- •5.9.1. Увеличение проводимости базы
- •5.9.2. Диффузионное поле и дрейфовые токи ннз
- •5.9.3. Изменение времени жизни в базе
- •5.9.4. Амбиполярные подвижность и коэффициент диффузии, рассеяние носителей друг на друге
- •Амбиполярные коэффициент диффузии и подвижность
- •Рассеяние носителей друг на друге
- •5.9.5. Ослабление потенциальной зависимости тока через p-n переход
- •Снижение эффективности несимметричного p-n перехода
- •5.10. Суммарный ток p-n перехода
- •Изменение температурной зависимости прямого падения напряжения
- •5.11. Реактивные свойства p-n переходов
- •5.11.1. Зарядная емкость p-n перехода
- •5.11.2. Диффузионная емкость p-n переходов
- •5.11.3. P-n переход на малом переменном сигнале
- •5.11.4. Индуктивность p-n перехода
- •5.12. Пробой p-n перехода
- •5.12.1. Тепловой пробой
- •5.12.2. Лавинный пробой
- •Критерии развития лавинного пробоя
- •Обратный ток в режиме лавинного пробоя
- •Зависимость напряжения пробоя от концентрации или градиента концентрации примеси
- •Температурная зависимость напряжения пробоя
- •Расчёт напряжения лавинного пробоя p-n перехода при произвольном профиле легирования
- •5.12.3. Туннельный пробой
- •5.12.4. Инжекционный или токовый пробой
- •5.12.5. Влияние конструкции и структурных несовершенств p-n перехода на лавинный пробой
- •Напряжение пробоя планарного p-n перехода
- •Планарный p-n переход с неравномерно легированной базой
- •Поверхностный пробой
- •Влияние структурных несовершенств, микроплазменный пробой
- •5.12.6. Пути повышения пробивного напряжения p-n перехода
- •Конструкторско-топологические методы
- •Меза – структура
- •Планарный p-n переход с полевой обкладкой
- •Охранное кольцо планарного p-n перехода и барьера Шоттки
- •Делительные кольца планарных p-n переходов
- •Объёмные делительные слои одс
- •Структуры с тонкими слоями противоположной проводимости в базе
- •Технологические методы повышения лавинного пробоя
- •1 Нейтронное легирование кремния
- •2 Геттерирование быстродиффундирующих примесей (бдп)
- •3 Стабилизация поверхностного заряда и защита поверхности
- •5.13. Гетеропереходы
- •Контрольные вопросы
5.11.4. Индуктивность p-n перехода
На БУИ p-n переход обладает индуктивными свойствами. Это фиктивная индуктивность, так как накопление магнитной энергии в p-n переходе не происходит, как и возбуждение ЭДС самоиндукции. Природа этой индуктивности заключается в инерционности перераспределения напряжения между p-n переходом и модулируемым сопротивлением квазинейтральной базы на БУИ, что и приводит к задержке тока относительно напряжения (индуктивный характер инерционности). Постоянная времени этого процесса определяется временем пролёта базы или временем жизни ННЗ для случая полубесконечной базы, как и в случае диффузионной ёмкости на МУИ.
В стационарных условиях p-n переход можно представить цепью (рисунок 5.57, а). В импульсном режиме – цепью, содержащей модулируемое сопротивление базы с индуктивностью (рисунок 5.57, б).
В соответствии с эквивалентной схемой (5.57б) при подаче прямоугольного импульса напряжения ток в цепи будет изменяться следующим образом:
,
где
.
С другой стороны подача импульса напряжения на диод в первый момент времени приводит к выделению всей амплитуды напряжения U0 на немодулированном сопротивлении базы (за время релаксации τM) (рисунок 5.58, б). По мере заряда зарядной ёмкости напряжение на p-n переходе возрастает (барьер снижается). Происходит инжекция ННЗ в базу и нейтрализация этого заряда ОНЗ. Сопротивление уменьшается, происходит перераспределение напряжения:
на
p-n переходе возрастает, на базе
уменьшается. Длительность процесса
нарастания напряжения на p-n
переходе определяется процессом
модуляции сопротивления базы, т.е.
временем пролёта.
Следовательно,
;
.
Рисунок 5.58 - Эпюры
напряжения и тока на БУИ
Для уменьшения инерционности необходимо уменьшать толщину базы, как и в случае диффузионной ёмкости на МУИ.
Природа индуктивности, как и диффузионной ёмкости, связана с инерционностью пролёта и установления квазистационарного состояния. На малых уровнях эта инерционность имеет емкостной характер СD , на больших – индуктивный L (рисунок 5.59).
В соответствии с характером реактивного импеданса будет изменяться форма напряжения на p-n переходе при подаче на него импульсов тока различной амплитуды (рисунок 5.60).
В импульсных диодах индуктивность приводит к большой величине прямого импульсного падения напряжения и соответствующую ему инерционность – время установления прямого падения напряжения. Однако в мощных сильноточных цепях с низкоомной индуктивной нагрузкой индуктивность выпрямительных диодов демпфирует ударные токи, что оказывает положительное влияние на работу таких устройств.
5.12. Пробой p-n перехода
Пробоем называется явление резкого возрастания обратного тока p-n перехода при достижении обратным напряжением критического значения – напряжения пробоя. Это феноменологическое (опытное) определение.
По механизмам протекания различают следующие виды пробоя (рисунок 5.61):
Тепловой;
Лавинный;
Туннельный;
Инжекционный или токовый (смыкание).
Т
епловой
пробой является разрушающим или
необратимым. Три последующих относятся
к электрическому виду пробоя или
обратимому. На их основе работают
стабилитроны, лавинно-пролётные диоды
и другие полупроводниковые приборы.
По местоположению различают объёмный пробой и поверхностный пробой.
Рисунок 5.61 - ВАХ
p-n
перехода в режиме пробоя
