2х видов: с управляющим р-п переходом и со структурой МДП.
Проводящий слой, по которому проходит рабочий ток, называют каналом. Транзисторы, использующие такие слои называют канальными.
Металлический электрод создающий эффект поля называют Затвором, 2 других электрода – Стоком и Истоком.
Исток – электрод, через который носители заряда втекают.Сток – электрод, через который носители заряда вытекают.Затвор используют для подачи электро-сигнала и управления величиной тока в проводящем канале, протекающем от Истока к Стоку. Если канал n-типа, то рабочие носители – электроны и полярность Стока положительная.Исток обычно соединяют с основой полупроводника – подложкой.
Проводящие каналы, отсутствующие в равновесном состоянии и образующиеся под действием внешнего напряжения, называют индуцированными. Толщина индуцированного канала практически неизменна – 1-5 мкм, поэтому модуляция его проводимости обусловлена изменением концентрации носителей. Напряжение на затворе, при котором образуется проводящий канал называют Пороговым.
Подложку у МДП транзисторов обычно делают из материала с высоким удельным сопротивлением, чтоб облегчить образование канала и увеличить пробивное напряжение переходов истока и стока.В МДП транзисторах со встроенным каналом проводящий канал создают не за счет эл. поля , а технологическим путем. И при помощи напряжения на затворе можно управлять проводимостью канала.
Для МДП транзисторов со встроенным каналом вместо порогового напряжения вводят параметр напряжения осечки – это напряжения на затворе, при котором встроенный проводящий канал исчезает и ток в цепи Исто-Сток стремится к 0.
Транзисторы со встроенным каналом работают при обеих полярностях на затворе: при отрицательной полярности канал обедняется носителями(для n канального транзистора) и ток стока уменьшается, при положительной – канал обогащаетсяэлектронами(для n канального транзистора) и ток увеличивается. Для p канального транзистора полярности противоположные. Встроенный канал обычно выполняют в виде тонкого приповерхностного слоя с помощью ионного легирования.
На рис. 14.25 показана схема МДП‑транзистора с индуцированным p‑каналом в равновесных условиях (VDS = 0) при нулевом напряжении на затворе и при напряжении на затворе выше порогового напряжения.
Рис. . МДП‑транзистор с индуцированным каналом в равновесных условиях: а – напряжение на затворе отсутствует VG = 0; б – напряжение на затворе больше порогового напряжения VG > VT (VG < 0)
|
Напомним, что транзисторный эффект заключается в изменении тока или напряжения во вторичной цепи, вызванном изменениями тока или напряжения в первичной цепи. Отметим, что ток в цепи «исток – канал – сток» IDS обусловлен только одним типом носителей, т. е., действительно, МДП‑транзистор является униполярным прибором. Поскольку области истока и стока сильно легированы, то они не оказывают влияния на ток канала, а только обеспечивают контакт к области канала.
Таким образом, МДП‑транзистор является сопротивлением, регулируемым внешним напряжением. К нему даже в большей степени, чем к биполярным приборам, подходит историческое название «транзистор», т. к. слово «transistor» образовано от двух английских слов – «transfer» и «resistor», что переводится как «преобразующий сопротивление».
