- •Глава 3. Элементы физики полупроводников
- •3.1. Классификация материалов твердотельной электроники
- •3.2. Элементы зонной теории твердого тела
- •3.3. Генерация и рекомбинация носителей заряда
- •3.4. Равновесная концентрация носителей заряда в полупроводнике
- •3.5. Собственный и примесный полупроводники
- •3.6. Время жизни неравновесных носителей заряда
- •3.7. Токи в полупроводниках
- •Диффузия носителей заряда
- •Уравнения токов
- •3.8. Эффекты сильных электрических полей
- •Междолинный переход носителей заряда
- •3.9. Оптические и фотоэлектрические свойства полупроводников
- •Люминесценция
- •3.10. Элементы физики поверхности полупроводника
- •3.10.1. Поверхностные уровни и поверхностная рекомбинация
- •Поверхностная рекомбинация
- •3.10.2. Концентрация носителей и область пространственного заряда на поверхности
- •Концентрация носителей и зонная модель поверхности полупроводника
- •Поверхностная проводимость, эффект поля в полупроводнике
- •3.11. Фундаментальные уравнения физики полупроводников
- •Контрольные вопросы
3.7. Токи в полупроводниках
Процесс переноса зарядов может наблюдаться в полупроводниках при наличии электронов в зоне проводимости и при неполном заполнении электронами валентной зоны. При выполнении этих условий и в отсутствие градиента температуры перенос носителей зарядов может происходить либо под действием электрического поля, либо под действием градиента концентрации носителей заряда.
Дрейф носителей заряда
Направленное движение носителей заряда под действием электрического поля называют дрейфом. Электроны, получая ускорение в электрическом поле, приобретают на длине свободного пробега дополнительную энергию около 10–8-10–4 эВ. При этом электроны переходят на более высокие энергетические уровни (разница в энергиях между соседними энергетическими уровнями в разрешенной зоне около 10–22 эВ). При очередном соударении электрона с атомом кристаллической решетки электрон отдает кристаллической решетке накопленную на длине свободного пробега энергию, возвращаясь на один из низко лежащих энергетических уровней в разрешенной зоне. Так можно представить процесс электропроводности в результате движения электронов в зоне проводимости и в валентной зоне. Однако, учитывая почти полное заполнение электронами энергетических уровней валентной зоны, удобнее рассматривать в валентной зоне движение дырок: дырки, двигаясь по направлению вектора электрического поля и приобретая в этом поле дополнительную энергию, переходят по энергетической диаграмме на более низкие энергетические уровни.
В результате дрейфа электронов в полупроводнике появляется электронная составляющая плотности дрейфового тока. На основании законов Ома:
,
(3.27)
где σn – удельная проводимость полупроводника (любого материала) при одном виде имеющихся в нем носителей заряда – электронов; μn – подвижность электронов, т. е. величина, численно равная средней скорости их направленного движения в электрическом поле с напряженностью, равной единице.
Аналогично, дырочная составляющая плотности дрейфового тока
.
(3.28)
Знаки в правых частях соотношений (3.27) и (3.28) одинаковые, так как заряды электронов и дырок различны по знаку и движутся в электрическом поле в разные стороны.
Полная плотность дрейфового тока при наличии свободных электронов и дырок равна сумме электронной и дырочной составляющих:
,
(3.29)
где
–
удельная проводимость полупроводника
(любого материала) с учетом свободных
электронов и дырок.
Диффузия носителей заряда
Поведение свободных электронов и дырок в полупроводнике напоминает поведение молекул газа. Эту аналогию можно распространить и на явления, происходящие в результате неравномерного распределения концентрации носителей заряда в объеме полупроводника в отсутствие градиента температуры. В этом случае происходит диффузия — движение носителей заряда из-за градиента концентрации, выравнивание концентрации носителей по полупроводнику.
Из молекулярной физики известно, что поток частиц при диффузии (число частиц, пересекающих в единицу времени единичную площадку, перпендикулярную направлению градиента концентрации) пропорционален градиенту концентрации этих частиц:
Фn = –Dn grad n , (3.30)
где Dn — коэффициент диффузии, равный абсолютному значению отношения плотности потока частиц к градиенту их концентрации.
Вектор градиента концентрации направлен в сторону возрастания аргумента, а частицы диффундируют туда, где их меньше, т. е. против градиента концентрации. Поэтому знаки перед правой и левой частями соотношения (3.30) различны.
Остановимся на процессе диффузии электронов и дырок в полупроводниках, т. е. на диффузии заряженных частиц (или квазичастиц). Так как всякое направленное движение одноименно заряженных частиц есть электрический ток, то плотность электронной составляющей диффузионного тока может быть получена путем умножения правой части (3.30) на элементарный заряд электрона. Электроны диффундируют против вектора градиента концентрации и имеют отрицательный заряд. Поэтому направление вектора плотности диффузионного тока электронов должно совпадать с направлением вектора градиента концентрации электронов, т.е.
.
(3.31)
Аналогично, плотность дырочной составляющей диффузионного тока
.
(3.32)
Заряд дырок положителен, поэтому направление вектора плотности диффузионного тока дырок должно совпадать с направлением их диффузии, т. е. должно быть противоположным направлению вектора градиента концентрации дырок. Следовательно, в правой части соотношения (3.32) должен сохраниться знак минус.
Следует отметить, что избыточная концентрация неосновных носителей заряда за время релаксации Максвелла нейтрализуются основными. Поэтому в начальный момент диффундируют квазинейтральные пары электрон и дырка и устанавливаются одинаковые распределения носителей заряда Δр(х) = Δn(х). На малых уровнях возбуждения (для электронного полупроводника Δр << nn) сохраняется электронейтральность.
Одновременно с процессом диффузии неравновесных носителей происходит процесс их рекомбинации, что приводит к уменьшению концентрации в направлении от места источника этой избыточной концентрации носителей. Расстояние, на котором при одномерной диффузии в полупроводнике без электрического поля в нем избыточная концентрация носителей заряда уменьшается вследствие рекомбинации в е раз, называют диффузионной длиной (L). Иначе говоря, это расстояние, на которое носитель диффундирует за время жизни. Таким образом, диффузионная длина связана со временем жизни носителей соотношениями:
;
,
(3.33)
где Dn и Dp – коэффициенты диффузии электронов и дырок.
В свою очередь, коэффициенты диффузии связаны с подвижностью носителей заряда соотношениями Эйнштейна:
;
.
(3.34)
Не следует путать диффузионную длину с длиной свободного пробега носителей заряда, которая определяется как среднее расстояние, проходимое носителем между двумя последовательными актами рассеяния.
Как следует из (3.27) и (3.31), (3.34), перенос носителей с помощью дрейфа и диффузии определяется подвижностью.
При малых
электрических полях дрейфовая скорость
носителей Vd
пропорциональна напряженности
электрического поля
:
.
Коэффициент пропорциональности есть подвижность μ [см2∙В–1∙с–1]. В неполярных полупроводниках таких, как Ge и Si, основными механизмами, определяющими подвижность носителей, являются рассеяние на акустичесуих фононах и рассеяние на ионизированных примесных атомах. Значения подвижности, определяемой рассеянием на акустических фононах, уменьшаются с ростом температуры и при увеличении эффективной массы носителя заряда
.
Подвижность, обусловленная рассеянием на ионизированных примесях, также уменьшается с ростом эффективной массы, но увеличивается с ростом температуры
.
Результирующая подвижность может быть представлена в виде:
.
Рисунок 3.7 - Дрейфовая подвижность в Ge, Si и GaAs при T = 300 К в зависимости
от концентрации легирующей примеси
В полярных полупроводниках, таких, как GaAs, определяющую роль играет рассеяние на оптических фононах. В этом случае
.
Кроме названных выше механизмов, влияющих на подвижность носителей, следует отметить междолинное рассеяние, когда электрон при рассеянии переходит из одного энергетического минимума в другой, испуская или поглощая при этом соответствующий коротковолновый фонон (рисунок 3.13).
На рисунке 3.7 приведены экспериментальные зависимости подвижности в Ge, Si и GaAs при комнатной температуре от концентрации примеси. Видно, что с ростом концентрации примеси (при комнатной температуре бóльшая часть примесных атомов ионизирована) подвижность уменьшается. Поскольку при увеличении эффективной массы m* подвижность уменьшается, в этих важнейших полупроводниковых материалах при той же концентрации примеси электронная подвижность больше дырочной.
Рисунок 3.8 - Температурная зависимость подвижности электронов и дырок в Si
На рисунке 3.8
приведены температурные зависимости
подвижности в кремниевых образцах n-
и p-типа
с различной концентрацией примеси. При
малых концентрациях примесных атомов
подвижность действительно уменьшается
с ростом температуры. Однако показатель
степени экспериментальной зависимости
отличается от теоретического значения
,
что, вероятно, обусловлено влиянием
дополнительных механизмов рассеяния.
В чистых материалах в области комнатных
температур подвижность изменяется по
закону Т–1,66
и Т–2,33
для n-
и p-германия;
Т–2,42
и Т–2,20
для n-
и p-кремния;
Т–1,0
и Т–2,1
для n-
и p-GaAs
соответственно.
Для пояснения физического смысла диффузионных токов рассмотрим случай инжекции неосновных носителей заряда в полупроводник n-типа (рисунок 3.9).
Рисунок 3.9 - Схематическое отображение диффузии дырок (а); распределение неравновесных носителей заряда (б); распределение дырочного диффузионного jpD и дрейфового электронного jnE токов (в)
При инжекции дырок в n-полупроводник возникает нескомпенсированный положительный заряд qΔp, который за счет кулоновского взаимодействия нейтрализуется электронами из источника практически мгновенно за время релаксации Максвелла.
τm = εεoρ = 10–12 c; для ρ = 1 Ом·см, кремний.
Распределение избыточных электронов Δn(х) квазистационарно и соотвтствует динамическому (движущемуся) заряду дифундирующих дырок
Δn(х)= Δр(х) = Δр(0) ехр(–х/Lp).
Под действием градиента концентрации дырки перемещаются из плоскости инжекции (х = 0) к омическому контакту (х = d). Одновременно происходит рекомбинация (основные носители – электроны проводимости «падают» на дырки в валентной зоне) тем самым замыкая цепь тока: омический контакт – инжектор.
Таким образом, необходимым условием существования диффузионного тока при избыточной концентрации неравновесных носителей заряда является рекомбинация электронно-дырочных пар (рисунок 3.9, б). В случае экстракции неосновных носителей заряда(неравновесная концентрация меньше равновесной) необходимым условием протекания диффузионного тока является генерация электронно-дырочных пар.
В плоскости А диффузионный ток дырок равен полевому току электронов. Результирующий ток в силу непрерывности равен
.
Ток, ограниченный пространственным зарядом (ТОПЗ)
В высокоомных полупроводниках – полуизоляторах возможна монополярная инжекция аналогично эмиссии электронов в вакуум. В этом случае в объеме возникает нескомпенсированная повышенная концентрация подвижных носителей заряда одного знака, т.е. создается объемный заряд. В таких материалах практически все внешнее напряжение падает на базовой области (не на инжекционном барьере), проводимость которой полностью определяется введенными из контакта неравновесными носителями. Однако, в отличие от вакуума в твердом теле носители движутся, постоянно взаимодействуя с решеткой, – длина свободного пробега много меньше расстояния между контактами.
Поскольку объемный заряд создается подвижными носителями, выходящими из одного контакта структуры, с ростом тока эмиссия носителей ограничивается этим объемным зарядом. Поэтому этот ток называют током, ограниченным пространственным зарядом.
Оценим потенциальную зависимость ТОПЗ для простого случая инжекции носителей одного знака, например, электронов, при отсутствии ловушек и собственных носителей заряда в базе. Перенос инжектированных носителей осуществляется электрическим полем.
j = q μn n(x) ε(x).
Напряженность электрического поля определяется уравнением Пуассона. Для данного случая
Подставив qn из первого уравнения во второе и проинтегрировав его при граничном условии x = 0, ε = 0, получим:
.
Полное падение напряжения на толще полупроводника
.
Тогда зависимость плотности тока ТОПЗ от напряжения будет иметь вид:
(3.35)
Такой вид вольтамперной характеристики характерен для любых диодных твердотельных структур, проводимость которых определяется дрейфом неравновесных носителей, вводимых из контакта, в том числе и для p-n переходов на больших уровнях инжекции. ТОПЗ протекает также в короткоканальных полевых транзисторах, МДП–транзисторах и транзисторах со статической индукцией.
