- •Исходные данные для проектирования:
- •Описание и анализ конструкции диффузионного резистора.
- •Предварительный расчет полупроводникового диффузионного резистора.
- •Оптимизация конструкции диффузионного резистора
- •Итерация 1
- •Итерация 2
- •Итерация 3
- •Итерация 6
- •Разработка основных этапов технологического процесса изготовления диффузионного резистора в составе имс.
- •Итерация 4
- •Итерация 5
- •1. Механическая обработка поверхности рабочей стороны кремниевой пластины р-типа до 14-го класса частоты и травление в парах плавиковой кислоты для удаления нарушенного слоя.
- •2. Стравливание окисла и подготовка поверхности перед процессом эпитаксиального наращивания.
- •3. Формирование эпитаксиальной структуры п-типа.
- •4. Окисление поверхности эпитаксиального слоя для создания защитной маски при разделительной диффузии.
- •5. Фотолитография для вскрытия окон под разделительную диффузию.
- •6. Вскрытие окон в окисле под разделительную диффузию примеси.
- •7. Окисление поверхности для базовой диффузии.
- •8. Фотолитография для вскрытия окон под базовую диффузию.
- •9. Формирование базового слоя диффузией примеси р-типа.
- •10. Окисление поверхности.
- •11. Фотолитография для вскрытия контактных окон.
- •12. Процесс формирования межсоединений.
- •13. Местная фотолитография и травление участков металлической пленки.
- •Выводы:
- •VI. Список использованной литературы
Выводы:
Цель данного курсового проекта – научиться проектировать отдельные элементы твердотельных интегральных микросхем, реализуемых в условиях серийного производства по планарной технологии. При выполнении курсового проекта я ознакомился со способом проектирования диффузионного резистора, который входит в состав интегральной микросхемы, реализуемой в условиях серийного производства по планарной технологии, приобрёл опыт самостоятельного решения инженерных задач в области проектирования элементов интегральных устройств РЭС, а также опыт работы со стандартами и справочниками, методиками проектирования. В ходе выполнения курсовой проект, я применял на практике теоретические знания по общеинженерным и специальным дисциплинам, различные методы расчета. В итоге выполнения данной работы я выбрал технологию, спроектировал процесс и технологическую оснастку для изготовления диффузионного резистора.
VI. Список использованной литературы
Данилов И.И. Методические указания к курсовому проектированию по курсу «Интегральные устройства РЭС». М.: Издательство МГТУ. 2003. 7 с.
Парфенов О.Д. Технология микросхем: учебное пособие для вузов по специальности «Конструирование и производство ЭВА». – М.: Высшая школа, 1986. – 320 с., ил.
Парфенов О.Д. Расчет и конструирование интегральных резисторов: Методические указания по курсовому проектированию по курсу «Микроминиатюризация электронно-вычислительных средств». М.: Издательство МГТУ. 1994. 28 с., ил.