- •Глава 1. М е м б р а н н ы е э л е к т р от е х н ол о г и и
- •1.1.Основы теории электрокинетических и электрокапиллярных явлений в процессах электромембранных технологий
- •1.2. Общее описание электромембранных процессов
- •1.3. Классификация эмп
- •1.4. Требования к ионообменным мембранам
- •1.6. Электродиализ с биполярными мембранами
- •1.7. Мембранный электролиз
- •1.8. Электродеионизация
- •1.10. Электрогравитация (электроосаждение)
- •1. 12. Транспортное объединение
- •1. 9. Электросорбция
- •1.13. Электрофорез
- •Глава 2. Электротехнологии и электротехнологические установки с применением сильных электрических полей
- •2.1. Технологические процессы, основанные на силовом воздействии электрических полей на материалы
- •2.2. Методы зарядки частиц
- •2.2.1. Ионная зарядка
- •«Ударная» зарядка частиц в электрическом поле
- •«Диффузионная» зарядка частиц
- •2.2.2. Индукционная зарядка частиц
- •2.2.3. Статическая электризация
- •2.3. Движение частиц в электрическом поле
- •Движение частицы в однородном электрическом поле
- •2.4. Коллективные процессы в заряженном аэрозоле
- •2.5. Разделение неоднородных систем в электрофильтрах.
- •2 Коронирующие электроды
- •1 Осадительные электроды; 2 коронирующие электроды
- •2.6. Нанесение покрытий в электрическом поле
- •2.6.1. Электроокраска
- •2.6.2. Нанесение порошковых покрытий
- •2.7. Электросепарация
- •2.7.1. Классификация сепараторов
- •2.7.2. Сепарация по электропроводности
- •1 Дозатор, 2 металлический заземленный барабан (осадительный электрод),
- •3 Некоронирующий высоковольтный электрод, 4 приемник для непроводящих
- •1 Дозатор, 2 металлический заземленный барабан (осадительный электрод),
- •3 Коронирующий высоковольтный электрод, 4 приемник для непроводящих
- •1 Дозатор, 2 пластинчатый наклонный (осадительный) электрод,
- •3 Коронирующий электрод, 4 отклоняющий электрод,
- •5 Дополнительный отклоняющий электрод, 6 приемник.
- •2.7.3. Трибоэлектростатическая сепарация
- •1 Транспортер с проводящей заземленной лентой, 2 ванна с пористой
- •6 Приемный бункер для концентрата.
- •2.7.4. Пироэлектрическая сепарация
- •1 Дозатор, 2 металлический заземленный барабан (осадительный электрод),
- •3 Электронагреватели, 4 приемник для электризующихся частиц кристаллов I,
- •2.7.5. Диэлектрическая сепарация
- •1 Диэлектрические плоскости, 2 провода в пазах, 3 силовые линии,
- •Глава 3. Электротехнологии и электротехнологические установки с применением плазмохимических реакций
- •3.1. Генераторы озона и озонные технологии
- •3.1.1. Физико-химические и биологические свойства озона
- •3.1.2. Основные способы получения озона
- •1, 3 Электроды; 2 диэлектрический барьер; 4 зона разряда
- •1 Наружный электрод; 2 барьер из стеклоэмали; 3 внутренний электрод.
- •3.1.3 Технологическое применение озона
- •3.1.4. Математическое описание бактерицидного эффекта озона в процессе электроантисептирования
- •3.2. Электротехнологии конверсии газов в плазме газового разряда
- •3.3. Модификация поверхности материалов в плазме газового разряда
- •Глава 4. Импульсные электротехнологии
- •4.1. Электрогидравлическая технология
- •4.1.1.Технологические применения разряда в жидкости
- •4.2. Электроэрозионная обработка материалов
- •4.2.1. Электроэрозионные установки
- •6 Пузырьки пара или газа; 7 твердые частицы; 8 продукты пиролиза
- •1 Анод; 2 катод; 3 канал разряда; 4 рабочая среда; 5 газовый
- •4.2.2. Физические основы электроэрозионной обработки металлов
- •4.3. Магнитно-импульсная обработка материалов
- •4.3.1. Физическая сущность магнитно-импульсной обработки
- •4.3.2. Разновидности магнитно-импульсной обработки
- •4.3.3. Генераторы токов для магнитно-импульсной обработки
- •4.3.4. Технологические особенности
- •Глава 5. Аэрозольные электрогазодинамические
- •5.1.Общая характеристика
- •5.2. Конденсационные элетрогазодинамические генераторы
- •5.3. Элетрогазодинамические генераторы
- •2 Газовый поток; 3 коронирующий электрод зарядного устройства;
- •4 Заземленный электрод-сетка; 5 коллектор; Rн – нагрузка.
- •5.4. Элетрогазодинамические компрессоры
- •2 Стенка с иглами; 3 заземленный электрод-сетка; 4 ионы или заряженные
- •Глава 6. Технологические лазеры
- •6.1. Физическая модель лазерной обработки
- •6.1.1.Феноменологический (теплофизический) подход к лазерному
- •6.2. Основные параметры технологических лазеров
- •6.3. Характеристики «качества» излучения технологических лазеров
- •6.3.1.Когерентность лазерного излучения
- •6.3.2. Монохроматичность излучения
- •6.3.3. Поляризация излучения
- •6.4. Параметры технологических лазеров
- •6.5. Перспективы развития и основные области применения технологических лазеров
- •6.5.1. Перспективы развития технологических лазеров
- •6.5.2. Основные области применения технологических лазеров
- •6.6. Устройство и принцип действия газового (co2), твердотелого и полупроводникового лазеров (nd-yag)
- •6.6.1. Газовые лазеры
- •6.6.2.Твердотельные лазеры
- •6.6.3. Полупроводниковые лазеры
- •6.6.4. Волоконные лазеры
- •6.7. Принцип действия инжекционных лазеров
- •6.7.1. Усиление и генерация света в активных средах
- •6.7.2. Конструкция и работа инжекционных лазеров
- •6.7.3. Порог генерации и кпд инжекционных лазеров
- •Глава 1. М е м б р а н н ы е э л е к т р от е х н ол о г и и ..................6
- •Глава 2. Электротехнологии и электротехнологические
- •Глава 3. Электротехнологии
- •Глава 6. Технологические лазеры……………………………...184
6.6.2.Твердотельные лазеры
Среди твердотельных лазеров доминируют YAG:Nd:
− Длины волн: 1064, 1319, 532, 355, 266 нм
− Мощность непрерывного излучения
(с ламповой накачкой):
10 – 1800 Вт (TEM00 до 30 Вт)
− Мощность непрерывного излучения
(с диодной накачкой):
1 мВт — 10 Вт, ТЕМ00
− Мощность в импульсе (с ламповой накачкой):
до 100 Дж в мс импульс и до 1,4 Дж в нс
− Мощность в импульсе (с диодной накачкой):
до 20 мДж в нс импульсе, дес. мкДж при 104 Гц
Другие среды, активируемые Nd: стекло, YLF (иттрий- литиевый фторид), GSGG (галлий–скандий– гадолиниевый гранат), александрит (Cr–BeAl2O4)
Другие материалы: рубин (694 нм), Er: YAG (2.9 мкм),
Ho: YAG (2.1 мкм)
Перестраиваемые лазеры с регулируемой длиной волны:
александрит (720 – 780 нм), Ti:Сапфир (600-1100 нм)
Области применения:
− обработка материалов,
− медицина,
− испытания и измерения под водой,
− научно-исследовательские и опытно-конструкторские разработки
Преимущества твердотельных лазеров
– Высокая удельная мощность;
– Высокое качество при большой мощности (TEM00);
– Высокий кпд (с диодной накачкой) > 20%;
– Большая энергия (до кДж/импульс);
– Широкий диапазон длин волн;
– Широкий диапазон длительностей импульсов (от 10–2 до 10–15 с);
– Совместимость длин волн с оптическим волокном;
– Возможность получения генерации в волокнах
и высокие характеристики этих лазеров
– Большая яркость;
– Высокая надежность
Основные виды твердотельных лазеров
– Nd–YAG — 1.06, 0.53, 0.355, 0.266 мкм;
– Nd–стекло — 1.06, 0.53, 0.355, 0.266 мкм;
– Er–стекло — 1.54 мкм;
– Рубиновый — 0.63 мкм;
– Ti–сапфир — 0.66–0.98 мкм;
– Cr–BeAl2O4 (александрит) — 0.72–0.78 мкм.
Nd–YAG лазер (с оптической накачкой)
а
б
Рис. 6.10. Схема энергетических уровней:a) трехуровневая (Ru), б) четырехуровневая (Nd–YAG, стекло)
Рис.6.11. Система оптической накачки: 1) лампа, 2) активный элемент, 3) резонатор, 4) отражающее покрытие.
Рис. 6.12. Принципиальная схема твердотельного лазера с оптической накачкой:
1 — активный элемент; 2 — лампа; 3 — блок питания; 4 — резонатор; 5 — блок управления; 6 — элемент управления; 7 — зеркала резонатора; 8 — корпус лазера; 9 — охлаждение; 10 — излучение лазера
Таблица 6.11 Основные режимы работы твердотельных лазеров
Тип лазера |
Режим работы |
Длина волны |
Nd-YAG |
Свободная генерация |
10-3-10-4 |
Nd-YAG |
Q-модуляция (акусто-оптическая, электрооптическая) |
10-7-10-8 |
Nd-YAG |
Самосинхронизация мод |
10-11-10-12 |
Ti-AI2О3 |
Синхронизация мод |
10-13-10-15 |
Таблица 6.12 Основные параметры твердотельных лазеров с регулируемой длиной волны
Кристалл |
Диапазон длин волн λ, мкм |
Режим |
Средняя выходная мощность Вт |
Источник накачки |
|
Непрерыв-ный |
Импульс-ный
|
||||
Ti3+: A1203 (Ti-сапфир) |
660 ... 986 |
+ |
|
0.07 |
Ar+-лазер |
Cr3+: BeA1204 (александрит) |
701 ... 826 |
+ |
+ |
100 |
Arc лампа/ Имп. лампа |
Гранаты |
|||||
Сr3+: Cd3Sc2Ga3012 (GSGG) |
742 ... 842 |
+ |
+ |
0.25 |
Кr+-лазер, лампа |
Cr3+: Cd3Sc2Al3O12 (GSAG) |
~780 |
+ |
|
0.09 |
Кr+-лазер |
Фториды |
|||||
Cr3+: KZnF3 |
785 ... 865 |
+ |
|
0.085 |
Кr+-лазер |
Co: MgF2 |
1500 ... 2300 |
+ |
+ |
|
Nd: стекло лазер |
Nd: LaF3 |
172 |
|
+ |
|
Лазер |
Ce: YLF |
325 |
|
+ |
|
|
Ce: LaF2 |
286 |
|
+ |
|
|
Cr3+: Be3Al2(SiO3)6 (изумруд) |
729 ... 809 685 |
+ |
+ |
0.32 |
Кг+-лазер Лампа |
Cr3+: ZnWO4 |
980 ... 1050 |
|
+ |
|
Кг+-лазер |
