- •Реферат Дипломная работа содержит 43 страницы, 23 рисунка, 3 таблицы, библиография содержит 11 наименований.
- •Цель работы:
- •Рэферат
- •Мэта працы:
- •Список определений
- •Ведение
- •1.Обзорная часть
- •1.1 Применения нитридов тугоплавких металлов
- •1.2.1 Дуговые методы нанесения
- •1.2 Методы получения нитридных покрытий
- •1.2.2 Метод лазерной абляции и отжига покрытий
- •1.2.3 Магнетронные методы
- •1.3 Особенности магнетронного метода
- •1.3.1 Гистерезисные явления при реактивном распылении
- •1.3.2 Методы контроля и управления реактивным магнетронным распылением (рмр)
- •1.3.3 Оптические методы контроля
- •1.4 Методы диагностики нитридных покрытий
- •2 Экспериментальные оборудования и экспериментальные результаты
- •2.1 Описания экспериментальных установок
- •2.1.1 Установка для магнетронного осаждения слоев
- •2.1.2 Установка для лазерной обработки материала
- •2.1.3 Оборудования оптической диагностики тонко пленочных структур
- •2.2 Методика формирования тонких пленок Ti
- •2.3 Влияния лазерной обработки на свойства нитридных покрытий
- •2.3.1 Структурные морфологические свойства
- •2.3.2 Оптические свойства
- •Заключение
- •Список литературы
Список литературы
Дьюли, У. Лазерная технология и анализ материалов / У. Дьюли – перевод с английского Е.А. Верного, В.Н. Сошникова. – Москва: Мир, 1986. – 502с.
Данилин, Б.С. Применение низко-температурной плазмы / Б.С.Данилин. – Москва: Энергоатомиздат, 1989. – 310с.
Делоне, Н.Б. Взаимодействие лазерного излучения с веществом / Н.Б. Делоне. – Москва: Наука, 1989. – 250с.
Полещенко, К.Н. Физические методы анализа материалов: учеб. пособие / К.Н. Полещенко [и др.]; под общ. ред. К.Н. Полещенко. – Омск: Изд-во СибАДИ, 2003. – 340с.
Бурмаков, А.П. Спектроскопическая система контроля расхода газов и содержания примесей в процессе магнетронного осаждения пленок / А.П. Бурмаков, В.Н. Кулешов // Журнал прикладной спектроскопии. 2007. – 32 с.
Достанко, А.П. Технологические процессы и системы в микроэлектронике: плазменные, электронно-ионно-лучевые, ультразвуковые / А.П. Достанко. – Минск: БГУ, 2009. – 105с.
Терри, Л. Альфорд. Леонард К. Фельдман. Джеймс В. Майер Фундаментальные основы анализа нанопленок Л. Терри [и др.]; под общ. ред. Л. Терри – перевод с английского А.Н. Образцов, М.А. Долганов. –Москва: Научный мир, 2012. – 391 с.
Пячин, С.А. Новые технологии получения функциональных наноматериалов: лазерная абляция, электроискровое воздействие / С.А. Пячин, М.А. Пугачевский. – Хабаровск, 2013. – 38 с.
Кинетические свойства тонких пленок ТiN, полученных методом реактивного магнетронного распыления / М.Н. Солован [и др.]; под общ. ред. М.Н. Солован. – Украина, 2013. – 4 с.
Берлин, Е.В. Получения тонких пленок реактивным магнетронным распылением / Е.В. Берлин, Л.А. Сейдман. – Москва: Техносфера, 2014. – 5 с.
Воздействие наноимпульсного лазерного излучения на тонкие пленки TiAlN/Si / Г.Д. Ивлев [и др.]; под общ. ред. Г.Д. Ивлев. – БГУ: Минск, 2015. – 3 с.
