- •Глава 3. Элементы физики полупроводников
- •3.1. Классификация материалов твердотельной электроники
- •3.2. Элементы зонной теории твердого тела
- •3.3. Генерация и рекомбинация носителей заряда
- •3.4. Равновесная концентрация носителей заряда в полупроводнике
- •3.5. Собственный и примесный полупроводники
- •3.6. Время жизни неравновесных носителей заряда
- •3.7. Токи в полупроводниках
- •Диффузия носителей заряда
- •Уравнения токов
- •3.8. Эффекты сильных электрических полей
- •Междолинный переход носителей заряда
- •3.9. Оптические и фотоэлектрические свойства полупроводников
- •Люминесценция
- •3.10. Элементы физики поверхности полупроводника
- •3.10.1. Поверхностные уровни и поверхностная рекомбинация
- •Поверхностная рекомбинация
- •3.10.2. Концентрация носителей и область пространственного заряда на поверхности
- •Концентрация носителей и зонная модель поверхности полупроводника
- •Поверхностная проводимость, эффект поля в полупроводнике
- •3.11. Фундаментальные уравнения физики полупроводников
- •Контрольные вопросы
Уравнения токов
В случае постоянного и переменного смещения при наличии электрического поля и градиента концентрации носителей заряда в полупроводнике будут существовать дрейфовые и диффузионные токи. Поэтому плотность электронного тока с учетом (3.27) и (3.31)
.
(3.36)
Плотность дырочного тока с учетом (3.28) и (3.32)
.
(3.37)
Для расчета плотности полного тока следует сложить его электронную и дырочную составляющие и добавить к ним плотность тока смещения, равную производной по времени от вектора электрической индукции:
.
(3.38)
3.8. Эффекты сильных электрических полей
В сильных электрических полях в полупроводнике могут происходить физические процессы, приводящие к изменению удельной проводимости полупроводника; вольт-амперная характеристика полупроводника перестает подчиняться закону Ома; может изменяться как концентрация носителей заряда, так и их подвижность.
Рассмотрим вначале физические процессы, влияющие на концентрацию носителей заряда [16].
Ударная ионизация
Свободный электрон (или дырка), разгоняясь под действием большой напряженности электрического поля, может приобрести на длине свободного пробега дополнительную энергию, достаточную для ионизации собственного атома полупроводника. Процесс ионизации атомов разогнавшимся в поле носителем заряда называют ударной ионизацией. Ионизацию могут вызывать и дырки, так как движение дырок является лишь способом описания движения совокупности электронов валентной зоны полупроводника.
Количественно процесс ударной ионизации характеризуется коэффициентами ударной ионизации, которые численно равны количеству пар носителей заряда, образуемых первичным носителем на единице пути. По аналогии с теорией электрического разряда в газах, коэффициенты ударной ионизации в полупроводниках обозначают αn и αр. Коэффициенты ударной ионизации очень сильно зависят от напряженности электрического поля. Для практических расчетов часто пользуются эмпирической аппроксимацией
α = A ׀ε ׀m , (3.39)
где т – довольно большой показатель степени, различный для разных материалов (от 5 до 8).
Туннелирование
Сильному электрическому полю в полупроводнике соответствует большой наклон энергетических зон (рисунок 3.10). При этом электроны могут проходить сквозь узкий потенциальный барьер (толщиной Δ) без изменения своей энергии – туннелировать благодаря своим квантово-механическим свойствам. Так как процесс туннелирования происходит вследствие перехода электронов валентной зоны в зону проводимости, то этот процесс можно считать аналогичным автоэлектронной эмиссии или холодной эмиссии электронов из металла.
Рисунок 3.10 - Туннелирование электронов из валентной зоны в зону проводимости при сильном электрическом поле в полупроводнике
Вероятность перехода электронов из валентной зоны в зону проводимости и, наоборот, из зоны проводимости в валентную зону одна и та же. Но переход электронов из валентной зоны преобладает, поскольку их там значительно больше, чем в зоне проводимости. Поэтому концентрация носителей заряда растет при туннелировании.
Туннельный эффект в полупроводниках проявляется при очень больших напряженностях электрического поля: в кремнии – при = 2∙106 В/см, в германии – при = 4∙105 В/см . Напряженности электрического поля, при которых появляется эффект туннелирования различны для разных материалов, так как толщина потенциального барьера (∆) зависит от ширины запрещенной зоны полупроводника при неизменной напряженности электрического поля, т. е. при неизменном наклоне энергетических зон.
Теперь рассмотрим влияние сильного электрического поля на подвижность носителей заряда.
Рассеяние носителей заряда в сильных полях
В слабых электрических полях носители заряда на длине свободного пробега приобретают относительно малую энергию. Поэтому их распределение по энергетическим уровням соответствует распределению при данной температуре кристаллической решетки. Дрейфовые скорости движения носителей заряда в этом случае значительно меньше так называемых тепловых скоростей, т. е. скоростей тепловых хаотических движений. При этом величина подвижности определяется механизмами рассеяния на акустических фононах или на колебаниях решетки (фононное) и ионах примеси (кулоновское). При больших концентрациях носителей заряда возможно рассеяние носителей друг на друге (кулоновское).
В
сильных электрических полях скорость
дрейфа носителей заряда соизмерима с
тепловой скоростью; носители заряда
на длине свободного пробега приобретают
в электрическом поле энергии,
соответствующие кинетическим энергиям
теплового хаотического движения.
При этом распределение носителей заряда
по энергетическим уровням соответствует
большим температурам, чем температура
кристаллической решетки, которая
остается практически неизменной.
Это явление называют иногда разогревом
носителей.
На подвижность носителей явление
разогрева может влиять по-разному.
1. При относительно больших температурах, при которых подвижность носителей заряда определяется в основном процессом рассеяния на тепловых колебаниях атомов кристаллической решетки полупроводника, разогрев носителей заряда электрическим полем приводит к увеличению числа столкновений носителей с оптическими фононами и к насыщению дрейфовой скорости или к уменьшению подвижности при увеличении напряженности электрического поля (рисунок 3.11). Именно это явление надо учитывать в полупроводниковых приборах, если электрические поля превышают значение 103-104 В/см.
2. При относительно малых температурах, при которых подвижность носителей заряда определяется в основном процессом рассеяния на ионизированных примесях, разогрев носителей электрическим полем приводит к уменьшению времени нахождения носителя в поле ионизированной примеси, т. е. к уменьшению рассеяния носителя и, следовательно, к увеличению подвижности. Таким образом, увеличение подвижности с увеличением напряженности электрического поля в полупроводниковых приборах может происходить только при очень низких температурах.
