Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
Глава 3. Элементы физики полупроводников.doc
Скачиваний:
7
Добавлен:
01.07.2025
Размер:
4 Мб
Скачать
☆

Концентрация носителей и зонная модель поверхности полупроводника

Ниже представлены соотношения для границы раздела вакуум-полупроводник, связывающие пространственный заряд (отнесенный к единице площади поверхности) и электрическое поле. Эти соотношения использованы в разделе 9.5.3. для расчета вольт-фарадных характеристик идеальных МДП-структур.

Рисунок 3.24 - Зонная диаграмма приповерхностной области полупроводника p-типа. Потенциал ψ определен по отношению к объему подложки (ψ = 0 в ее электронейтральной части) и отсчитывается от собственного уровня Ei . Изгибу зон на рисунке соответствует положительный знак поверхностного потенциала ψs. В режиме аккумуляции ψs < 0, в режиме обеднения ψB > ψs > 0 и при инверсии ψs > ψB

На рисунке 3.24 приведена зонная диаграмма приповерхностной области полупроводника p-типа идеальной МДП-структуры. В этой области электростатический потенциал ψ изменяется от значения на поверхности ψs до потенциала электронейтральной области полупроводника ψ = 0, выбранного за точку отсчета. Зависимость концентраций электронов и дырок от потенциала ψ определяется соотношениями [10]

; (3.47)

, (3.48)

где np0 и pp0 – равновесные плотности электронов и дырок в объеме полупроводника . Потенциал ψ положителен, если зоны изогнуты вниз (рисунок 3.24). Соответствующие поверхностные концентрации определяются соотношениями

;

. (3.49)

Характерные интервалы изменения поверхностного потенциала можно определить следующим образом:

ψs < 0 – аккумуляция дырок (зоны изогнуты вверх);

ψs = 0 – состояние плоских зон;

ψB > ψs > 0 – режим обеднения (зоны изогнуты вниз);

ψs = ψB – ns = ps = ni (ni – собственная концентрация);

ψs > ψB – режим инверсии (накопление у поверхности неосновных носителей (электронов), зоны изогнуты вниз).

Зависимость потенциала ψ от расстояния до границы раздела x можно получить с помощью одномерного уравнения Пуассона

. (3.50)

В выражении (3.50) ε – относительная диэлектрическая проницаемость полу-проводника, а ρ(x) – плотность полного объемного заряда:

,

где и – концентрации ионизированных доноров и акцепторов соответственно. Отметим, что в объеме полупроводника вдали от поверхности выполняется условие электронейтральности, то есть ρ(x) = 0 при ψ = 0, а

.

В общем случае, согласно выражениям (3.47) и (3.48), для всех значений ψ имеем

.

В результате вместо уравнения (3.50) получим

. (3.51)

Интегрирование уравнения (3.51)

дает соотношение, связывающее электрическое поле и потенциал ψ:

. (3.52)

Для сокращения записи последующих формул обозначим

(3.53)

и введем так называемую дебаевскую длину дырок

.

Тогда электрическое поле

.

В этом выражении знак + нужно использовать при ψ > 0, а знак – при ψ < 0. Величину поверхностного электрического поля получим, подставив в выражение (3.54) ψ = ψs :

.

По закону Гаусса объемный заряд, отнесенный к единице площади границы раздела, индуцировавший это поле, составляет

.

Чтобы определить избыточные поверхностные плотности электронов Δn и дырок Δp при данном значении поверхностного потенциала ψs , необходимо вычислить следующие интегралы:

[см–2]; (3.55)

[см–2]. (3.56)

Типичная зависимость полного заряда Qs от поверхностного потенциала ψs показана на рисунке 3.25. Она рассчитана для МДП-структуры на кремниевой подложке p-типа с см–3 при комнатной температуре. При отрицательных ψs заряд Qs положителен, что отвечает аккумуляции дырок на поверхности. В этом случае в выражении (3.53) доминирует первое слагаемое, так что . В состоянии плоских зон ψs = 0 и Qs = 0. В режиме обеднения ψB > ψs > 0, а заряд Qs отрицателен. При этом в выражении (3.53) доминирует второе слагаемое, так что . При сильной инверсии ψs >> ψB главным в выражении (3.53) является четвертое слагаемое, и в этом случае . Сильная инверсия наступает при поверхностном потенциале

, (3.57)

когда поверхностная концентрация неосновных носителей (электронов) становится равной исходной концентрации основных носителей pp0.

Рисунок 3.25 - Зависимость плотности поверхностного заряда в полупроводнике от поверхностного потенциала для кремния p-типа, NA = 1014 см–3