- •Часть 2 стереотипное
- •I. Стереотипное оборудование
- •1 . Оборудование для изготовления матриц
- •1.1. Подготовка матричного картона и условия его хранения
- •1.2. Увлажняющие устройства
- •1.1. Влажность матричного картона в зависимости от способа матрицирования
- •1.3. Оборудование для тиснения матриц
- •Техническая характеристика пресса смп-400
- •1.4. Устройства для сушки картонных матриц
- •1.2. Технические характеристики матрицесушильных устройств
- •2. Литейное оборудование
- •2.4. Гидравлические и тепловые особенности литейного процесса при подаче сплава снизу вверх
- •2.6. Тепловой расчет электронагревательных установок стереотипно-литейного оборудования
- •2.6.1. Основы динамики нагрева
- •2.6.2. Определение мощности и основных конструктивных размеров эну
- •2.1. Примерные значения кпд для некоторых эну, применяемых в формном оборудовании
- •2.6.3. Расчет тепловой изоляции эну
- •2.7.1. Конструкция полуавтомата 2слп-372
- •2.7.3. Охрана труда при отливке стереотипов
- •3. Оборудование для механической обработки стереотипов
- •Техническая характеристика станка гр
- •(До обработки)
- •11 (После обработки)
- •II. Фотомеханическое оборудование
- •4. Репродукционные фотоаппараты
- •4.1. Классификационные признаки репродукционных фотоаппаратов
- •4.2. Объективы для основных репродукционных работ
- •4.2. Расчет основных оптических, метрических
- •I g /ориг;,мМ
- •4.3. Техническая характеристика установок рск-6, 2рск-6 и рск-8
- •4.4. Технические данные аппаратов рвд-40 и ргд-70
- •4.5. Репродукционные фотоувеличители-цветоделители
- •Каретка вакуумного стола
- •Трубчатая ксеноновая лампа дКсТ-2000
- •5 . Электронное оборудование для изготовления фотографических и печатных форм
- •5.8. Принципиальная схема анализирующего устройства
- •5.5. Светотехнический расчет светооптических систем
- •Элемент развертки
- •1 М е ш к о в в. В. Основы светотехники. М., 1979. С. 33—40.
- •5.6. Электронная цветоделительная машина (эцм)
- •Т/ твыв
- •6.1. Особенности машинной обработки фотоматериалов
- •6.4. Отечественное проявочное оборудование
- •7. Оборудование для изготовления форм высокой печати методом растворения металла
- •7.1. Оборудование для обработки формных пластин-копий
- •Технические данные установки фор-50м
- •7.3. Расчет системы охлаждения травильной машины фтэ-50н
- •8. Оборудование для изготовления фотополимерных форм
- •Т ехническая характеристика фкф-45
- •9. Оборудование для изготовления форм офсетной печати
- •9.1. Состав ванн и режимы их работы
- •9.3. Гальванолинии для изготовления полиметаллических пластин
- •9.2. Пример разбивки общего времени на периоды
- •9.4. Устройство гальванованн
- •9.3. Данные для расчета времени наращивания слоя металла
- •9.6. Монтажно-копировальное оборудование
- •9.7. Поточные линии для обработки полиметаллических офсетных копий
- •9.4. Техническая характеристика поточных линий
- •10. Оборудование для изготовления форм глубокой печати
- •10.2. Обработка формного цилиндра
- •10.7. Установки для травления форм глубокой печати
- •10.8. Автоматические линии
- •10.1. Основные технические параметры линии
- •10.11. Расчет основных узлов и устройств установок для изготовления форм глубокой печати
- •10.11.1. Параметры ванн
- •10.11.2. Расчет привода вращения цилиндра
- •10.11.3. Расчет мощности привода мешалок
- •10.13. Охрана труда при изготовлении форм глубокой печати
- •11. Вопросы охраны природы в формных цехах полиграфических предприятий
- •135 Лазерные синтезирующие устройства
- •71 Развертка 117
- •I. Стереотипное оборудование 5
- •Часть 2.
5.5. Светотехнический расчет светооптических систем
Светооптическая система анализирующего устройства состоит из источника света с источником питания и оптической системы. Питаться от сети переменного тока осветитель не может из-за нестабильности напряжения в сети и недостаточной тепловой инерции нити накала. Для питания осветителя получают ток
повышенной частоты либо от синхронного генератора, либо от камертонного (или кварцевого) генератора.
Светооптическая система с неподвижным РЭ. Светотехническая система приведена на рис. 5.13. Задача расчета —найти световой поток, поступающий от анализируемого изображения на фотопреобразователь, и реакцию последнего.
Рис. 5.13. Светооптическая система:
а —с неподвижным развертывающим элементом; б — увеличенный
Элемент развертки
Источник света в заданной установке — лампа накаливания с непрерывным спектром излучения. Практически используется лишь часть светового потока этого источника, прошедшая через прямоугольное отверстие площадью ан в непрозрачном экране. Площадка ан, которую для упрощения расчетов будем считать малой, расположена симметрично и перпендикулярно по отношению к оптической оси конденсорной линзы L4. В нижеследующем расчете под источником света будем понимать непосредственно площадку Он-
Яркость площадки ан, приходящуюся на интервал длин волн d%y обозначим через Bxdi. Предполагаем, что яркость не зависит от направления, т. е. протяженный источник ан считаем лам-бертовским. Световой поток, соответствующий интервалу dk и и падающий на линзу Lu имеет вид
ЛФок = cos / Ao)x <jH Bx dk,
136
137
где До)1 — телесный угол, под которым видна линза LA с места, где расположена площадка <тн; i — угол, который ось светового пучка составляет с нормалью к площадке бн (в нашем случае 1=0).
При прохождении через линзу Li световой поток ослабляется за счет отражений и за счет поглощения в материале линзы. Введя прозрачность qY (<7i<l), запишем световой поток на выходе линзы L{ в виде
с1Ф'ок = qx аМ>оь
т. е.
ЛФоя, = qx Ащ он Вх dk. (5.23)
Прозрачность дч вообще хотя и слабо, но зависит от длины волны, однако этой зависимостью можно пренебречь.
Изображение источника света ан на изображающей плоскости MN будет представлять собою площадку <Хн, причем
-^- = AfJf (5.24)
где Mv — линейное увеличение линзы Lu определенное как
Мг=-?±-. (5.25)
На рис. 5.13,6 представлен в увеличенном виде элемент светооптической системы с площадкой Од. Световой потокd<Doa, падает на а„ (изображение источника ан) и на <т0св (сгосв— площадка на барабане (см. рис. 5.14,6)). Очевидно,
ан =огосв cos a. (5.26)
Удобно представить, что световой поток попадает на аОСв от Он как от источника. Можно записать
йФ'м = ВхdAAco,' ai, (5.27)
где BidX — яркость ламбертовского источника <t« ; Aw'— телесный угол, под которым видна линза Li с места, на котором расположена площадка ст^. С учетом (5.26) имеем
dOix = Вх dlAco J cos aa0CB. (5.28)
Приравняв правые части (5.23) и (5.27), получим
qx Вх ЛА©! ан = Вх я&До' о^ (5.29)
откуда
Вх^^Вх-^-.-^.
138
Так как
Afih/А©; = 6J/aJ=Ai; и
Щ
1 4а?
то с учетом (5.24)
Bi=qiBk. (5.30)
Далее считаем, что поток d<D6x, упавший на площадку а0св, частично будет поглощен, а частично диффузно рассеется. Площадку сгосв рассматриваем, таким образом, как ламбертовский излучатель (в общем случае это, конечно, не так). Поток, отраженный от Оосв, запишется в виде
ЛФх-рх</Ф6х, (5.31)
(5.32) (5.33) (5.34)
где рх — спектральный коэффициент отражения (уравнение (5.31), собственно, определяет рх). Величина й!Фх/аосв называется светимостью площадки 0Осв. Если яркость площадки обозначить через Восв.х^Я, то (для ламбертовского излучателя)
d*x
Ж
-пВп
<*осв
Таким образом,
.dXon
<*Фх = лВп
Возвращаясь к (5.31), имеем (с учетом (5.33)):
do.
dkon
OCB,A
dQ)k =
Рх
Рх
яВосвЛа°св
Для определения Восв.а. приравниваем правые части (5.27) и (5.34):
=:BxA(Di'(Xh.
Рл
Подставив сюда ан=аосвС05 а и А(о[ =«DJ/4ftJ, найдем
Вп
= Pa,<7iBa
cos a.
вД:
(5.35)
Линзой L2 свет собирается не со всей площадки аос лишь с некоторой ее части ар, причем
(5.36)
Or>=qo0
Коэффициент q называется прозрачностью диафрагмы d. •это название станет более наглядным, если q придать другую
139
(5.38)
(5.40)
(5.42)
(5.43)
адиаф=<ТрЛ^,
где М2 — линейное увеличение линзы L2. Из (5.36) имеем
9 = -^ , (5.37)
аосв
где а —изображение площадки аосв, которое, как уже указывалось, не попадает полностью в диафрагму. Уравнение (5.37) дает другую форму определения q.
С площадки ар на линзу L2 падает поток
йФ
диаф.Я
= 0ГР^освЛ^
4а*
На выходе линзы L2 поток будет равен
^ФдиафЛ =^2 ^Фдиаф.А,,
(5.39)
где q2 — прозрачность линзы L2; зависимостью q2 от А, можно пренебречь. Из (5.38); (5.39); (5.36); (5.35) получим
*1>диафЛ = Pxfc qq2 -^JfL А «^ Вк dk.
Учтем еще, что согласно (5.26) и (5.24):
cos a cosa
Тогда
ь\
^ФдиафЛ = ^Р^1^2^Вя^^^.^. (5.41)
lb Ь* а\
Из формулы линзы (для Li):
A+A = i
А
находим
<"-41+iH(,+-sr)-
Аналогично получаем для а2:
*-'■('+-к\
140
В (5.42) и (5.43) /i и f2 — фокусные расстояния соответствующих линз. Подставив а{ и а2 из (5.42) и (5.43) в (5.41), на-т ходим
^ФдиафЛ-^?1^2Рх °\
2 °\
ОяВЫК
(5.44)
где Oi и Ог — относительные размеры отверстий линз Li и Z-s (Oi=D\/fu 02=D2/f2). Очевидно, aHBxdk = d/*,, где rf/x — сила света источника aH, соответствующая интервалу dX. Так как
0!/4(,+-^г)'=Л<""
то выражение (5.44) можно переписать в виде
^ФдиафЛ =—Я1 Wi- у-т; Р* Фоя. <&; (5.45>
(»+ — У
здесь фоя = онВк Дам и является спектральной плотностью потока излучения (от <тн) с длиной волны к.
Полный поток, поступающий на фотопреобразователь, получим интегрированием выражения (5.45) по всем Я от 0 до оо.
ФдиаФ = у<71<7<72ре- ^7~т;фо. (5-46*
(,+1г)
где Ф0 — полный световой поток, излучаемый источником ан, т, е.
а ре—интегральный коэффициент отражения, определяемый формулой1:
Pe = if^. (5.47)
Коэффициент ре должен определяться экспериментально: с помощью спектральной техники находят спектральную плотность потока излучения источника (рок, а рх находят с помощью определения (5.31), измеряя отраженный поток йФь и деля его на падающий поток йФ'о%\ окончательно используют определе-
