- •1) Электронная конфигурация внешних оболочек атомов и типы сил связи в твердых телах.
- •2) Структуры важнейших полупроводников - элементов aiv, avi и соединений типов аiiiвv, аiiвvi , аivвvi.
- •3) Симметрия кристаллов.
- •4)Трансляционная симметрия кристаллов.
- •5) Базис и кристаллическая структура.
- •6) Элементарная ячейка.
- •7) Примитивная ячейка.
- •8) Ячейка Вигнера—Зейтца. Решетка Браве.
- •Решетки Бравэ
- •9) Обозначения узлов, направлений и плоскостей в кристалле.
- •10) Обратная решетка, ее свойства.
- •11) Зона Бриллюэна.
- •Характерные точки зоны Бриллюэна
- •Интересные особенности
- •12) Примеси и структурные дефекты в кристаллических и аморфных полупроводниках.
- •13) Химическая природа и электронные свойства примесей.
- •14) Точечные, линейные и двумерные дефекты.
- •Источники и стоки точечных дефектов
- •Комплексы точечных дефектов
- •Одномерные дефекты
- •Двумерные дефекты
- •Трёхмерные дефекты
- •15) Методы выращивания объемных монокристаллов из жидкой фазы
- •16) Методы выращивания эпитаксиальных пленок (эпитаксия из жидкой и газовой фазы).
- •17) Молекулярно-лучевая эпитаксия.
- •18) Металлоорганическая эпитаксия
- •19) Методы легирования полупроводников
- •21) Основные приближения зонной теории.
- •22) Волновая функция электрона в периодическом поле кристалла.
- •23) Зона Бриллюэна.
- •24) Энергетические зоны.
- •25) Эффективная масса.
- •Эффективная масса для некоторых полупроводников
- •26) Плотность состояний.
- •Определение
- •27) Уравнения движения электронов и дырок во внешних полях.
- •28) Искривление энергетических зон в электрическом поле.
- •29) Связь зонной структуры с оптическими свойствами полупроводника.
- •30) Уровни энергии, создаваемые примесными центрами в полупроводниках.
- •31) Доноры и акцепторы.
- •32) Мелкие и глубокие уровни.
- •33) Водородоподобные примесные центры.
- •34) Функция распределения электронов.
- •35) Концентрация электронов и дырок в зонах, эффективная плотность состояний.
- •36) Невырожденный и вырожденный электронный (дырочный) газ.
- •37) Концентрации электронов и дырок на локальных уровнях.
- •38) Положение уровня Ферми и равновесная концентрация электронов и дырок в собственных и примесных (некомпенсированных и компенсированных) полупроводниках.
- •39) Многозарядные примесные центры.
- •40) Проводимость, постоянная Холла и термо-эдс. По характеру проводимости. Собственная проводимость
- •Примесная проводимость
- •Полупроводник p-типа
- •41) Дрейфовая скорость, дрейфовая и холловская подвижности, фактор Холла.
- •42) Дрейфовый и диффузионный ток.
- •43) Соотношение Эйнштейна.
- •44) Механизмы рассеяния носителей заряда в неидеальной решетке.
- •45) Взаимодействие носителей заряда с акустическими и оптическими фононами.
- •46) Рассеяние носителей заряда на заряженных и нейтральных примесях.
- •47) Генерация и рекомбинация неравновесных носителей заряда.
- •48)Уравнение кинетики рекомбинации.
- •49) Времена жизни.
- •50) Фотопроводимость.
- •51) Механизмы рекомбинации.
- •52) Излучательная и безызлучательная рекомбинация.
- •53) Межзонная рекомбинация.
- •54) Рекомбинация через уровни примесей и дефектов.
- •55) Центры прилипания.
- •57) Схема энергетических зон в контакте металл-полупроводник.
- •58) Обогащенные, обедненные и инверсионные слои пространственного заряда вблизи контакта.
- •59) Вольт-амперная характеристика барьера Шоттки.
- •60) Энергетическая диаграмма р-п перехода.
- •61) Инжекция неосновных носителей заряда в р-п переходе.
- •62) Гетеропереходы.
- •63) Энергетические диаграммы гетеропереходов.
- •64) Поверхностные состояния и поверхностные зоны.
- •Природа поверхностных состояний
- •Состояния Тамма
- •Состояния Шокли
- •Поверхностные состояния, обусловленные дефектами кристаллической решётки на поверхности
- •Пс примесного типа
- •Пс в слоистых структурах
- •Энергетический спектр пс
- •Зоны пс
- •Двумерные зоны
- •Одномерные зоны
- •Типы пс по времени релаксации
- •65) Искривление зон, распределение заряда и потенциала вблизи поверхности.
- •66) Поверхностная рекомбинация.
- •67) Межзонные переходы.
- •68) Край собственного поглощения в случае прямых и непрямых, разрешенных и запрещенных переходов.
- •69) Экситонное поглощение и излучение.
- •70) Спонтанное и вынужденное излучение.
- •Применение
- •Последние открытия
- •71) Поглощение света на свободных носителях заряда.
- •72) Поглощение света на колебаниях решетки.
- •73) Влияние примесей на оптические свойства.
- •77) Эффект Бурштейна-Мосса.
- •74) Примесная структура оптических спектров вблизи края собственного поглощения в прямозонных и непрямозонных полупроводниках.
- •75) Межпримесная излучательная рекомбинация.
- •76) Экситоны, связанные на примесных центрах.
- •78) Примесная и собственная фотопроводимость.
- •79) Влияние прилипания неравновесных носителей заряда на фотопроводимость.
- •4. В общем случае центры прилипания сложным образом изменяют как кинетику, так и стационарную величину фп.
- •80) Оптическая перезарядка локальных уровней и связанные с ней эффекты.
- •81) Термостимулированная проводимость.
- •82) Фотоэлектромагнитный эффект
- •83) Аморфные и стеклообразные полупроводники.
- •84) Структура атомной матрицы некристаллических полупроводников
- •85) Идеальное стекло.
- •86) Гидрированные аморфные полупроводники
- •87) Особенности электронного энергетического спектра неупорядоченных полупроводников
- •88) Плотность состояний
- •89) Локализация электронных состояний
- •90) Щель подвижности
- •91) Легирование некристаллических полупроводников
- •103) Вольтамперная характеристика р-п перехода.
- •104) Приборы с использованием р-п переходов.
- •105) Туннельный диод.
- •106) Диод Ганна.
- •107) Биполярный транзистор.
- •108) Тиристор.
- •109) Энергетическая диаграмма структуры металл-диэлектрик-полупроводник (мдп).
- •110) Полевые транзисторы на мдп-структурах.
- •111) Приборы с зарядовой связью.
- •112)Фотоэлементы и фотодиоды.
- •113) Спектральная чувствительность и обнаружительная способность.
- •114) Полупроводниковые детекторы ядерных излучений.
- •115)Фотоэлектрические преобразователи, кпд преобразования.
- •117) Инжекционные лазеры на основе двойной гетероструктуры.
- •118) Использование наноструктур в полупроводниковых приборах.
- •119) Гетеротранзистор с двумерным электронным газом (немт).
- •120) Гетеролазеры на основе структур с квантовыми ямами и квантовыми точками.
- •121) Резонансное туннелирование в двухбарьерной гетероструктуре и резонансно-туннельный диод.
- •122) Оптический модулятор на основе квантово-размерного эффекта Штарка.
79) Влияние прилипания неравновесных носителей заряда на фотопроводимость.
Помимо спектральной чувствительности, важной характеристикой фотопроводника является его инерционность, определяемая обычно постоянной времени. За постоянную времени принимают время, прошедшее с момента выключения возбуждающего излучения, в течение которого фототок уменьшается в определенное число раз (чаще всего в e раз).
Рис. 5 Схема процессов рекомбинации и прилипания в фотопроводнике |
Инерционность фотопроводимости связана с процессами рекомбинации и «прилипания» носителей электрического заряда, возбужденных светом (фотоносителей). Электрон, попавший в зону проводимости, может пребывать в этом состоянии лишь ограниченное время, равное в среднем так называемому времени жизни свободных носителей. По истечении этого времени электрон рекомбинирует с дыркой либо непосредственно (переход 1рис. 5), либо через примесный центр (переход 2). Однако свободный электрон может перейти в связанное состояние также благодаря захвату его примесным центром с малой энергией активации (переход 3 на рис. 5). |
Захваченный таким центром (прилипший) электрон обладает очень малой вероятностью рекомбинации с дыркой и значительной вероятностью теплового возбуждения в зону проводимости. Освобожденный из ловушки электрон вновь может принимать участие в процессе проводимости. Нетрудно заметить, что процессы, связанные с прилипанием, более инерционны, чем рекомбинационные. Не будучи прямо связано с рекомбинацией, прилипание почти не влияет на время жизни фотоносителей, что позволяет при анализе кинетики фотопроводимости считать эти два процесса независимыми.
Не влияя на время жизни электронов, прилипание, тем не менее, увеличивает длительность переходных процессов фотопроводимости и, следовательно, увеличивает временную постоянную нарастания или спада фототока. В некоторых случаях можно избавиться от влияния ловушек на кинетику фотопроводимости, заполнив их носителями заряда. Поскольку ловушки (уровни прилипания) черпают носители заряда из зоны проводимости, то для заполнения ловушек необходимо повысить концентрацию носителей в зоне проводимости. Это достигается обычно подсветкой образца дополнительным источником света. Из только что сказанного следует, что при высоких интенсивностях света постоянная времени процесса фотопроводимости убывает,стремясь к времени жизни.
Для сравнения укажем, что у фотопроводника,имеющего при высоких интенсивностях света постоянную времени порядка миллисекунд, при малых освещенностях, близких к полной темноте, постоянная времени может достигать нескольких часов. Существующие фотосопротивления работают как при постоянном освещении, так и в режиме модулированного светового потока с частотой модуляции до 10кгц с постоянными времени, лежащими в пределах сек 102 105 . Поэтому для практического использования фотосопротивлений важно знать частотную зависимость фотопроводимости (фототока). Фоторезисторы с наибольшей чувствительностью не являются, однако,
лучшими по инерционным свойствам. Так, очень чувствительные фоторезисторы из сернистого кадмия имеют довольно большую постоянную времени порядка сек 10-2 10-3 . В то же время фоторезисторы из сернистого свинца при гораздо меньшей чувствительности обладают значительно меньшей инерционностью (постоянная времени порядка сек 10-5 ) и, следовательно, могут работать при значительно более высокой частоте модуляции светового потока.
2. Центры прилипания обмениваются носителями заряда только с одной зоной, например, центры прилипания для электронов захватывают электроны из зоны проводимости и выбрасывают их обратно в зону до того, как центр успевает захватить дырку. Напротив, центр рекомбинации захватывает электрон и затем захватывает дырку до того, как успевает произойти обратный тепловой выброс электрона в зону проводимости.
3. Влияние прилипания неравновесных носителей заряда на фотопроводимость легко понять в случае, когда ФП определяется одним типом носителей заряда (например, электронами), а рекомбинация электронов и дырок происходит через центры рекомбинации, концентрация которых велика и на заполнение которых освещение влияет слабо. Тогда добавление центров прилипания не изменяет величину стационарной фотопроводимости, поскольку эта величина определяется равенством темпа генерации и темпа рекомбинации, на которые прилипание не влияет. Однако центры прилипания существенно изменяют (замедляют!) кинетику нарастания и спада ФП при включении и выключении света, соответственно. Действительно, при включении света часть фоторожденных электронов захватывается на центры прилипания, поэтому требуется больше времени для достижения стационарного значения ФП. Другими словами, прилипание уменьшает эффективный квантовый выход ФП, который можно определить по наклону начального (линейного) участка роста фотопроводимости. При наличии центров прилипания кинетика спада ФП при выключении света также оказывается более медленной. Кинетика замедляется процессом выброса электронов, накопленных на центрах прилипания. Наиболее ясно этот вопрос изложен в книге Рывкина [21].
