- •О выполнении курсовой работы
- •4 Оксид цинка распыляемые мишени
- •Методы распыления тонкопленочных материалов:
- •1.1 Термическое испарение из жидкой фазы
- •1.2. Термическое « взрывное» испарение
- •1. 3. Ионное распыление
- •1. 4. Магнетронное распыление
- •Детальное рассмотрение магнетронного распыления
- •Источники питания распылительных систем
- •3.2 Подложкодержатель
- •Контроль технологического газа
- •Многофункциональные установки для нанесения покрытий
- •Конструкция магнетрона
- •Оксид цинка распыляемые мишени
Методы распыления тонкопленочных материалов:
1.1 Термическое испарение из жидкой фазы
Термическое испарение - самый старый и известный способ получения тонких пленок силицидов. Метод состоит в том. что напыляемый материал нагревается в вакууме до температуры, при которой он расплавляется и начинает интенсивно испаряться. В вакууме МО"*110 5 мм рт. ст. длина свободного пробега испаренных молекул намного больше расстояния между подложкой и источником, поэтому испарившиеся частицы образуют направленный молекулярный поток. На размешенной на их пути подложке происходит осаждение материала в виде тонкой пленки.
Для испарения резистивных материалов из силицидов металлов используют обычно косвенный подогрев. В этом случае электрическим током разогревается вольфрамовый испаритель, на котором находится испаряемый материал.
Главное достоинство описанного метода - его простота. Недостатков у него, к сожалению, больше. К ним относятся:
• Невозможность испарения тугоплавких металлов
• Трудность испарения сплавов (к ним относятся и силициды) ввиду различия скоростей испарения отдельных их компонентов, что обусловлено различием в значении упругости их паров.
• Химическое взаимодействие расплава напыляемого материала
с материалом подогревателя. В результате характеристики полученных пленок отличаются от соответствующих характеристик исходного материала. Причиной этого является изменение структуры пленок и загрязнение их мате- риалом нагреватели.
1.2. Термическое « взрывное» испарение
В метоле термического «взрывною» испарения порошкообразный испаряемый материал сложного состава из вибробункерного устройства непрерывно подается на испаритель, предварительно нагретый до температуры, превышающей температуру испарения наиболее тугоплавкого компонента. В результате происходит мгновенное «взрывообразное» испарение порции материала. Температура испарителя должна быть выбрана очень тщательным образом, так как при слишком высокой температуре испарителя частицы материала могут отражаться от испарителя, не расплавляясь и не испаряясь.
Подача материала на испаритель тоже должна осуществляться со строго определенной постоянной скоростью, равной скорости ею испарения. Только тогда состав пленки будет соответствовать составу исходного материала
Применение метода «взрывного* испарения позволяет получать высококачественные резистивные пленки из металлосилицилных сплавов, но технологически метод сравнительно сложен.
1. 3. Ионное распыление
Ионное распыление металлосилицилных сплавов имеет ряд принципиальных технологических преимуществ:
• Многокомпонентные материалы не фракционируют, и состав пленки примерно соответствует составу исходного материала
• Мишень используется многократно, что обеспечивает высокую чистоту и воспроизводимость состава пленки
• Поддерживая постоянным ток разряда, можно строго контролировать скорость осаждения
• Высокая энергия распыленных атомов и ионов рабочею газа способствуют повышению адгезии пленки к подложке и выбиванию из пленки атомов загрязнений.
Несмотря на перечисленные принципиальные преимущества, метол ионного распыления сначала ограниченно использовался в электронной промышленности для получения резистивных слоев. Объясняется это тем, что из-за сравнительно низких скоростей рас- пыления пленки загрязнялись молекулами остаточных газов. Этот недостаток удалось преодолеть только при использовании магнетронных источников распыления.
