Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
методичка сборка (Мурашкевич).docx
Скачиваний:
9
Добавлен:
01.07.2025
Размер:
3 Мб
Скачать
☆

Спецификация потоков на технологической схеме производства ферритных изделий

Обозначение

Наименование

Кол-во

Примечание

1

Малые весы

1

2

Большие весы

1

3

Аттритор

1

4

Барабанный фильтр

1

5

Бак накопитель

1

6

Гидравлический пресс

1

7, 11

Стеллажи для сушки изделий

1

8

Туннельная печь

1

9

Плоскошлифовальная установка

1

10

Ультразвуковая ванна

1

12

Контрольно-измерительная установка

1

13

Упаковочный стол

Условное обозначение

Наименование технологического потока

Буквенное

Графическое

–

–1–1–

Порошок гексаферрита стронция

–

–2–2–

Вода

–

–3–3–

Порошок карбоната кальция

–

–4–4–

Порошок борной кислоты

–

–5–5–

Порошок высокодисперсного диоксида кремния

–

–6–6–

Модифицирующая добавка BaAl25Fe95O19

–

–7–7–

Сточные воды

–

–8–8–

Смесь добавок

–

–9–9–

Порошок гексаферрита стронция после взвешивания

–

–10–10–

Суспензия шихты

–

–11–11–

Паста шихты

–

–12–12–

Отпрессованные заготовки

–

–13–13–

Заготовки после сушки

–

–14–14–

Отбракованные по внешнему виду изделия

–

–15–15–

Отходящие газы

–

–16–16–

Шлифотходы

–

–17–17–

Спеченные заготовки

–

–18–18–

Отшлифованные изделия

–

–19–19–

Промытые изделия

–

–20–20–

Высушенные изделия

–

–21–21–

Бракованные изделия

–

–22–22–

Годные изделия

–

–23–23–

Воздух

Спецификация оборудования на технологической схеме производства ферферритных изделий

Рис. 5.Технологическая схема производства транзистора 5888Г7

Спецификация потоков на технологической схеме производства транзистора 5888г7

Обозначение

Наименование

Кол-во

Примечание

1, 19, 20

Печь диффузионная

3

2, 7, 15, 16, 21

Ванна химическая

5

3, 8, 17, 22

Ванна промывки

4

4, 9, 18, 23

Центрифуга сушильная

4

5

Установка газофазного осаждения

1

6, 13

Микроскоп

2

12, 24

Установка плазмохимического травления

2

10

Установка нанесения фоторезиста

1

11

Установка проявления фоторезиста

1

25–36

Баллон

12

14

Установка ионно-лучевого легирования

1