- •Глава 1. М е м б р а н н ы е э л е к т р от е х н ол о г и и
- •1.1.Основы теории электрокинетических и электрокапиллярных явлений в процессах электромембранных технологий
- •1.2. Общее описание электромембранных процессов
- •1.3. Классификация эмп
- •1.4. Требования к ионообменным мембранам
- •1.6. Электродиализ с биполярными мембранами
- •1.7. Мембранный электролиз
- •1.8. Электродеионизация
- •1.10. Электрогравитация (электроосаждение)
- •1. 12. Транспортное объединение
- •1. 9. Электросорбция
- •1.13. Электрофорез
- •Глава 2. Электротехнологии и электротехнологические установки с применением сильных электрических полей
- •2.1. Технологические процессы, основанные на силовом воздействии электрических полей на материалы
- •2.2. Методы зарядки частиц
- •2.2.1. Ионная зарядка
- •«Ударная» зарядка частиц в электрическом поле
- •«Диффузионная» зарядка частиц
- •2.2.2. Индукционная зарядка частиц
- •2.2.3. Статическая электризация
- •2.3. Движение частиц в электрическом поле
- •Движение частицы в однородном электрическом поле
- •2.4. Коллективные процессы в заряженном аэрозоле
- •2.5. Разделение неоднородных систем в электрофильтрах.
- •2 Коронирующие электроды
- •1 Осадительные электроды; 2 коронирующие электроды
- •2.6. Нанесение покрытий в электрическом поле
- •2.6.1. Электроокраска
- •2.6.2. Нанесение порошковых покрытий
- •2.7. Электросепарация
- •2.7.1. Классификация сепараторов
- •2.7.2. Сепарация по электропроводности
- •1 Дозатор, 2 металлический заземленный барабан (осадительный электрод),
- •3 Некоронирующий высоковольтный электрод, 4 приемник для непроводящих
- •1 Дозатор, 2 металлический заземленный барабан (осадительный электрод),
- •3 Коронирующий высоковольтный электрод, 4 приемник для непроводящих
- •1 Дозатор, 2 пластинчатый наклонный (осадительный) электрод,
- •3 Коронирующий электрод, 4 отклоняющий электрод,
- •5 Дополнительный отклоняющий электрод, 6 приемник.
- •2.7.3. Трибоэлектростатическая сепарация
- •1 Транспортер с проводящей заземленной лентой, 2 ванна с пористой
- •6 Приемный бункер для концентрата.
- •2.7.4. Пироэлектрическая сепарация
- •1 Дозатор, 2 металлический заземленный барабан (осадительный электрод),
- •3 Электронагреватели, 4 приемник для электризующихся частиц кристаллов I,
- •2.7.5. Диэлектрическая сепарация
- •1 Диэлектрические плоскости, 2 провода в пазах, 3 силовые линии,
- •Глава 3. Электротехнологии и электротехнологические установки с применением плазмохимических реакций
- •3.1. Генераторы озона и озонные технологии
- •3.1.1. Физико-химические и биологические свойства озона
- •3.1.2. Основные способы получения озона
- •1, 3 Электроды; 2 диэлектрический барьер; 4 зона разряда
- •1 Наружный электрод; 2 барьер из стеклоэмали; 3 внутренний электрод.
- •3.1.3 Технологическое применение озона
- •3.1.4. Математическое описание бактерицидного эффекта озона в процессе электроантисептирования
- •3.2. Электротехнологии конверсии газов в плазме газового разряда
- •3.3. Модификация поверхности материалов в плазме газового разряда
- •Глава 4. Импульсные электротехнологии
- •4.1. Электрогидравлическая технология
- •4.1.1.Технологические применения разряда в жидкости
- •4.2. Электроэрозионная обработка материалов
- •4.2.1. Электроэрозионные установки
- •6 Пузырьки пара или газа; 7 твердые частицы; 8 продукты пиролиза
- •1 Анод; 2 катод; 3 канал разряда; 4 рабочая среда; 5 газовый
- •4.2.2. Физические основы электроэрозионной обработки металлов
- •4.3. Магнитно-импульсная обработка материалов
- •4.3.1. Физическая сущность магнитно-импульсной обработки
- •4.3.2. Разновидности магнитно-импульсной обработки
- •4.3.3. Генераторы токов для магнитно-импульсной обработки
- •4.3.4. Технологические особенности
- •Глава 5. Аэрозольные электрогазодинамические
- •5.1.Общая характеристика
- •5.2. Конденсационные элетрогазодинамические генераторы
- •5.3. Элетрогазодинамические генераторы
- •2 Газовый поток; 3 коронирующий электрод зарядного устройства;
- •4 Заземленный электрод-сетка; 5 коллектор; Rн – нагрузка.
- •5.4. Элетрогазодинамические компрессоры
- •2 Стенка с иглами; 3 заземленный электрод-сетка; 4 ионы или заряженные
- •Глава 6. Технологические лазеры
- •6.1. Физическая модель лазерной обработки
- •6.1.1.Феноменологический (теплофизический) подход к лазерному
- •6.2. Основные параметры технологических лазеров
- •6.3. Характеристики «качества» излучения технологических лазеров
- •6.3.1.Когерентность лазерного излучения
- •6.3.2. Монохроматичность излучения
- •6.3.3. Поляризация излучения
- •6.4. Параметры технологических лазеров
- •6.5. Перспективы развития и основные области применения технологических лазеров
- •6.5.1. Перспективы развития технологических лазеров
- •6.5.2. Основные области применения технологических лазеров
- •6.6. Устройство и принцип действия газового (co2), твердотелого и полупроводникового лазеров (nd-yag)
- •6.6.1. Газовые лазеры
- •6.6.2.Твердотельные лазеры
- •6.6.3. Полупроводниковые лазеры
- •6.6.4. Волоконные лазеры
- •6.7. Принцип действия инжекционных лазеров
- •6.7.1. Усиление и генерация света в активных средах
- •6.7.2. Конструкция и работа инжекционных лазеров
- •6.7.3. Порог генерации и кпд инжекционных лазеров
- •Глава 1. М е м б р а н н ы е э л е к т р от е х н ол о г и и ..................6
- •Глава 2. Электротехнологии и электротехнологические
- •Глава 3. Электротехнологии
- •Глава 6. Технологические лазеры……………………………...184
6.2. Основные параметры технологических лазеров
1. Мощность излучения.
Наиболее важный
параметр теплового воздействия —
плотность мощности,
(только
для импульсного излучения).
Необходимая плотность
мощности обеспечивается мощностью
непрерывного Pнепр
или импульсного Pимп
излучения, последняя связана со средней
мощностью
как:
(6.9)
Таким образом, даже при малой можно обеспечить необходимое воздействие при коротких τ ( Pимп τ = W — энергия импульса) — пример — фемтосекундные лазеры.
2. Длина волны излучения.
Длина волны излучения должна лежать в области большой поглощающей способности материала (в видимой для металлов и других конструкционных материалов, в ИК–области для стекла, и в ультрафиолетовой — для пластмасс и полимеров). Поглощающая способность зависит, в первую очередь, от оптических характеристик материала: коэффициента отражения R , коэффициента поглощения A = 1 − R и показателя поглощения α (глубина проникновения света δ = 1/α ).
3. Длительность воздействия τ.
Длительность воздействия τ – это длительность импульса у импульсных лазеров или время эффективного воздействия у непрерывных лазеров.
Длительность воздействия определяет следующие характеристики процесса:
– пороговую энергию импульса (6.10),
– глубину прогретого слоя (6.11)
и количество образующейся жидкой фазы,
– величину давления отдачи паров Pи ~ Wи /τ (6.12),
– величину
термомеханических напряжений
,
– экранирующее действие паров на падающее излучение,
– стабильность
размера облученной зоны (нестабильность
~
),
– стабильность пороговой плотности мощности (зависит также от размера облученной зоны.
Коментарии:
• эффективное время воздействия у лазеров с непрерывным излучением равно:
τ = d0 /Vск (6.13),
где d0 — диаметр пятна в фокусе, Vск — скорость сканирования.
• В любом случае, чтобы использовать (6.13) надо, чтобы соблюдалось условие (10).
Надо также понимать, что hисп ~ Vи τ , и чем меньше τ , тем меньше глубина отверстия, образующегося от воздействия одного импульса.
Возможности регулировки длительности импульса:
– TT лазеры — модуляция добротности (внутрирезонаторная)
− Nd–YAG — акусто–оптическая,
− стекло:Nd — электро–оптическая,
− рубиновый и другие — пассивная — светофильтры, примеси в газах,
− полупроводниковые лазеры — электрическая модуляция,
− другие лазеры — внерезонаторная электромеханическая модуляция
– CO2–мощные лазеры — электромеханическая модуляция (прерыватель—обтюратор, невыгодно по мощности)
− пассивная — светофильтры, примеси в смеси газов
– CO2–волноводные лазеры — (по питанию, накачка радиочастотным зарядом)
– TT лазеры — импульсная накачка τ ~ 10−3 с
− импульсная накачка с модуляцией добротности, τ ~ 10−7 с,
− самосинхронизация мод, τ ~ 10−12 с
− фемтосекундные, τ ~ 10−15 с и аттосекундные, τ ~ 10−18 с импульсы,
– N2, Cu, эксимерный лазер и тому подобные
− спектрально–люминисцентные свойства среды (самоограниченные верхние переходы — малое время жизни на верхнем уровне), τ ~ 10−8 с
– CO2, Ar — непрерывного действия — сканирование пучка или движение (вращение) объекта со скоростью Vск.
Таблица 6.4 Различные длительности импульса лазеров и варианты их реализации
Длительность воздействия, с |
Варианты реализации (тип лазера, режим модуляции) |
Миллисекунды, 10 –3 |
Nd–YAG–лазер — режим свободной генерации, импульсный СО2–лазер, сканирующий СО2–лазер, сканирующий Nd–YAG–лазер, сканирующий Ar–ion–лазер |
Микросекунды, 10 –6 |
Nd–YAG–лазер: акусто–оптическая модуляция, электрооптическая модуляция, диодная накачка. Импульсный СО2–лазер |
Наносекунды, 10 –9 |
Азотный лазер, лазер на парах меди, эксимер ные лазеры |
Пикосекунды, 10–12 |
Nd–YAG–лазер: режим самосинхронизации импульсов, эксимерные лазеры |
Фемтосекунды, 10–15 |
Ti–сапфир–лазер: режим самосинхронизации импульсов, эксимерные лазеры |
Аттосекунды, 10 –18 |
Ti–сапфир–лазер |
4. Пространственные характеристики лазерного пучка.
Модовая структура излучения (TEMmn)
Рис.6.1. Модовая структура пучков некоторых низших порядков
Угловая расходимость пучка
(6.14)
где α — полный угол расходимости луча, λ — длина волны, bд — характерный размер выходного окна лазера, ответственного за дифракцию, Aд — коэффициент, отвечающий за распределение интенсивности в поперечном сечении луча.
Величины bд и Aд , и α для разных лазерных лучей приведены в таблице 6.5.
Таблица 6. 5
Тип лазерного луча |
bд |
Aд |
Полный угол
|
Комментарии |
Одномодовый (Гауссово распре деление) |
2w0 |
4/π=1.26 |
1.26 |
D ≈ 2w0, w0-радиус перетяжки |
Многомодовый |
|
1.26 |
1.26 |
N b — число отдельных лучей в попе-речном сечении
|
Дифракционно- ограниченный |
D |
2.44 |
2.44 |
D – диаметр нулевого максимума |
М2 — концепция качества лазерного пучка
Качество лазерного пучка часто характеризует отношением его действительной (экспериментальной) расходимости α к расходимости того же лазера, если бы он излучал одномодовый Гауссовский пучок, αГ :
M2 = α /αГ (6.15)
Как известно,
αГ = λ /πw0 = 4λ /πdmin (6.16)
где w0 — диаметр пучка в перетяжке. α зависит от многих причин, в частности, угол расходимости пучка после линзы (угловая апертура) равен:
αл = Dл /2f (6.17)
Отсюда можно найти минимальный размер пучка в фокусе линзы dmin через M2 :
dmin = 8 M2 f λ /πDл (6.18)
Через M2 можно определить все основные пространственные параметры лазерного пучка: диаметр пучка в любом сечении z по пути его распространения, радиус волнового фронта Rz при любом z , Рэлеевский радиус пучка R, глубина фокуса и размер сфокусированного пучка.
Можно показать, что фактор M 2 позволяет рассматривать реальный многомодовый пучок как одномодовый с модифицированной длиной волны λм=M2λ.
Инвариант Лагранжа-Гельмгольца.
Другой способ характеризации пространственно-геометрических характеристик оптических пучков основан на использовании инварианта Лагранжа-Гельмгольца J (рис. 6.2).
Dα=D'α'=J=const (6.19)
Рис. 6.2. Схема оптической системы, состоящей из функциональных (1, 3) и согласующих (2) компонентов.
Чем меньше значение J, тем выше качество пучка.
Значения инварианта J для некоторых типов лазеров приведены в таблице 6.6.
Таблица 6.6
Тип лазера |
Световой диаметр D, мкм |
Полный угол расходимости α, рад |
Инвариант Лагранжа-Гельмгольца J |
Замечания для λ ~ мкм |
Одномодовый волоконный лазер |
10
|
0.1 |
1 |
J=λ, равен дифр. пределу |
Многомодовый волоконный лазер |
200 400 |
0.2 0.2 |
40 80 |
J>>λ, далеко от дифр. предела |
Полупроводниковый лазер |
|
|
|
J>>λ, далеко от дифр. предела |
