- •1. Классификация твердых тел по электрофизическим свойствам.
- •2. Основы зонной теории твердого тела.
- •4. Понятие эффективной массы электрона.
- •6. Плотность электронных состояний.
- •7. Функция Ферми-Дирака
- •8. Концентрация эл-ов и дырок в зонах.
- •9. Концентрация носителей заряда в невырожденном проводнике.
- •12. Температурная зависимость концентрации плотности заряда в полупроводниках
- •13. Температурная зависимость электропроводимости п/п-ов.
- •14. Квазиуровень Ферми.
- •10. Концентрация носителей заряда в вырожденном полупроводнике
- •11. Степень заполнения примесных уровней. Уравнение электронейтральности
- •15.Время жизни неравновесных носителей заряда. Межзонная рекомбинация
- •16. Фотопроводимость полупроводников. Эффект Дембера
- •17.Уравнение непрерывности
- •18. Дрейфовые и диффузионные токи
- •19 Диффузия и дрейф неравновесных носителей заряда в случае в случае монополярной проводимости
- •20. Диффузия и дрейф неосновных избыточных носителей заряда
- •21. Полупроводник во внешнем электрическом поле.
- •22. Контакт метал-полупроводник. Омический контакт
- •23.Выпрямление тока в контакте метал-полупровадник. Диоды Шотки
- •27. Выпрямление тока в р-n переходе.
- •26. Толщина слоя объемного заряда p/n перехода.
- •28, Вах тонкого р-н перехода
- •29. Барьерная и диффузионная емкости p-n-перехода
- •31. Фотоэффект на p-n-переходе
- •32. Гетеропереход.
- •33. Принцип действия б.Т. Физические параметры б.Т.
- •36. Эффект поля. Мдп-транзисторы.
- •24. Емкость запорного слоя Шотки
- •3. Заполнение энерг. Зон эл. И деление тел на металы, диэл., полупров.
28, Вах тонкого р-н перехода
Толщина
объемного заряда
![]()
![]()
;
![]()
;
;
;
;![]()
![]()
;
;
;![]()
;
![]()

;
;
;
;
;
![]()
![]()
![]()
![]()

;
Если вместо :
![]()
то

![]()


29. Барьерная и диффузионная емкости p-n-перехода
При
подаче на p-n-переход
переменного напряжения проявляются
емкостные свойства.Образование
p-n-перехода
связано с возникновением пространственного
заряда, создаваемого неподвижными
ионами атомов доноров и акцепторов.
Приложенное к p-n-переходу
внешнее напряжение изменяет величину
пространственного заряда в переходе.
Следовательно, p-n
переход ведет себя как своеобразный
плоский конденсатор, обкладками которого
служат области n-
и p-типа
вне перехода, а изолятором является
область пространственного заряда,
обедненная носителями заряда и имеющая
большое сопротивление.Такая емкость
p-n-перехода
называется барьерной. Барьерная емкость
CБ
может быть рассчитана по формуле
![]()
где
S
- площадь p-n-перехода;
·0
- относительная ()
и абсолютная (0)
диэлектрические проницаемости;
- ширина p-n-перехода.
Особенностью барьерной емкости является
ее зависимость от внешнего приложенного
напряжения. С учетом (2.2) барьерная
емкость для резкого перехода рассчитывается
по формуле: ,
где
знак ” + “ соответствует обратному , а
”-“ прямому напряжению на переходе.
Зависимость барьерной емкости от
обратного напряжения называется
вольтфарадной характеристикой
(см.
рис. 2.6). В зависимости от площади перехода,
концентрации легирующей примеси и
обратного напряжения барьерная емкость
может принимать значения от единиц до
сотен пикофарад. Барьерная емкость
проявляется при обратном напряжении;
при прямом напряжении она шунтируется
малым сопротивлением rpn
.Кроме барьерной емкости p-n-переход
обладает так называемой диффузионной
емкостью. Диффузионная емкость связана
с процессами накопления и рассасывания
неравновесного заряда в базе и
характеризует инерционность движения
неравновесных зарядов в области базы.
Диффузионная емкость может быть
рассчитана следующим образом: ,
где
tn
-
время жизни электронов в базе. Величина
диффузионной емкости пропорциональна
току через p-n-переход.
При прямом напряжении значение
диффузионной емкости может достигать
десятков тысяч пикофарад. Суммарная
емкость p-n-перехода
определяется суммой барьерной и
диффузионной емкостей. При обратном
напряжении CБ
> CДИФ;
при прямом напряжении преобладает
диффузионная емкость CДИФ
>> CБ.
Рис.
2.7
Эквивалентная схема p-n-перехода на переменном токе представлена на рис. 2.7. На эквивалентной схеме параллельно дифференциальному сопротивлению p-n-перехода rpn включены две емкости CБ и CДИФ ; последовательно с rpn включено объемное сопротивление базы rБ. С ростом частоты переменного напряжения, поданного на p-n-переход, емкостные свойства проявляются все сильнее, rpn шунтируется емкостным сопротивлением и общее сопротивление p-n-перехода определяется объемным сопротивлением базы. Таким образом, на высоких частотах p-n-переход теряет свои нелинейные свойства.
