- •1.Электропроводность полу проводников.
- •3.Прямое и обратное смещение р-п перехода.
- •4.Вольтамперная характеристика.
- •5.Основные параметры р-п перехода.
- •6.Пробой р-п перехода.
- •7.Методы изготовления р-п перехода.
- •8.Выпрямительный диод.
- •10.Варикап.
- •12.Контакт металл-полупроводник. Диод Шоттки.
- •13.Классификация транзисторов.
- •11.Туннельный диод. Обращенный диод.
- •14.Устройство биполярного транзистора.
- •15.Принцип действия транзистора.
- •16.Токи в транзисторе.
- •18.Схемы включения транзистора с об, оэ, ок.
- •19.Основные параметры транзисторов: а) физические б) һ-параметры.
- •20.Основные характеристики транзисторов, таблица основных параметров.
- •21.Характеристики с оэ (входные, выходные, прямой передачи тока).
- •22.Униполярные транзисторы с управляющим р-n переходом.
- •23.Униполярные транзисторы с изолированным затвором.
- •24.Тиристор, динистор.
- •27.Фотодиод, вах.
- •29.Классификация интегральных схем.
- •30.Усилители. Структурная схема. Классификация.
- •39.Дифференциальный усилитель с генератором стабильного тока (ду с гст)
- •40.Дифференциальный усилнтель с динамической нагрузкой (с зеркалом токов).
- •32.Однокаскадный усилитель.
- •41.Операционный усилитель, общие сведения.
- •42.Операционный усилитель, основные параметры.
- •43.Операционный усилитель, струкгурная и принципиальная схемы.
- •44.Основные логические операции и логические элементы.
- •45Анализ и синтез клс.
- •46Минимизация логических функций.
- •47. Схема ттл транзисторно-транзисторной логики с простым инвертом.
- •48Схема эсл эмитгерно-связанной логики.
- •49 Переключатель тока.
- •55.Схема и - не на мдп и кмдп.
- •56.Мультиплексор
- •57.Демультиплексор.
- •58.Дешифратор.
- •59.Шифратор.
- •60.Триггеры, классификация.
- •65.Регистр хранения.
- •6 6.Регистр сдвига.
- •67. Счетчики суммирующие.
- •68.Счетчики вычитающие.
- •69. Десятичный счетчик.
- •70.Операционный усилитель, внешние цепи.
- •71.0Перационный усилитель с отрицательной обратной связью.
- •79.Тригтер Шмита
- •80.Генераторы сигналов, условия самовозбуждения генератора.
- •82.Мультивибратор.
- •83.Генератор линейно-изменяющегося напряжения.
14.Устройство биполярного транзистора.
Б
иполярный
транзистор – полупроводниковый триод
с двумя взаимодействующими
p-n
переходами, усилительные свойства кот
обусловлены явлениями инжекции и
экстракции носителей заряда. Он имеет
три слоя, соответственно три электрода
и два p-n
перехода (рис5,2). Площадь между n1-p
намного меньше, чем между p-n2.
Структура транзистора несимметрична.
Слой, сильно легированный с меньшей
площадью, служащий для инжекции носителей
в базу, наз эмиттером (Э). Слой с большей
площадью, служащий для экстракции
носителей из базы и собирающий эти
носители, наз коллектором (К). Средний
слой, управляющий движением носителей
от эмиттера к коллектору, наз базой
(Б).*Через базу осуществляется связь
двух p-n
переходов.Транзисторы с однородной
базой называются бездрейфовыми, с
неоднородной – дрейфовыми. различают
транзисторы n-p-n-
и p-n-p-
типов. Принцип работы транзисторов
одинаков, различие заключается лишь в
том, что в транзисторе n-p-n-типа
через Б к К движутся электроны,
инжектированные Э, а в транзисторе
p-n-p-типа
– дырки.
15.Принцип действия транзистора.
В
активном нормальном режиме при подключении
к электродам транзистора напряжений
ЕЭБ и
ЕКБ,
эмиттерный переход смещается в прямом
направлении, а Кный – в обратном.В
результате снижения потенциального
барьера электроны из области эмиттера
диффундируют через Эный переход в
область базы (инжекция электронов), а
дырки – из базы в область эмиттера. в
базе повышается концентрация электронов.
коэффициент инжекции: гамма э=
Iэn/(Iэn+Iэр)=Iэn/Iэ,
где Iэр
и Iэn
– дырочная и электронная составляющие
тока эмиттерного перехода; Iэ
– полный ток перехода. *Коллекторный
переход смещен в обратном направлении,
в базе на границе с коллектором уменьшается
концентрация электронов. электроны
диффундируют от ЭП к КП.большинство
электронов, инжектированных в базу, не
успевают рекомбинировать в ней с дырками.
электроны идут к К. Для нейтральности
базы из нее во внешнюю цепь уходит часть
электронов,кот и создает ток базы. ток
эмиттерного перехода больше тока
коллекторного перехода. коэффициентом
переноса Сигма пер= Ikn/Iэn.Для
увеличения тока коллектора необходимо,
чтобы время жизни электронов было
намного больше времени переноса в базе.
Для этого нужно:– умен концентрацию
примесей в базе, тогда умен рекомбинационная
составляющая тока эмиттера;– умен
толщину базы w;
-Sкп
>> Sэп.*В
коллекторном переходе может возникнуть
размножение носителей заряда из-за
ударной ионизации, которое характеризуется
коэффициентом размножения M=1/[1-(Uобр/
Uпр)^n]
Общий коэффициент передачи тока эмиттера
в цепь коллектора альфа=Iкn/Iэ.
16.Токи в транзисторе.
П
о
1 закону Кирхгофа для транзистора 5.4 ток
Э равен сумме тока Б и тока К: Iэ=Iб+Iк,
где Iэ=Iэр+Iэнек+Iкn-ток
Э; Iб=Iэр+Iэрек-Iко-ток
Б Этот ток составляет не более 1% от тока
эмиттера; Iко-
тепловой ток коллекторного перехода.
Ток коллектора равен Iк=Iко+Iкn,
где Iкn=аIэ.Отсюда
Iк=аIэ+Iко.*Таким
образом, в схемах с транзистором имеются
две цепи: входная, в кот включается
источник усиливаемых колебаний, и
выходная, в кот включается нагрузочное
сопротивление. Iэ
является управляющим током, Iк–
управляемым, а ток базы Iб–
их разностью.
17.Модуляция толщины базы представляет собой зависимость толщины базы w от напряжения на коллекторе Uk w=f(Uk).
Так как ширина эмиттерного перехода мала, изменения Uэб не влияют на ее значение. Коллекторный же переход из-за обратного смещения большой и сосредоточен в базе. При изменении Ukб изменяется ширина коллекторного перехода и толщина базы w тоже. Это приводит: а) к зависимости коэффициента передачи тока а от коллекторного напряжения а= f(Uk). б) к барьерной емкости коллекторного перехода добавляется диффузионная емкость, так как происходит изменение заряда вблизи перехода;в) к изменению частотных свойств транзистора: если увел Uk, умен толщина базы w, уменьш время пролета электронов в базе и увелич граничная частота транзистора;
г) к тому, что при увеличенииUk, еслиUэн постоянно, увеличивается Iэ, так как уменьшение толщины базы ведет к увеличению градиента концентраций носителей, от которого пропорционально зависит ток эмиттера;д) к тому, что при увеличении Uk и постоянном Iэ при уменьш толщины базы и неизменном градиенте концентраций носителей умен Uэн.
