- •Глава 4. Контакт металл-полупроводник
- •Термоэлектронная эмиссия, термодинамическая работа выхода
- •4.2. Система металл-вакуум-полупроводник, контактная разность потенциалов
- •4.3. Запорный (барьер Шоттки) и антизапорный контакты мп
- •4.4. Предельные случаи контакта мп
- •4.5. Распределение объемного заряда, концентрации подвижных носителей,
- •4.6. Барьер Шоттки в неравновесных условиях
- •4.6.1. Прямое смещение
- •4.7. Вольтамперная характеристика барьера Шоттки
- •4.7.1. Диффузионная теория выпрямления
- •4.6.2. Обратное смещение
- •Диодная теория выпрямления
- •4.7.3. Сравнение диффузной и диодной моделей
- •4.7.4. Температурная зависимость параметров вах запорного контакта
- •4.8. Реальный контакт металл – полупроводник
- •4.9. Емкость запорного контакта металл – полупроводник
- •4.10. Эквивалентная схема барьера Шоттки на переменном сигнале
- •4.11. Омический контакт
- •Реализация омических контактов
- •4.12. Применение барьера Шоттки в электронике
- •Контрольные вопросы
4.12. Применение барьера Шоттки в электронике
Приборы на основе барьера Шоттки работают на основных носителях заряда (надбарьерная эмиссия) и относятся к быстродействующим (нет эффектов накопления и рассасывания неравновесного заряда).
1. Детекторные и смесительные диоды СВЧ диапазона (f = (1…100) ГГц).
2. Импульсные диоды (tвосст = 10–9…10–11с).
3. Выпрямительные диоды характеризуются малым прямым падением напряжения, высоким быстродействием и КПД вторичных источников питания.
4. Канальный полевой транзистор с управляющим затвором на барьере Шоттки. Наиболее быстродействующий, активный усилительный элемент. Граничная частота до 100 ГГц.
5. Интегральные схемы на основе биполярных транзисторов со встроенным барьером Шоттки. Транзисторно – транзисторная логика ТТЛШ, инжекционная интегральная логика И2ЛШ и др. Включение параллельно коллектору барьера Шоттки повышает быстродействие в (2…5) раз.
6. Параметрические усилители на основе варикапов с барьером Шоттки.
7. Фотоприемники на основе барьера Шоттки.
8. Инжекционно – пролётные диоды. Усилители СВЧ сигналов.
Технология изготовления барьера Шоттки полностью совместима с технологией монолитных ИС. Это обстоятельство послужило основой широкого применения барьера Шоттки в больших и сверхбольших интегральных схемах (БИС, СБИС).
Контрольные вопросы
Что такое термоэмиссия и термодинамическая работа выхода?
Чем определяется контактная разность потенциалов в системе металл – вакуум – полупроводник?
Поясните образование запорных и антизапорных контактов металл – полупроводник.
Объясните распределение объемного заряда, концентрации подвижных носителей, поля и потенциала в барьере Шоттки.
Объясните эффект выпрямления тока в барьере Шоттки.
Нарисуйте вольт – амперную характеристику барьера Шоттки и энергетические диаграммы в прямом и обратном смещении.
Объясните температурную зависимость прямого падения напряжения и обратного тока барьера Шоттки.
Перечислите особенности реального барьера Шоттки, обусловленные зарядом поверхностных состояний и сил зеркального изображения.
Почему зарядная емкость запорного контакта уменьшается с увеличением обратного напряжения?
Как можно определить величину контактной разности потенциалов барьера Шоттки и уровень легирования полупроводника из вольтфарадной характеристики?
Нарисуйте эквивалентную схему барьера Шоттки на переменном сигнале. Почему дифференциальное сопротивление прямосмещенного контакта уменьшается с ростом прямого тока?
Какие требования предъявляются к омическому контакту?
Перечислите примеры применения барьера Шоттки в твердотельной электронике.
