- •Методические указания
- •1.Теоретическое введение к лабораторным работам по полупроводникам
- •1.1. Образование энергетических зон
- •1.2. Заполнение энергетических зон электронами и электрические свойства твердых тел
- •1.3. Собственные полупроводники
- •1.4. Примесные полупроводники
- •2. Определение энергии активации примеси в полупроводнике
- •2.1 Теоретическое введение
- •3. Исследование вольт - амперной характеристики термосопротивления
- •3.1 Теоретическое введение
- •3.2 Описание установки
- •2.2 Описание установки
- •3.3 Порядок выполнение работы
- •3.4 Теоретический минимум
- •4. Изучение фотопроводимости в полупроводниках
- •4.1 Теоретическое введение
- •4.2 Описание установки
- •4.3 Порядок выполнение работы
- •4.4 Теоретический минимум
- •5. Изучение выпрямляющих свойств полупроводниковых диодов
- •5.1. Теоретическое введение
- •Равновесное состояние p-n-перехода.
- •5.2 Описание установки
- •5.3 Порядок выполнения работы
- •5.4 Теоретический минимум
- •6. Определение закона затухания кристаллофосфора
- •6.1. Теоретическое введение
- •6.2 Описание установки
- •6.3 Порядок выполнения работы
- •6.4 Теоретический минимум
- •394026 Воронеж, Московский просп., 14
2. Определение энергии активации примеси в полупроводнике
Лабораторная работа 3.07
Цель работы: исследование температурных свойств кремниевых терморезисторов.
Принадлежности: установка для исследования терморезисторов.
2.1 Теоретическое введение
Различают собственную и примесную проводимость полупроводников. При собственной проводимости плотность тока определяется выражением
, (1)
где
- концентрация электронов и дырок в
собственном полупроводнике, <ve>
и <vp
> - их
средние скорости упорядоченного
движения.
Используя закон Ома в дифференциальной форме
,
(2)
получим формулу удельной электропроводности собственного полупроводника
(3)
В
полученном выражении
и
представляют
собой среднюю скорость упорядоченного
движения электронов и дырок при единичной
напряженности электрического поля и
называются подвижностью носителей.
Удельная электропроводность примесных полупроводников, обусловленная как собственными, так и примесными носителями (например, электронами), определяется выражением
(4)
Из уравнений (3) и (4) следует, что температурная зависимость электропроводности полупроводников определяется зависимостью от температуры концентрации собственных и примесных носителей и их подвижностью.
Подвижность свободных носителей в кристалле определяется их рассеянием на неоднородностях кристаллической решетки. При низких температурах преобладает рассеяние на ионизированных примесных атомах. Рассеяние состоит в том, что ионы примеси отклоняют электроны, проходящие вблизи них, и тем самым уменьшают скорость их упорядоченного движения. Согласно расчетам при низких температурах
~
T3/2
.
При высоких температурах основное значение имеет рассеяние электронов и дырок на тепловых колебаниях решетки, зависимость подвижности от температуры имеет вид
~
T-3/2.
График зависимости
показан на рис.1.
В
собственных и слабо легированных
полупроводниках электронный и дырочный
газ является невырожденным и его
концентрация весьма резко зависит от
температуры. Согласно расчетам
температурная зависимость концентрации
носителей заряда для собственных и
примесных полупроводников выражается
формулами
Рис. 1.
,
(5)
, (6)
где С1 и С2 – константы слабо зависящие от температуры, Еg – энергия активации собственных носителей, ЕD – энергия активации донорной, либо акцепторной примеси. Таким образом, концентрация собственных и примесных носителей растет с повышением температуры по экспоненциальному закону. Если по оси абсцисс отложить 1/Т, а по оси ординат ln n,то эта зависимость будет иметь вид ломаной линии (рис.2).
Рис.2. Рис.3
Область АВ соответствует низким температурам. При этих температурах происходит постепенное возбуждение примесных носителей: электронов в полупроводниках с донорной примесью и дырок в полупроводниках с акцепторной примесью. При достижении температуры Тs все примесные атомы ионизируются и наступает истощение примесных носителей. Их концентрация становится равной концентрации примесей и, следовательно, не зависит от температуры (участок ВС). Температура истощения примеси тем выше, чем больше энергия активации примеси и ее концентрация. При дальнейшем повышении температуры начинается интенсивное возбуждение собственных носителей (участок СД). Температура перехода к собственной проводимости Тi тем выше, чем больше ширина запрещенной зоны Еg.
Проанализируем
теперь температурную зависимость
электропроводности полупроводников,
исходя из зависимости от температуры
концентрации носителей и их подвижности.
Схематически
кривая зависимости
от
1/Т представлена
на рис.3.
Низкотемпературная область АВ отвечает примесной проводимости полупроводника, возникающей вследствие ионизации примесных атомов и появления примесных носителей. Подвижность носителей при этих температурах определяется рассеянием на ионизированных атомах примеси. В первом приближении этой зависимостью по сравнению с экспоненциальной можно пренебречь, считая что
, (7)
где
Логарифмируя (7), получим уравнение, описывающее прямую АВ
. (8)
Тангенс угла наклона прямой АВ к оси абсцисс равен
. (9)
Таким
образом, по графику зависимости
можно
определить энергию активации примесных
носителей
ЕD
или ЕА.
Область ВС простирается от температуры истощения примесных носителей TS до температуры перехода к собственной проводимости Тi. В этой области все примесные атомы ионизированы, но еще не происходит заметного возбуждения собственных носителей, вследствие чего концентрация носителей сохраняется постоянной. Поэтому, температурная зависимость проводимости полупроводника в этой области определяется температурной зависимостью подвижности носителей. Если основным механизмом рассеяния носителей в рассматриваемой области является рассеяние на тепловых колебаниях решетки, для которого характерно уменьшение подвижности с ростом температуры, то проводимость на этом участке будет падать (рис.3). Если же основным механизмом окажется рассеяние на ионизированных примесях, то подвижность, а следовательно, и проводимость в области ВС будет увеличиваться с ростом температуры.
Область СD соответствует переходу к собственной проводимости. В этом случае зависимостью подвижности от температуры по сравнению с экспоненциальной зависимостью концентрации можно пренебречь, представив выражение (3) в виде
,
(10)
где
.
Графиком
этой зависимости является прямая,
образующая угол
с осью абсцисс, тангенс которого
пропорционален ширине запрещенной зоны
. (11)
Резкая зависимость сопротивления полупроводников от температуры используется для устройства термосопротивлений.
