- •Глава 1. М е м б р а н н ы е э л е к т р от е х н ол о г и и
- •1.1.Основы теории электрокинетических и электрокапиллярных явлений в процессах электромембранных технологий
- •1.2. Общее описание электромембранных процессов
- •1.3. Классификация эмп
- •1.4. Требования к ионообменным мембранам
- •1.6. Электродиализ с биполярными мембранами
- •1.7. Мембранный электролиз
- •1.8. Электродеионизация
- •1.10. Электрогравитация (электроосаждение)
- •1. 12. Транспортное объединение
- •1. 9. Электросорбция
- •1.13. Электрофорез
- •Глава 2. Электротехнологии и электротехнологические установки с применением сильных электрических полей
- •2.1. Технологические процессы, основанные на силовом воздействии электрических полей на материалы
- •2.2. Методы зарядки частиц
- •2.2.1. Ионная зарядка
- •«Ударная» зарядка частиц в электрическом поле
- •«Диффузионная» зарядка частиц
- •2.2.2. Индукционная зарядка частиц
- •2.2.3. Статическая электризация
- •2.3. Движение частиц в электрическом поле
- •Движение частицы в однородном электрическом поле
- •2.4. Коллективные процессы в заряженном аэрозоле
- •2.5. Разделение неоднородных систем в электрофильтрах.
- •2 Коронирующие электроды
- •1 Осадительные электроды; 2 коронирующие электроды
- •2.6. Нанесение покрытий в электрическом поле
- •2.6.1. Электроокраска
- •2.6.2. Нанесение порошковых покрытий
- •2.7. Электросепарация
- •2.7.1. Классификация сепараторов
- •2.7.2. Сепарация по электропроводности
- •1 Дозатор, 2 металлический заземленный барабан (осадительный электрод),
- •3 Некоронирующий высоковольтный электрод, 4 приемник для непроводящих
- •1 Дозатор, 2 металлический заземленный барабан (осадительный электрод),
- •3 Коронирующий высоковольтный электрод, 4 приемник для непроводящих
- •1 Дозатор, 2 пластинчатый наклонный (осадительный) электрод,
- •3 Коронирующий электрод, 4 отклоняющий электрод,
- •5 Дополнительный отклоняющий электрод, 6 приемник.
- •2.7.3. Трибоэлектростатическая сепарация
- •1 Транспортер с проводящей заземленной лентой, 2 ванна с пористой
- •6 Приемный бункер для концентрата.
- •2.7.4. Пироэлектрическая сепарация
- •1 Дозатор, 2 металлический заземленный барабан (осадительный электрод),
- •3 Электронагреватели, 4 приемник для электризующихся частиц кристаллов I,
- •2.7.5. Диэлектрическая сепарация
- •1 Диэлектрические плоскости, 2 провода в пазах, 3 силовые линии,
- •Глава 3. Электротехнологии и электротехнологические установки с применением плазмохимических реакций
- •3.1. Генераторы озона и озонные технологии
- •3.1.1. Физико-химические и биологические свойства озона
- •3.1.2. Основные способы получения озона
- •1, 3 Электроды; 2 диэлектрический барьер; 4 зона разряда
- •1 Наружный электрод; 2 барьер из стеклоэмали; 3 внутренний электрод.
- •3.1.3 Технологическое применение озона
- •3.1.4. Математическое описание бактерицидного эффекта озона в процессе электроантисептирования
- •3.2. Электротехнологии конверсии газов в плазме газового разряда
- •3.3. Модификация поверхности материалов в плазме газового разряда
- •Глава 4. Импульсные электротехнологии
- •4.1. Электрогидравлическая технология
- •4.1.1.Технологические применения разряда в жидкости
- •4.2. Электроэрозионная обработка материалов
- •4.2.1. Электроэрозионные установки
- •6 Пузырьки пара или газа; 7 твердые частицы; 8 продукты пиролиза
- •1 Анод; 2 катод; 3 канал разряда; 4 рабочая среда; 5 газовый
- •4.2.2. Физические основы электроэрозионной обработки металлов
- •4.3. Магнитно-импульсная обработка материалов
- •4.3.1. Физическая сущность магнитно-импульсной обработки
- •4.3.2. Разновидности магнитно-импульсной обработки
- •4.3.3. Генераторы токов для магнитно-импульсной обработки
- •4.3.4. Технологические особенности
- •Глава 5. Аэрозольные электрогазодинамические
- •5.1.Общая характеристика
- •5.2. Конденсационные элетрогазодинамические генераторы
- •5.3. Элетрогазодинамические генераторы
- •2 Газовый поток; 3 коронирующий электрод зарядного устройства;
- •4 Заземленный электрод-сетка; 5 коллектор; Rн – нагрузка.
- •5.4. Элетрогазодинамические компрессоры
- •2 Стенка с иглами; 3 заземленный электрод-сетка; 4 ионы или заряженные
- •Глава 6. Технологические лазеры
- •6.1. Физическая модель лазерной обработки
- •6.1.1.Феноменологический (теплофизический) подход к лазерному
- •6.2. Основные параметры технологических лазеров
- •6.3. Характеристики «качества» излучения технологических лазеров
- •6.3.1.Когерентность лазерного излучения
- •6.3.2. Монохроматичность излучения
- •6.3.3. Поляризация излучения
- •6.4. Параметры технологических лазеров
- •6.5. Перспективы развития и основные области применения технологических лазеров
- •6.5.1. Перспективы развития технологических лазеров
- •6.5.2. Основные области применения технологических лазеров
- •6.6. Устройство и принцип действия газового (co2), твердотелого и полупроводникового лазеров (nd-yag)
- •6.6.1. Газовые лазеры
- •6.6.2.Твердотельные лазеры
- •6.6.3. Полупроводниковые лазеры
- •6.6.4. Волоконные лазеры
- •6.7. Принцип действия инжекционных лазеров
- •6.7.1. Усиление и генерация света в активных средах
- •6.7.2. Конструкция и работа инжекционных лазеров
- •6.7.3. Порог генерации и кпд инжекционных лазеров
- •Глава 1. М е м б р а н н ы е э л е к т р от е х н ол о г и и ..................6
- •Глава 2. Электротехнологии и электротехнологические
- •Глава 3. Электротехнологии
- •Глава 6. Технологические лазеры……………………………...184
6.6.3. Полупроводниковые лазеры
Преимущества полупроводниковых лазеров:
Высокий КПД (≈ 50%)
Малые габариты
Большая мощность
Совместимость длины волны с оптическим волокном
Регулирование длины волны
Малое время включения-выключения
Удобство управления (временными характеристиками включительно);
Недостатки полупроводниковых лазеров:
- Плохое качество излучения — высокая ассиметричная расходимость
Принципы устройства и работы полупроводниковых лазеров
Лазерная генерация в п/п лазерах возможна в активной среде, где преобладает излучательная рекомбинация, когда возникает неравновесное состояние с инверсией населенностей — большинство частиц находятся в верхней зоне (проводимости).
Существуют различные способы возбуждения в п/п лазерах. Для того, чтобы получить инверсию населенностей применяют: инжекцию носителей в p-n переход, возбуждение электронов пучком быстрых электронов, оптическую накачку, прямое электрическое возбуждение — пробой полупроводниковой структуры и т.д. Наибольший интерес представляет первый тип - инжекционные лазеры.
Инверсия населенностей создается здесь приложением электрического напряжения в прямом направлении (рис. 6.13).
Рис. 6.13. Зонная структура п/п вблизи p-n перехода: а-без смещения; б-со смещением
Рис. 6.14. Изображение двойной слоистой гетероструктур
Рис. 6.15. Стандартная конструкция полупроводникового лазера
Рис. 6.16. Параметры лазерного пучка при обработке материалов
6.6.4. Волоконные лазеры
Представляют собой конструктивную разновидность тведотельных лазеров, генерирующих на стеклянных волокнах твердотельных активных материалов. Однако в связи с развитием методов диодной накачки на данном этапе их целесообразно выделить в отдельную группу. Волоконный лазер осуществляет активное когерентное суммирование излучения полупроводниковых (ПП) лазеров накачки (КПД преобразования в когерентное излучение ≈ 90%), и таким образом вбирает в себя все достоинства ПП лазеров, не имея их недостатков.
Преимущества:
− высокий КПД до 40 % и более от розетки;
− высокое качество (малая расходимость) излучения — до M2 ≈ 1.05 при выходной мощности 100 Вт;
− возможность генерации как непрерывного, так и коротких (до нс) импульсов излучения с большой частотой (20 кГц и более);
− рекордно большие мощности излучения — до 50 кВт ( в 2005 г.) и это не предел;
− эффективность генерации на многих длинах волн (1.06 мкм (Nd, Yt), 1.56 мкм (Er), 1.75–2.0 мкм (Tu) и др.) для обработки материалов (1.06 мкм), медицины (1.75–2.0 мкм) и связи (1.56 мкм);
− удобство электрического управления временными и переключательными характеристиками;
− электрическая (по существу) накачка (диодов) электроэнергией с низким напряжением;
− естественная волоконная доставка излучения;
− высокая надежность и большой ресурс работы более 1 млн. часов;
− высокая стабильность параметров ±2%, устойчивость к механическим, тепловым, загрязненности окружающей среды (пыли) и другим воздействиям;
− высокая пространственная и спектральная яркость;
− малые массогабаритные размеры.
Мощные волоконные лазеры на иттербии ( λ = 1050 − 1080 нм)
Основные характеристики:
Непрерывный режим
− выходная мощность — до 50 кВт;
− возможна модуляция выходного излучения с частотой 5 кГц;
− КПД — 25%;
− выход — волокно 200 мкм;
− качество пучка — M2 = 2.5 − 6 мрад;
− срок службы — > 100 килочасов;
− габариты — 86х81х150 см;
− вес — 100 кг при 10 кВт.
Импульсный режим:
− средняя выходная мощность — до 200 Вт;
− длительность импульса — 30–100 нс;
− энергия в импульсе — 0.5–2 мДж;
− частота следования импульсов — 20–100 кГц
− волоконный выход;
− внешнее цифровое управление;
− компактный с воздушным охлаждением;
− коллимированный выходной пучок с M2 = 1.4 − 5 ;
− срок службы — > 100 килочасов;
− КПД — более 10 %.
