- •Розділ 2. Розрахунки параметрів напівпровідникових матеріалів
- •2.1. Короткі теоретичні відомості
- •2.1.1. Питома провідність напівпровідників
- •2.1.2. Потенціал Фермі
- •2.1.3. Дрейфовий струм
- •2.1.4. Дифузійний струм
- •2.2. Приклад розв’язування задачі
- •3.1.1. Діоди із p-n-переходом
- •Рекомендована література
- •3.1. Короткі теоретичні відомості
- •3.1.1.1. Діод із ступінчатим переходом
- •3.1.1.2. Діод із плавним переходом
- •3.1.1.3. Ємнiсть p-n-переходу
- •3.1.1.4. Струм діода за умов прямого зміщення
- •3.1.1.5. Зворотний струм насичення діода
- •3.1.1.6. Напруга пробою діода
- •3.1.2. Діод Шотткі
- •3.1.2.1. Діод Шотткі за умов рівноваги
- •3.1.2.2. Діод Шотткі за умов зовнішнього зміщення
- •3.1.2.3. Еквівалентна схема
- •3.2. Приклад розв’язування задачі
- •Рекомендована література
3.1.1.1. Діод із ступінчатим переходом
Електричне поле у ступінчатому p-n-переході. Напруженість електричного поля в p-області ступінчатого p-n-переходу визначають за виразом:
ξ |
(3.6) |
де
NA-
концентрація акцепторної домішки в
p-області
p-n-переходу;
- відносна діелектрична проникність
матеріалу (
Si
= 12,
Ge
= 16,
GaAs
= 10,9),
- абсолютна діелектрична проникність
вакууму (
= 8,854·10-12
Ф/м).
Напруженість електричного поля в точці x = 0 ступінчатого p-n-переходу розраховують за виразом:
ξ |
(3.7) |
Напруженість електричного поля ξ в області n-типу p-n-переходу розраховують за виразом:
ξ
=
|
(3.8) |
Електричний потенціал у ступінчатому p-n-переході. Електричний потенціал у ступінчатому p-n-переході за умов рівномірного легування областей на відрізку (-xp – 0) в області p-типу розраховують за виразом:
U(x)
=
|
(3.9) |
В області n-типу на відрізку (0 - xn ) електричний потенціал розраховують за виразом:
U(x)
=
|
(3.10) |
Значення електричного потенціалу в точці x = 0 визначають за рівнянням :
U(0)
=
|
(3.11) |
Висоту потенціального бар’єра за умов зовнішнього зміщення визначають за виразом (3.10) за x = xn
=
[ND
|
(3.12) |
Висоту
потенціального бар'єра за умов рівноваги
розраховують
за рівнянням (3.12), якщо замінити в ньому
хn
на хn0,
а хp
на хp0
:
|
(3.13) |
Виходячи з нейтральності p-n-переходу NAxp = NDxn, висоту потенціального бар’єра за умов зовнішнього зміщення, розраховують як функцію товщини області просторового заряду l = (xp+xn ) за виразом:
|
(3.14) |
Товщина області просторового заряду у ступінчатому p-n-переході. Товщину області просторового заряду в p-області визначають за виразом :
xp
=
|
(3.15)
|
а товщину області просторового заряду в n-області переходу за виразом :
xn
=
|
(3.16) |
де - висота потенціального бар’єра за умов зовнішнього зміщення.
Загальну товщину області просторового заряду в p-n - переході розраховують за виразом:
l = | xp | + | xn | , |
(3.17) |
У більшості ступінчатих переходів одна сторона легована значно більше, ніж інша. Такі переходи позначають як n+-p-переходи або p+-n-переходи в залежності від того, яка область більше легована. Їх називають однобічними ступінчатими переходами.
Для переходів такого типу xp на кілька порядків більша ніж xn або навпаки. Тому, якщо ND >> NA , то xp >> xn і товщину l ОПЗ розраховують за виразом:
l
= xp
|
(3.18) |
якщо NA >> ND , то xn >> xp і товщинe l ОПЗ розраховують за виразом :
l
= xn
|
(3.19) |
За умов симетричного ступінчатого p-n-переходу або коли концентрації у кожній з областей відрізняються в кілька разів, товщину області просторового заряду розраховують за формулою :
l
=
|
(3.20) |
Товщину області просторового заряду за умов рівноваги, як функцію виключно технологічних параметрів розраховують за виразом :
|
(3.21) |

,
,
;
.
.
.