- •Глава 3. Элементы физики полупроводников
- •3.1. Классификация материалов твердотельной электроники
- •3.2. Элементы зонной теории твердого тела
- •3.3. Генерация и рекомбинация носителей заряда
- •3.4. Равновесная концентрация носителей заряда в полупроводнике
- •3.5. Собственный и примесный полупроводники
- •3.6. Время жизни неравновесных носителей заряда
- •3.7. Токи в полупроводниках
- •Диффузия носителей заряда
- •Уравнения токов
- •3.8. Эффекты сильных электрических полей
- •Междолинный переход носителей заряда
- •3.9. Оптические и фотоэлектрические свойства полупроводников
- •Люминесценция
- •3.10. Элементы физики поверхности полупроводника
- •3.10.1. Поверхностные уровни и поверхностная рекомбинация
- •Поверхностная рекомбинация
- •3.10.2. Концентрация носителей и область пространственного заряда на поверхности
- •Концентрация носителей и зонная модель поверхности полупроводника
- •Поверхностная проводимость, эффект поля в полупроводнике
- •3.11. Фундаментальные уравнения физики полупроводников
- •Контрольные вопросы
Концентрация носителей и зонная модель поверхности полупроводника
Ниже представлены соотношения для границы раздела вакуум-полупроводник, связывающие пространственный заряд (отнесенный к единице площади поверхности) и электрическое поле. Эти соотношения использованы в разделе 9.5.3. для расчета вольт-фарадных характеристик идеальных МДП-структур.
Рисунок 3.24 - Зонная диаграмма приповерхностной области полупроводника p-типа. Потенциал ψ определен по отношению к объему подложки (ψ = 0 в ее электронейтральной части) и отсчитывается от собственного уровня Ei . Изгибу зон на рисунке соответствует положительный знак поверхностного потенциала ψs. В режиме аккумуляции ψs < 0, в режиме обеднения ψB > ψs > 0 и при инверсии ψs > ψB
На рисунке 3.24 приведена зонная диаграмма приповерхностной области полупроводника p-типа идеальной МДП-структуры. В этой области электростатический потенциал ψ изменяется от значения на поверхности ψs до потенциала электронейтральной области полупроводника ψ = 0, выбранного за точку отсчета. Зависимость концентраций электронов и дырок от потенциала ψ определяется соотношениями [10]
;
(3.47)
,
(3.48)
где np0
и pp0
– равновесные плотности электронов и
дырок в объеме полупроводника
.
Потенциал ψ
положителен, если зоны изогнуты вниз
(рисунок 3.24). Соответствующие поверхностные
концентрации определяются соотношениями
;
.
(3.49)
Характерные интервалы изменения поверхностного потенциала можно определить следующим образом:
ψs < 0 – аккумуляция дырок (зоны изогнуты вверх);
ψs = 0 – состояние плоских зон;
ψB > ψs > 0 – режим обеднения (зоны изогнуты вниз);
ψs = ψB – ns = ps = ni (ni – собственная концентрация);
ψs > ψB – режим инверсии (накопление у поверхности неосновных носителей (электронов), зоны изогнуты вниз).
Зависимость потенциала ψ от расстояния до границы раздела x можно получить с помощью одномерного уравнения Пуассона
.
(3.50)
В выражении (3.50) ε – относительная диэлектрическая проницаемость полу-проводника, а ρ(x) – плотность полного объемного заряда:
,
где
и
– концентрации ионизированных доноров
и акцепторов соответственно. Отметим,
что в объеме полупроводника вдали от
поверхности выполняется условие
электронейтральности, то есть ρ(x)
= 0 при ψ
= 0, а
.
В общем случае, согласно выражениям (3.47) и (3.48), для всех значений ψ имеем
.
В результате вместо уравнения (3.50) получим
.
(3.51)
Интегрирование уравнения (3.51)
дает соотношение,
связывающее электрическое поле
и потенциал ψ:
.
(3.52)
Для сокращения записи последующих формул обозначим
(3.53)
и введем так называемую дебаевскую длину дырок
.
Тогда электрическое поле
.
В этом выражении знак + нужно использовать при ψ > 0, а знак – при ψ < 0. Величину поверхностного электрического поля получим, подставив в выражение (3.54) ψ = ψs :
.
По закону Гаусса объемный заряд, отнесенный к единице площади границы раздела, индуцировавший это поле, составляет
.
Чтобы определить избыточные поверхностные плотности электронов Δn и дырок Δp при данном значении поверхностного потенциала ψs , необходимо вычислить следующие интегралы:
[см–2];
(3.55)
[см–2].
(3.56)
Типичная зависимость
полного заряда Qs
от поверхностного потенциала ψs
показана на рисунке 3.25. Она рассчитана
для МДП-структуры на кремниевой подложке
p-типа
с
см–3
при комнатной температуре. При
отрицательных ψs
заряд Qs
положителен, что отвечает аккумуляции
дырок на поверхности. В этом случае в
выражении (3.53) доминирует первое
слагаемое, так что
.
В состоянии плоских зон ψs
= 0 и Qs
= 0. В режиме обеднения ψB
> ψs
> 0, а заряд Qs
отрицателен. При этом в выражении (3.53)
доминирует второе слагаемое, так что
.
При сильной инверсии ψs
>> ψB
главным в выражении (3.53) является
четвертое слагаемое, и в этом случае
.
Сильная инверсия наступает при
поверхностном потенциале
,
(3.57)
когда поверхностная концентрация неосновных носителей (электронов) становится равной исходной концентрации основных носителей pp0.
Рисунок 3.25 - Зависимость плотности поверхностного заряда в полупроводнике от поверхностного потенциала для кремния p-типа, NA = 1014 см–3
