- •Основы электрохимической технологии
- •1. Электролиз с твердым катодом и фильтрующей диафрагмой
- •2. Физико-химическая сущность мембранного способа производства хлора и щелочи. Устройства мембран, их свойства.
- •4 Теоретические основы и закономерности электроосаждения металлических покрытий. Влияние различных факторов на структуру и свойства гальванических осадков.
- •6. Электрохимическое оксидирование металлов. Назначение и сущность процесса.
- •9. Процессы протекающие в электролизере и гидролизере при получение пероксида водорода, влияние технологических факторов на выход пероксида водорода.
- •10. Вторичные источники тока. Щелочные аккумуляторы.
- •11. Классификация методов производства хлора и щелочи, их сравнительная характеристика.
- •13. Типы применяемых анодов. Растворимые и нерастворимые аноды.
- •16 Основные свойства медных порошков область применения, способы получения.
- •17 Химические покрытия. Металлизация диэлектриков
- •20 Процессы на электродах и в электролите при электролитическом рафинировании меди.
- •21 Классификация электрохимических производств. Преимущества и недостатки.
- •Коррозия и защита металлов
- •1 Основные факторы электрохимической коррозии
- •2 Химический и электрохимический механизм коррозии
- •4 Термодинамическая возможность электрохимической коррозии. Стандартные и стационарные электродные потенциалы
- •5 Коррозия с водородной деполяризацией
- •6 Протекторная защита
- •8 Ингибиторная защита
- •10 Коррозия с кислородной деполяризацией
- •14 Методы и цели исследования и контроля коррозионных процессов. Коррозионный мониторинг.
- •16 Теоретические аспекты коррозионных процессов
- •17 Подземная и электрокоррозия
- •Процессы и аппараты
- •1 Гидростатика и ее основные законы
- •2 Гидродинамика режимы течения жидкости
- •3 Гидравлическое сопротивление, методы его расчета
- •4 Перемещение жидкости и газов машины для перемещения жидкости и газов
- •5 Неоднородные системы и методы их разделения
- •6 Аппараты для гравитационного осождения неоднородных систем
- •8 Фильтрование, фильтрующая аппаратура
- •10 Псевдоожижение, применение
- •12 Способы переноса тепла. Нагревающие и охлаждающие агенты.
- •15 Выпаривание
- •16 Многокорпусное выпаривание
- •19 Абсорбция
- •Поверхностные и пленочные абсорберы
- •20 Адсорбция
- •21 Простая перегонка, физ сущ
- •22 Ректификация
- •23 Экстракция
17 Химические покрытия. Металлизация диэлектриков
Химические покрытия представляют собой тонкий плотный слой окисла металла детали, образующийся на ее поверхности под действием тех или иных реагентов. Наиболее широкое применение из химических покрытий получили оксидирование и фосфатирование.
Оксидирование применяют для защиты от коррозии черных и цветных металлов. Окисные пленки могут быть получены химическим способом и электрохимическим (анодное оксидирование или анодирование). Химический способ может заключаться в нагреве детали в атмосфере водяного пара или расплавленной селитры. При этом на поверхности образуется защитная пленка толщиной около Iмкм. Таким способом получают, в частности, изоляционные пленки на трансформаторных пластинах. Чаще всего химическое и электрохимическое оксидирование производится в растворе едкой щелочи. Электрохимическое оксидирование имеет длительность 10-30 мин. при анодной плотности постоянного тока 5-10 А/дм3 температуре электролита 120°С. Толщина и качество пленок при химическом и электрохимическом оксидировании практически одинаковы (0,6-3 мкм). Пленки эластичны, но не прочны. Защищают от коррозии только в легких условиях работы. Защитная способность их может быть повышена обработкой смаэочными маслами или покрытием лаками. Химическому оксидированию подвергают, в основном, сталь, когда нужен черный цвет детали, а другие покрытия недопустимы по характеру ее работы. Анодированию подвергаются детали из алюминия и его сплавов; пленки получаются светло-серого цвета или бесцветные толщиной 3-12 мкм.
Фосфатирование применяют в сочетании с защитными смазками или лакокрасочными покрытиями для предохранения черных металлов, магния, цинка от коррозии. Фосфатный слой обладает хорошим сцеплением с основным металлом, прочно удерживает масла, лаки и краски, имеет высокое электрическое сопротивление и выдерживает напряжение до 1200 В. Жаростойкость пленки составляет 400-500°С. Фосфатные покрытия используются для изоляции трансформаторных, роторных и статорных пластин. Фосфатирование применяется также для уменьшения трения при разного рода вытяжках и для изоляции поверхности при лужении,цинковании и т.п.
Образование защитной пленки происходит химическим путем при погружении деталей в ванну, содержащие фосфорнокислые соли железа и марганца. Толщина пленки составляет 2-1Ь мкм. Цвет покрытия - светло - или темно-серый. Для повышения коррозионной стойкости необходимо производить дополнительную обработку, заключающуюся в нанесении жировых пленок, лаков, красок.
МЕТАЛЛИЗАЦИЯ Д Устранение недостатков, связанных с наличием зазора между диэлектриком и обкладкой можно осуществить металлизацией диэлектрика, то есть непосредственным нанесением тонкого слоя металла на поверхность диэлектрика. При этом достигается значительная экономичность металла, так как толщина металла меньше. Для металлизации диэлектриков существуют следующие методы: химический; вжигания; испарения в вакууме; катодного распыления.
Химический метод. Применялся раньше для серебрения слюды. Слой серебра осаждался из раствора азотно-кислого серебра с присадками аммиака и щелочи, при добавлении к этой основной смеси раствора, содержащего небольшое количество серной кислоты, сахара и спирта. Недостатками метода являлись: необходимость погружения диэлектрика в раствор, приводящее к следам электролита на поверхности диэлектрика, что ухудшало его свойства (даже при тщательной промывке); необходимость предварительной сложной подготовки поверхности слюды для улучшения ее сцепления с серебром; зависимость процесса серебрения от температуры окружающей среды.
В
настоящее время этот метод не применяется.
Метод
вжигания –
заключается в нанесении на поверхность
диэлектрика специальной пасты, содержащей
мелкодиспергированный металл или его
соединения и органическую связку, с
последующей сушкой для удаления летучих
компонентов связки и обжигом при высокой
температуре, достаточной для сгорания
твердых частей органической связки и
образования слоя металла, плотно
закрепленного на поверхности диэлектрика.
Этот метод не пригоден для производства
конденсаторов с органическим диэлектриком.
Метод вжигания применялся для серебрения
слюды. В настоящее время используют для
этого метод испарения в вакууме. Метод
вжигания применяется в производстве
керамических конденсаторов (серебрение
керамики). При изготовлении монолитных
керамических конденсаторов обкладки
должны быть нанесены не на обожженную
керамику, а на «сырые» керамические
пленки, которые проходят обжиг в
металлизированном виде. Так как
температура обжига керамики равна
1300÷1400 0С
и выше, применение серебра с температурой
плавления 960 0С
не допустимо и приходится заменять его
в составе пасты платиной и палладием.
К недостаткам серебра как материала
для обкладок можно отнести кроме
недостаточно высокой температуры
плавления склонность к миграции, то
есть ионы серебра могут проникать как
в толщину диэлектрика так и перемещаться
по его поверхности. Особенно легко
серебро проникает в органические
диэлектрики, но при увлажнении этот
процесс может иметь место и в неорганических
диэлектриках типа керамики и слюды.· Метод
испарения металла в вакууме. Заключается
в нагреве металла в вакуумной камере,
испарение его и осаждение паров металла
на поверхности диэлектрика тоже
находящегося в вакуумной камере.
Применение вакуума обеспечивает
отсутствие окисления испаряемого
металла, снижение его точки кипения и
получение прямолинейного движения
атомов металла от испарителя к поверхности
диэлектрика. Этот метод пригоден для
органических и неорганических
диэлектриков. Метод испарения в вакууме
широко применяется для серебрения
слюды. При атмосферном давлении
температура кипения серебра равна
1955 0С
, а при давлении
мм.
рт. ст. температура кипения равна 1050 0С.
Этот способ позволяет получать слюдяные
конденсаторы высокого качества. При
металлизации органических диэлектриков,
имеющих вид длинных тонких лент,
намотанных в рулоны (конденсаторная
бумага, синтетические пленки) процесс
ведут непрерывно, пропуская ленту над
испарителем. После окончания металлизации
вакуум снимают и достают металлизированный
рулон (в качестве металла используют
цинк и алюминий). Производят как
одностороннюю металлизацию, так и
двухстороннюю – исключающую воздушный
зазор между обкладками и диэлектриком.
Метод
катодного распыления металла. Применяется,
когда высокая температура кипения
тугоплавкого металла не позволяет
успешно применить метод испарения в
вакууме. Катодом является испаряемый
металл, анодом – подложка, на которую
наносится слой металла. В вакуумную
камеру после откачки подают инертный
газ. Этот метод используют редко, так
как мала скорость создания металлического
слоя, в основном в производстве
тонкопленочных конденсаторов с
неорганическим нагревостойким
диэлектриком, требующих применения
обкладок из тугоплавкого металла.
