Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
МУКП-ТМиИЭТ-См-Прял.doc
Скачиваний:
1
Добавлен:
01.07.2025
Размер:
617 Кб
Скачать
☆

4.4. Требования к графической части

Технологическая схема изготовления узла выполняется в произвольном масштабе и должна содержать последовательность операций изготовления узла с указанием технологических режимов и рабочих сред.

Перечень чертежей деталей и узлов согласовывается с преподавателем. Чертежи выполняются карандашом в соответствии с требованиями ЕСКД.

Чертежи деталей должны иметь необходимое количество проекций, разрезов, сечений, позволяющих однозначно определить конструкцию детали.

Чертёж узлов должен содержать разрез основного вида, на котором указываются выполняемые или обеспечиваемые при изготовлении узла размеры и габаритные размеры.

Список литературы

1. Ж. М. Рабаи, А. Чандракасан, Б. Николич. Цифровые интегральные схемы. Методология проектирования. Digital Integrated Circuits. – 2-е изд. – М.: «Вильямс», 2007. – С. 912.

2. Р. Точчи, Дж. Уидмер, С. Нил. Цифровые системы. Теория и практика. Digital Systems: Principles and Applications. – 8-е изд. – М : «Вильямс», 2004. – С. 1024. 

3. Барыбин А. А. Электроника и микроэлектроника: физико-техноло-гические основы. – М. : Физматлит, 2006. – 424 с.

4. Пасынков В. А., Чиркин Л. К. Полупроводниковые приборы. – СПб.: Лань, 2002. – 480 с.

5. Смирнов А. Д. Технология приборов на арсениде галлия. – СПбГЭТУ, СПб, 1997. – 32 с.

6. Особенности технологии производства мощных генераторных ламп / Под ред. В. С. Прилуцкого.: Текст лекций. СПб.: Изд-во СПбГЭТУ»ЛЭТИ», 2005. – 128 с.

7. Современные технологические процессы в производстве мощных генераторных ламп / Под общ. ред. Ю. А. Быстрова. СПб.: Изд-во СПбГЭТУ «ЛЭТИ», 2009. 213 с.

Оглавление

1. ЗАДАНИЕ НА КУРСОВОЙ ПРОЕКТ И ИСХОДНЫЕ ДАННЫЕ

3

2. ТРЕБОВАНИЯ К ОФОРМЛЕНИЮ И СОДЕРЖАНИЮ КУРСОВОГО ПРОЕКТА

3

3. МЕТОДИЧЕСКИЕ МАТЕРИАЛЫ К КУРСОВОМУ ПРОЕКТИРОВА-НИЮ ПО ТЕХНОЛОГИИ ИНТЕГРАЛЬНЫХ МИКРОСХЕМ И ТВЕРДОТЕЛЬНЫХ ПРИБОРОВ И УСТРОЙСТВ

4

3.1. Динамика развития микротехнологии

4

3.2. Методология разработки и изготовления МИС

8

3.3. Активные и пассивные элементы МИС на Si

11

3.4. Активные и пассивные элементы на GaAs

16

3.5. Требования к оформлению технологического маршрута

22

4. МЕТОДИЧЕСКИЕ МАТЕРИАЛЫ К КУРСОВОМУ ПРОЕКТИРОВА-НИЮ ПО ТЕХНОЛОГИИ ВАКУУМНЫХ ПРИБОРОВ И УСТРОЙСТВ

24

4.1. Тематика курсового проектирования

24

4.2. Содержание курсового проекта

24

4.3. Методические указания по выполнению отдельных разделов курсового проекта

26

4.4. Требования к графической части

29

Список литературы

30

Редактор

Лицензия ЛР N

____________________________________ __________________________

Подписано в печать Формат 60x84 1/16. Бумага тип.N

Печать офсетная. Усл.печ.л.1,86. Уч. –изд.л.2,0.

Тираж экз. Заказ .

Издательско-полиграфический центр ГЭТУ

______________________________________________________________

Ротапринт МГП "Поликом"